JPH027394B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH027394B2 JPH027394B2 JP10621782A JP10621782A JPH027394B2 JP H027394 B2 JPH027394 B2 JP H027394B2 JP 10621782 A JP10621782 A JP 10621782A JP 10621782 A JP10621782 A JP 10621782A JP H027394 B2 JPH027394 B2 JP H027394B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steel strip
- width direction
- differential pressure
- chamber
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 24
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 9
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 240000002989 Euphorbia neriifolia Species 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば鋼帯に亜鉛メツキ等を連続し
て施すための真空蒸着装置に関し、特に該鋼帯の
幅方向の温度分布を均一にすることのできる上記
装置に関する。
て施すための真空蒸着装置に関し、特に該鋼帯の
幅方向の温度分布を均一にすることのできる上記
装置に関する。
近年、鋼帯に連続的に亜鉛メツキ皮膜を形成す
る方法として、従来の溶融亜鉛浴法や電気メツキ
法の外に、片面のみのメツキに対する有利性から
真空蒸着メツキ法が研究されている。
る方法として、従来の溶融亜鉛浴法や電気メツキ
法の外に、片面のみのメツキに対する有利性から
真空蒸着メツキ法が研究されている。
第１図は工業的規模の真空蒸着メツキラインの
説明図で、１は鋼帯、１′は素材コイルのアンコ
イラ、２は連続通板に必要な前処理設備で、ウエ
ルダ、シヤ、レベラ、ルーパ、前処理炉等により
構成されている。３，４，５……は隔壁Ｗおよび
シールロールＲにより構成される差圧室で、それ
ぞれ図示省略の真空ポンプにより吸引されて差圧
室３，４，５……の順に圧力が低くなつている。
６は蒸着室で、図示省略の真空ポンプにより吸引
されて通常１トール以下の中高真空雰囲気下に設
定される。７は該蒸着室６内の、鋼帯１通過位置
の下方に設けられるメツキ金属の入つた蒸発ルツ
ボで、鋼帯１の下面が該ルツボ７上を通過する間
にメツキ金属が蒸着される。８，９……は上記し
た差圧室４，５，６……と同じ構成の差圧室で、
８，９……の順に圧力が高くなつている。１０は
後処理設備で、レベラ、ルーパ、シヤ等により構
成されている。１１はメツキ済み鋼帯１のリコイ
ラであり、図中の矢印は鋼帯１の進行方向を示し
ている。
説明図で、１は鋼帯、１′は素材コイルのアンコ
イラ、２は連続通板に必要な前処理設備で、ウエ
ルダ、シヤ、レベラ、ルーパ、前処理炉等により
構成されている。３，４，５……は隔壁Ｗおよび
シールロールＲにより構成される差圧室で、それ
ぞれ図示省略の真空ポンプにより吸引されて差圧
室３，４，５……の順に圧力が低くなつている。
６は蒸着室で、図示省略の真空ポンプにより吸引
されて通常１トール以下の中高真空雰囲気下に設
定される。７は該蒸着室６内の、鋼帯１通過位置
の下方に設けられるメツキ金属の入つた蒸発ルツ
ボで、鋼帯１の下面が該ルツボ７上を通過する間
にメツキ金属が蒸着される。８，９……は上記し
た差圧室４，５，６……と同じ構成の差圧室で、
８，９……の順に圧力が高くなつている。１０は
後処理設備で、レベラ、ルーパ、シヤ等により構
成されている。１１はメツキ済み鋼帯１のリコイ
ラであり、図中の矢印は鋼帯１の進行方向を示し
ている。
ところで、第１図に示すようなメツキラインに
おいては、各差圧室間には圧力差があるため、シ
ールロールＲ部の隙間を通つて高い圧力の室から
低い圧力の室へ雰囲気ガスが流れ、またシールロ
ールＲ部では上下に一対となつたシールロールＲ
間に鋼帯１が挟まれているため、鋼帯１の両端部
の隙間を通つて雰囲気ガスを通つて雰囲気ガスが
流れる。従つて、鋼帯１の両端がガス流によつて
冷却され、鋼金１の幅方向に温度分布が生じる。
幅方向の温度分布があると、蒸着時のメツキむら
の原因となる。
おいては、各差圧室間には圧力差があるため、シ
ールロールＲ部の隙間を通つて高い圧力の室から
低い圧力の室へ雰囲気ガスが流れ、またシールロ
ールＲ部では上下に一対となつたシールロールＲ
間に鋼帯１が挟まれているため、鋼帯１の両端部
の隙間を通つて雰囲気ガスを通つて雰囲気ガスが
流れる。従つて、鋼帯１の両端がガス流によつて
冷却され、鋼金１の幅方向に温度分布が生じる。
幅方向の温度分布があると、蒸着時のメツキむら
の原因となる。
本発明は、このメツキむらの原因となる幅方向
の温度分布を解消するためになされたもので、鋼
帯の真空蒸着室への入側差圧室のうちの少くとも
一つの差圧室内、もしくは真空蒸着室内に電子ビ
ーム加熱装置を鋼帯の幅方向に複数個設けること
により、鋼帯の幅方向の温度分布を均一にするこ
とのできる真空蒸着装置に関するものである。
の温度分布を解消するためになされたもので、鋼
帯の真空蒸着室への入側差圧室のうちの少くとも
一つの差圧室内、もしくは真空蒸着室内に電子ビ
ーム加熱装置を鋼帯の幅方向に複数個設けること
により、鋼帯の幅方向の温度分布を均一にするこ
とのできる真空蒸着装置に関するものである。
以下、添付図面を参照して本発明装置を詳細に
説明する。
説明する。
第２図は本発明装置の一実施態様例を示す図で
ある。
ある。
第２図中、第１図と同一符号は第１図と同一機
能部品を示し、１２が本発明に係る電子ビーム加
熱装置を設けた差圧室であり、該差圧室としては
圧力が１トール程度以下のものが選ばれる。
能部品を示し、１２が本発明に係る電子ビーム加
熱装置を設けた差圧室であり、該差圧室としては
圧力が１トール程度以下のものが選ばれる。
該差圧室１２は、複数個の電子ビームガンを鋼
帯１の幅方向に配置した電子ビーム加熱装置１３
を装備しており、鋼帯１が該差圧室１２を通過す
る間に、個々の電子ビームガンの出力を個別に制
御し、これにより鋼帯１の幅方向の温度を一様と
する。
帯１の幅方向に配置した電子ビーム加熱装置１３
を装備しており、鋼帯１が該差圧室１２を通過す
る間に、個々の電子ビームガンの出力を個別に制
御し、これにより鋼帯１の幅方向の温度を一様と
する。
なお、電子ビーム加熱装置１３は、蒸着室６内
の蒸発ルツボ７の手前に設置してもよい。
の蒸発ルツボ７の手前に設置してもよい。
本発明装置において、電子ビーム加熱装置を設
ける差圧室として圧力が１トール程度以下のもの
を選択する理由、あるいは蒸着室（前記したよう
に圧力は通常１トール以下）に電子ビーム加熱装
置を設ける理由は、次の通りである。
ける差圧室として圧力が１トール程度以下のもの
を選択する理由、あるいは蒸着室（前記したよう
に圧力は通常１トール以下）に電子ビーム加熱装
置を設ける理由は、次の通りである。
すなわち、シールロールＲ部でのガス流による
鋼帯１端部の温度降下は、雰囲気圧力が１トール
以下になると急激に少なくなり、このため圧力が
１トール程度以下の差圧室において鋼帯１の幅方
向の温度分布を均一とすれば、それ以降の差圧室
での鋼帯１端部の温度降下は無視し得るので、幅
方向に均一な温度の鋼帯１を蒸着室へ供給するこ
とができるのである。このことから、蒸着室内の
蒸発ルツボの手前の電子ビーム加熱装置を設けて
おくことが、より好ましいことは言うまでもな
い。
鋼帯１端部の温度降下は、雰囲気圧力が１トール
以下になると急激に少なくなり、このため圧力が
１トール程度以下の差圧室において鋼帯１の幅方
向の温度分布を均一とすれば、それ以降の差圧室
での鋼帯１端部の温度降下は無視し得るので、幅
方向に均一な温度の鋼帯１を蒸着室へ供給するこ
とができるのである。このことから、蒸着室内の
蒸発ルツボの手前の電子ビーム加熱装置を設けて
おくことが、より好ましいことは言うまでもな
い。
第１図は通常の真空蒸着装置を説明するための
図、第２図は本発明装置の一実施態様例を説明す
るための図である。
図、第２図は本発明装置の一実施態様例を説明す
るための図である。
Claims (1)
- １ 真空蒸着室の前後に複数の差圧室をそれぞれ
配置してなる連続真空蒸着装置において、鋼帯の
入側差圧室のうちの少くとも一つの差圧室内、も
しくは蒸着室内に電子ビーム加熱装置を鋼帯の幅
方向に複数個設けたことを特徴とする真空蒸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10621782A JPS58224165A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10621782A JPS58224165A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58224165A JPS58224165A (ja) | 1983-12-26 |
| JPH027394B2 true JPH027394B2 (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=14427976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10621782A Granted JPS58224165A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58224165A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211173U (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-23 | ||
| DE102010028777B4 (de) * | 2010-05-07 | 2013-12-05 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung einer Rückseitenbeschichtung auf einem Substrat |
-
1982
- 1982-06-22 JP JP10621782A patent/JPS58224165A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58224165A (ja) | 1983-12-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4394236A (en) | Magnetron cathode sputtering apparatus | |
| JPS6410592B2 (ja) | ||
| US4655168A (en) | Continuous vacuum deposition apparatus with control panels for regulating width of vapor flow | |
| US4635586A (en) | Setup for producing metallic coatings | |
| DE69815943T2 (de) | Verfahren zum Durchlaufglühen von Metallsubstraten | |
| JPH027394B2 (ja) | ||
| KR940001031B1 (ko) | 진공증착장치 | |
| JPS58100675A (ja) | 連続蒸着方法及びその装置 | |
| JPS58130273A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0635656B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS60116787A (ja) | メツキ方法およびその装置 | |
| JPH0735566B2 (ja) | 連続式真空蒸着装置 | |
| DE3035000C2 (de) | Vorrichtung zum kontinuierlichen Verzinken von kaltgewalztem Stahlband | |
| JPH09143718A (ja) | 連続真空蒸着装置のスプラッシュ監視装置 | |
| JPS6296669A (ja) | 合金化蒸着亜鉛めっき鋼板の製造方法 | |
| JPS6111225Y2 (ja) | ||
| JPH01290755A (ja) | 溶融メッキ鋼板のエッジオーバーコート防止方法 | |
| JPS59197554A (ja) | 連続溶融金属めつきラインにおける異物付着防止設備 | |
| JPH0735567B2 (ja) | 連続式真空蒸着装置 | |
| JPS61281867A (ja) | 連続真空蒸着装置における板温分布制御方法 | |
| JPS634057A (ja) | 合金化蒸着亜鉛メツキ鋼帯の製造方法 | |
| JPH0373636B2 (ja) | ||
| JPH0633458B2 (ja) | 表面外観に優れた蒸着メツキ鋼板の製造方法 | |
| JPH02282478A (ja) | 金属ストリップ等の長尺物の連続イオンプレーティング装置 | |
| JPH09324261A (ja) | 真空蒸着装置とその膜厚制御方法 |