JPS6222006A - 膜厚測定装置 - Google Patents

膜厚測定装置

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Publication number
JPS6222006A
JPS6222006A JP16459985A JP16459985A JPS6222006A JP S6222006 A JPS6222006 A JP S6222006A JP 16459985 A JP16459985 A JP 16459985A JP 16459985 A JP16459985 A JP 16459985A JP S6222006 A JPS6222006 A JP S6222006A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
film thickness
film
wavelength
processing circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP16459985A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiaki Ida
井田 芳明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP16459985A priority Critical patent/JPS6222006A/ja
Publication of JPS6222006A publication Critical patent/JPS6222006A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は例えば磁気テープ等の製造ラインにおける塗
工機の制御、監視を行うための塗膜の膜厚を測定する膜
厚測定装置に関するものである。
〔従来の技術〕
第4図は従来の渦電流式膜厚測定装置の構成図で、(1
)は磁気テープで、ポリエステル等の母材(1a)の上
に磁性体の塗膜(1b)がついている。CIυは検出器
で、コア(lla)に励磁巻線(ltb)を巻き、発振
器四で励磁している。
次に動作について説明する。コア(lla)の開放端間
には励磁の磁界が発生しているが、接近した位置に磁性
体があると励磁インピーダンスが変わる。この変化は磁
性体の時性、サイズ、位置等により変化するため、この
インピーダンスの変化を検出すれば一定特性、一定位置
、一定幅の条件下で磁性体の厚みが検出できることとな
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の膜厚測定装置は被測定膜と検出器との距離を一定
に、しかも接近2通常は接触させなければ感度良く、安
定に測定できず、製造ライン中に組込むことができなか
った。
本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、非接触にしかも、被測定膜の位置が変化しても
影春を受けない膜厚測定装置を提供する。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る膜厚測定装置は、光源と、この光源から
の光を被測定膜に透過させその光を受光する受光器と、
この光路上に設けられ第1及び第2の狭帯域フィルタ部
と遮光部とを有する回転板と、受光器の出力から膜厚を
演算する処理回路とを備えたものである。
〔作用〕
この発明における膜厚測定装置は処理回路が各狭帯域フ
ィルタを透過した光の被測定膜での吸収量を求め、この
吸収量から膜厚を演算する。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は本発明の構成図で、第4図と同一番   0号のも
のは同一のものを示す。(幻は磁気テープ(1)を透過
する波長帯を持つ光源、(3)はレンズ、(4)は受光
器、(5)はA/D変換器、(6)はディジタル処理回
路、(7)はモータ、(8)はモータ(7)の軸に取付
けられた回転板で、その平面凶を第2図に示す。第2図
において、斜線部の(8a)は光を透過させない遮光部
、白い部分の(8b)は第1の狭帯域フィルタ部、ドツ
トを付した部分の(8c)’は前のフィルタ部(8b)
とは波長の異なる第2の狭帯域フィルタ部である。
第1図にもどり、(9)はモータ(7)を駆動するとと
もに、回転板(8)の位置情報をディジタル処理回路(
6)に出力するパルス駆動回路である。第3図は磁気テ
ープ(1)の光の透過率の波長依存性を示す特性図であ
る。
次に動作について説明する。
光源(2)から出た光はレンズ(3)で集光し、磁気テ
ープ(1)を透過させる。この透過光は回転板(8)の
位置により、光かじゃへいされたり、異なる波長の狭帯
域フィルタ(8b)(8c)を透過する。この透過した
光を受光器(4)で光電変換する。ところで磁気テープ
(1)は母材(1a)と塗膜(1b)とで構成さnるが
、母材(1a)はポリエステル等透明な材料であるので
ほぼ100%光が透過し、塗膜(1b)の透過特性は第
2因に示す実線で表わした特性のように波長依存性を持
つ。しかもその特性は膜厚により厚い場合は一点鎖線、
薄い場合は点線のように厚みによりその透過開始波長が
異なる。一方光源(2)等の光強度の変化は透過開始波
長か同じであるが、その傾斜が異なる。従って前記受光
器(4)の出力を異なる波長の透過量を時系列でA/D
変換器(5)でディジタル値に変換し、ディジタル処理
回路(6)で両者の比又は2波長間の透過特性の傾きを
計算し、その透過開始波長を求めることで膜厚に比例し
た出力を安定に得ることができる。ところでモータ(7
)をパルス駆動回路(9ンで駆動するとともに、その情
報をディジタル処理回路(6)に入力することで光が受
光器(4)に入らない時と、狭帯域フィルタ(8b)の
透過光が入っている時及びフィルタ(8c)の透過光が
入っている時の関係がわかり、それぞれ光が入らない時
との差をとり、これを真の値とすることで暗電流の影響
を受けないものとなる。
〔発明の効果〕
以上のように・この発明によれば被測定膜の光の透過率
の波長依存性から膜厚を求めるので、被測定膜の位置が
変化しても、また受光器の暗電流の影響を受けず、正確
に膜厚が測定できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における膜厚測定装置の構成
図、第2図は第1図における回転板の平面図、第3図は
磁気テープの透過率の波長依存性特性図、第4図は従来
の膜厚測定装置の構成図である。 図において、(lb)は被測定膜としての磁性体の塗膜
、(2)は光源、(4)は受光器、(5) (6)は処
理回路としてのそれぞれA/D変換器及びディジタル処
理回路、(8)は回転板、(8a)は遮光部、(8b)
は第1の狭帯域フィルタ部、(8c)は第2の狭帯域フ
ィルタ部である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被測定膜を透過する波長帯の光を出射する光源、
    この光源からの光を上記被測定膜に透過させこの透過し
    た光を受光して光電変換する受光器、第1の波長の光を
    透過させる第1の狭帯域フィルタ部と第2の波長の光を
    透過させる第2の狭帯域フィルタ部と光を透過させない
    遮光部とを周方向に順次配置し回転することによつて上
    記光の通路上に上記各部が順次介在するように構成され
    た回転板、上記受光器の出力から上記両波長における上
    記被測定膜での光の吸収量を求めこの吸収量から被測定
    膜の膜厚を演算する処理回路を備えた膜厚測定装置。
  2. (2)被測定膜を入射光の方向と直角の方向に移動させ
    る構成とし、膜厚を連続的に測定するようにしたことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の膜厚測定装置。
  3. (3)処理回路は受光器の出力をA/D変換するA/D
    変換器とこのA/D変換器の出力をディジタル処理して
    膜厚を演算するディジタル処理回路とからなることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の膜厚
    測定装置。
  4. (4)ディジタル処理回路は各波長の光の透過量の比を
    演算しこれから膜厚を演算することを特徴とする特許請
    求の範囲第3項記載の膜厚測定装置。
  5. (5)ディジタル処理回路は各波長の光の透過量の2波
    長間の傾きからその透過開始波長を演算しこれから膜厚
    を演算することを特徴とする特許請求の範囲第3項記載
    の膜厚測定装置。
  6. (6)ディジタル処理回路は遮光部における値と各狭帯
    域フィルタ部における値との差を使用して演算すること
    を特徴とする特許請求の範囲第4項または第5項記載の
    膜厚測定装置。
JP16459985A 1985-07-23 1985-07-23 膜厚測定装置 Pending JPS6222006A (ja)

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JP16459985A JPS6222006A (ja) 1985-07-23 1985-07-23 膜厚測定装置

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JP16459985A JPS6222006A (ja) 1985-07-23 1985-07-23 膜厚測定装置

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JPS6222006A true JPS6222006A (ja) 1987-01-30

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0749000A3 (en) * 1995-06-16 1998-06-17 International Business Machines Corporation Method and apparatus for color thickness testing

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0749000A3 (en) * 1995-06-16 1998-06-17 International Business Machines Corporation Method and apparatus for color thickness testing

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