JPS62218565A - 真空蒸着メツキにおけるシ−ル方法 - Google Patents
真空蒸着メツキにおけるシ−ル方法Info
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- JPS62218565A JPS62218565A JP5943086A JP5943086A JPS62218565A JP S62218565 A JPS62218565 A JP S62218565A JP 5943086 A JP5943086 A JP 5943086A JP 5943086 A JP5943086 A JP 5943086A JP S62218565 A JPS62218565 A JP S62218565A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は真空蒸着メッキにおける真空室のシール方法に
関し、更に詳しくは真空室でのシールロールによる鋼帯
表面のロール疵等の発生を防止したシール方法に関する
。
関し、更に詳しくは真空室でのシールロールによる鋼帯
表面のロール疵等の発生を防止したシール方法に関する
。
〈従来技術とその問題点〉
連続式真空蒸着メッキは蒸着室に鋼帯を導き、メッキ金
属を加熱蒸発させて鋼帯表面に蒸着させることによりメ
ッキ層を形成するものであり、蒸着雰囲気の影響を出来
るだけ少なくシ、かつ走行する鋼帯表面に連続的に金属
を蒸着するために、蒸着室を真空にする必要がある。こ
のため、前処理炉出側から蒸着室までを適当な数の真空
室に区画して大気圧から蒸着室までの圧力勾配を形成す
る真空シール室を設けている。また同様の真空シール室
が蒸着室の出側にも設置されており、それぞれ蒸着室の
入側と出側の真空を確保している。上記真空シール室は
、鋼帯を挟む上下のシールロール、シールバー、および
ケーシングとから構成されており、シールロールとシー
ルバーの間およびシールロール側面とケーシングとの間
の間隙を小くすることにより流入しようとする気体の流
動抵抗を大きくしてシール効果を達成している。また上
下のシールロールは鋼帯板厚の変化に対応出来るよう上
下動自在に設置されている。
属を加熱蒸発させて鋼帯表面に蒸着させることによりメ
ッキ層を形成するものであり、蒸着雰囲気の影響を出来
るだけ少なくシ、かつ走行する鋼帯表面に連続的に金属
を蒸着するために、蒸着室を真空にする必要がある。こ
のため、前処理炉出側から蒸着室までを適当な数の真空
室に区画して大気圧から蒸着室までの圧力勾配を形成す
る真空シール室を設けている。また同様の真空シール室
が蒸着室の出側にも設置されており、それぞれ蒸着室の
入側と出側の真空を確保している。上記真空シール室は
、鋼帯を挟む上下のシールロール、シールバー、および
ケーシングとから構成されており、シールロールとシー
ルバーの間およびシールロール側面とケーシングとの間
の間隙を小くすることにより流入しようとする気体の流
動抵抗を大きくしてシール効果を達成している。また上
下のシールロールは鋼帯板厚の変化に対応出来るよう上
下動自在に設置されている。
ところで、従来提案されている上記真空シール室の構成
はシール効果を高めるために上下のシールロールで鋼帯
をピンチしており、鋼帯表面にシールロールが圧接する
ので該表面にロール疵等が生じ易い問題があった。
はシール効果を高めるために上下のシールロールで鋼帯
をピンチしており、鋼帯表面にシールロールが圧接する
ので該表面にロール疵等が生じ易い問題があった。
」−記ロール疵等を防止するには鋼帯をガス等でフロー
テングすることが考えられるが、真空圧力部分であるの
で実施し難い。
テングすることが考えられるが、真空圧力部分であるの
で実施し難い。
く問題解決の手段〉
本発明者は、真空シール室のシールロールが鋼帯表面に
密着していなくても、その間隙が一定量以下であれば、
シール効果を損なわず、しかもシールロールが鋼帯表面
に接触しないのでロール疵等の発生も防止出来ることを
見出した。
密着していなくても、その間隙が一定量以下であれば、
シール効果を損なわず、しかもシールロールが鋼帯表面
に接触しないのでロール疵等の発生も防止出来ることを
見出した。
本発明は上記知見に基〈ものであり、本発明によれば、
真空蒸着室に連設された真空シール室のシールロール間
の間隙を鋼帯厚さより最大0.5mm大きく保ってシー
ルすることを特徴とする真空蒸着メッキにおけるシール
方法が提供される。
真空蒸着室に連設された真空シール室のシールロール間
の間隙を鋼帯厚さより最大0.5mm大きく保ってシー
ルすることを特徴とする真空蒸着メッキにおけるシール
方法が提供される。
またその好適な実施態様として、鋼帯の接続部を予めト
ラッキングし、その検出信号に基いてシールロールの間
隙を制御するシール方法が提供される。
ラッキングし、その検出信号に基いてシールロールの間
隙を制御するシール方法が提供される。
以下、本発明を図面を参照して説明する。
連続式真空蒸着メッキ装置にはいくつかの様式が提案さ
れており、第1図に例示するものは両面メッキを行なえ
るように蒸着室を2室有するものである。該装置には前
処理炉?、ガス冷却室3゜賦圧室4、第1真空シール室
5.第1蒸着室6、中間真空シール室7、第2蒸着室8
、第2真空シール室9、冷却室lOが順次設けられてい
る。
れており、第1図に例示するものは両面メッキを行なえ
るように蒸着室を2室有するものである。該装置には前
処理炉?、ガス冷却室3゜賦圧室4、第1真空シール室
5.第1蒸着室6、中間真空シール室7、第2蒸着室8
、第2真空シール室9、冷却室lOが順次設けられてい
る。
上記各真空シール室5.7.9はその内部が複数段の真
空室に区画されておりこれら各真空室および蒸着室6,
8には夫々排気系11が付設され、内部を所定の真空圧
に保っている。
空室に区画されておりこれら各真空室および蒸着室6,
8には夫々排気系11が付設され、内部を所定の真空圧
に保っている。
上記各真空シール室にはシールロール12が必要個数だ
け鋼帯1を上下に挟んで配置されており、各シールロー
ル12の上下の間隔は鋼帯1の板厚より最大0.5mm
大きく設定されている。
け鋼帯1を上下に挟んで配置されており、各シールロー
ル12の上下の間隔は鋼帯1の板厚より最大0.5mm
大きく設定されている。
該ロール間隔が上記設定値より大きい場合には鋼帯表面
のロール疵等は殆ど生じないが、シール効果が著しく低
下し、所定真空圧を保つのが困難になる。
のロール疵等は殆ど生じないが、シール効果が著しく低
下し、所定真空圧を保つのが困難になる。
シールロールの間隙を制御するにはロール両端のロール
チョックにジヤツキ等の昇降装置を設ければ良い、尚、
シール効果を得るにはシールロールに代えて堰板を用い
ることもできるが鋼帯表面に疵を生じ易いので一般にシ
ールロールが用いられている0本発明は鋼帯表面とシー
ルロールとの間に所定間隙を設けるものであり、従って
その本質からして上記堰板にも適用できる。
チョックにジヤツキ等の昇降装置を設ければ良い、尚、
シール効果を得るにはシールロールに代えて堰板を用い
ることもできるが鋼帯表面に疵を生じ易いので一般にシ
ールロールが用いられている0本発明は鋼帯表面とシー
ルロールとの間に所定間隙を設けるものであり、従って
その本質からして上記堰板にも適用できる。
次に板厚の異なる鋼帯を連続的に蒸着メッキする場合に
は、鋼帯の溶接した接続部をトラッキングし、その検出
信号に応じてシールロールの間隙を調整すれば良い、こ
の制御の一例を第2図に示す0図示するようにプロセス
制御部に予め鋼帯の板厚情報が入力されており、該プロ
セス制御部に更に溶接点のトラッキング情報が入力され
る。トラッキングの方法は既知の手段を用いればよく、
例えば溶接部に小孔を設は搬送方向に複数個設置したセ
ンサーにより該小孔を検出して溶接部の進行を把握する
方法等を用いることが出来る。これらの情報はロール位
置制御部に伝達され、これに基づく制御信号が駆動モー
タ20に伝達される。
は、鋼帯の溶接した接続部をトラッキングし、その検出
信号に応じてシールロールの間隙を調整すれば良い、こ
の制御の一例を第2図に示す0図示するようにプロセス
制御部に予め鋼帯の板厚情報が入力されており、該プロ
セス制御部に更に溶接点のトラッキング情報が入力され
る。トラッキングの方法は既知の手段を用いればよく、
例えば溶接部に小孔を設は搬送方向に複数個設置したセ
ンサーにより該小孔を検出して溶接部の進行を把握する
方法等を用いることが出来る。これらの情報はロール位
置制御部に伝達され、これに基づく制御信号が駆動モー
タ20に伝達される。
駆動モータ20にはジヤツキ21が連結し、シールロー
ル22のロールチョック23が該ジヤツキ21に支持さ
れている。駆動モータ20は制御信号により駆動し、ジ
ヤツキ21を昇降させ、ロールチョック23を1下に移
動してシールロール22の間隙を調整する。ロール位置
の変位量はセンサーにより検出されロール位置制御部に
フィードバックされる。
ル22のロールチョック23が該ジヤツキ21に支持さ
れている。駆動モータ20は制御信号により駆動し、ジ
ヤツキ21を昇降させ、ロールチョック23を1下に移
動してシールロール22の間隙を調整する。ロール位置
の変位量はセンサーにより検出されロール位置制御部に
フィードバックされる。
〈実施例〉
第1図に示す連続式真空蒸着亜鉛メッキ装置により、次
の操業条件下で亜鉛メッキ鋼板を製造した。この結果を
第1表に示す。
の操業条件下で亜鉛メッキ鋼板を製造した。この結果を
第1表に示す。
鋼帯:板厚0.8 +ue、板幅914 ram、の炭
素鋼ライン速度: 100 m/win 付着量: 6〇g7ゴ(両面めっき)第1第2蒸着室
真空度: o、oisτorr第1真空シール室二6
段の真空室 各室の真空度−780,120,54,14,2,0,
5Torr第2真空シール室ニア段の真空室 各室の真空度−0,5,2,14,54,120,35
0゜780 Torr 第1表に示されるように、本発明のシール方法によるも
のは鋼帯表面の疵が少なく、また所定の真空圧力を保持
するための排気系の負担もそれ程大きくはない。ロール
間隙が大き過ぎるものは鋼帯表面の疵は認られないもの
の所定の真空圧力を保持し難い。
素鋼ライン速度: 100 m/win 付着量: 6〇g7ゴ(両面めっき)第1第2蒸着室
真空度: o、oisτorr第1真空シール室二6
段の真空室 各室の真空度−780,120,54,14,2,0,
5Torr第2真空シール室ニア段の真空室 各室の真空度−0,5,2,14,54,120,35
0゜780 Torr 第1表に示されるように、本発明のシール方法によるも
のは鋼帯表面の疵が少なく、また所定の真空圧力を保持
するための排気系の負担もそれ程大きくはない。ロール
間隙が大き過ぎるものは鋼帯表面の疵は認られないもの
の所定の真空圧力を保持し難い。
第1表
(注)真空圧カニ0は良好、Δは板厚と板幅により良好
×は不良 総合評価:Aは良好、Bは可、Cは不可〈発明の効果〉 本発明のシール方法によれば、シールロールが鋼帯表面
に接触しないので鋼帯表面にロール疵等を生じることが
なく、高品質のメッキ鋼板を得ることができる。また蒸
着室の真空度も高く維持され、真空排気系の負担も少な
い。従って真空蒸着メッキのシール方法として最適であ
る。
×は不良 総合評価:Aは良好、Bは可、Cは不可〈発明の効果〉 本発明のシール方法によれば、シールロールが鋼帯表面
に接触しないので鋼帯表面にロール疵等を生じることが
なく、高品質のメッキ鋼板を得ることができる。また蒸
着室の真空度も高く維持され、真空排気系の負担も少な
い。従って真空蒸着メッキのシール方法として最適であ
る。
第1図は本発明に係る連続真空蒸着亜鉛メッキ装置の一
例を示す概略図、第2図は本発明の制御系の一例を示す
説明図である。 図面中、1−鋼帯、2−前処理、炉、3−ガス冷却室、
4−賦圧室、5−第1真空シール室、6−第1蒸着室、
7−中間シール室、8−第2蒸着室、9−第2真空シー
ル室、l〇−冷却室、11−1に鎖糸、2〇−駆動モー
タ、21−ジヤツキ、22−シールロール、23−ロー
ルチョック。
例を示す概略図、第2図は本発明の制御系の一例を示す
説明図である。 図面中、1−鋼帯、2−前処理、炉、3−ガス冷却室、
4−賦圧室、5−第1真空シール室、6−第1蒸着室、
7−中間シール室、8−第2蒸着室、9−第2真空シー
ル室、l〇−冷却室、11−1に鎖糸、2〇−駆動モー
タ、21−ジヤツキ、22−シールロール、23−ロー
ルチョック。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、真空蒸着室に連設された真空シール室のシールロー
ル間の間隙を鋼帯厚さより最大0.5mm大きく保って
シールすることを特徴とする真空蒸着メッキにおけるシ
ール方法。 2、特許請求の範囲第1項の方法であって、鋼帯の接続
部を予めトラッキングし、その検出信号に基いてシール
ロールの間隙を制御するシール方法。 3、蒸着後のシールロール間隙を鋼帯厚さより最大0.
5mm大きく保ってシールする特許請求の範囲第1項の
シール方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5943086A JPS62218565A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 真空蒸着メツキにおけるシ−ル方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5943086A JPS62218565A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 真空蒸着メツキにおけるシ−ル方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62218565A true JPS62218565A (ja) | 1987-09-25 |
| JPH0373636B2 JPH0373636B2 (ja) | 1991-11-22 |
Family
ID=13113042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5943086A Granted JPS62218565A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 真空蒸着メツキにおけるシ−ル方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62218565A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03125062U (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-18 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5622758B2 (ja) * | 2012-02-15 | 2014-11-12 | 日立アプライアンス株式会社 | 冷蔵庫 |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP5943086A patent/JPS62218565A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03125062U (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-18 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0373636B2 (ja) | 1991-11-22 |
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