JPS629207A - 膜厚測定装置 - Google Patents
膜厚測定装置Info
- Publication number
- JPS629207A JPS629207A JP15036985A JP15036985A JPS629207A JP S629207 A JPS629207 A JP S629207A JP 15036985 A JP15036985 A JP 15036985A JP 15036985 A JP15036985 A JP 15036985A JP S629207 A JPS629207 A JP S629207A
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- film
- film thickness
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えば磁気テープ等の製造ラインにおける塗
工機の制御、監視を行うための塗膜の膜厚を測定する膜
厚測定装置に関するものである。
工機の制御、監視を行うための塗膜の膜厚を測定する膜
厚測定装置に関するものである。
第3図は従来の渦電流式膜厚測定装置の構成図で、(1
)は磁気テープでポリエステル等の母材(1a)の上に
磁性体の塗膜(1b)がついている。αDは検出器で、
コア(11a)に励磁巻線(11b)を巻き、発振器+
1s6゛で励磁している。
)は磁気テープでポリエステル等の母材(1a)の上に
磁性体の塗膜(1b)がついている。αDは検出器で、
コア(11a)に励磁巻線(11b)を巻き、発振器+
1s6゛で励磁している。
次に動作fζついて説明する。コア(11a)の開放端
間には励磁の磁界が発生しているが、接近した位置に磁
性体があると励磁インピーダンスが変わる。
間には励磁の磁界が発生しているが、接近した位置に磁
性体があると励磁インピーダンスが変わる。
この変化は磁性体の特性、サイズ、位置等により変化す
るため、このインピーダンスの変化を検出すれば一定特
性、一定位置、一定巾の条件下で磁性体の厚みが検出で
きることとなる。
るため、このインピーダンスの変化を検出すれば一定特
性、一定位置、一定巾の条件下で磁性体の厚みが検出で
きることとなる。
従来の膜厚測定装置は被測定膜と検出器との距離を一定
Cζ、しかも接近、通常は接触させなければ感度良く、
安定に測定できず、製造ライン中に組込むことができな
かった。
Cζ、しかも接近、通常は接触させなければ感度良く、
安定に測定できず、製造ライン中に組込むことができな
かった。
本発明は上記のような問題点を解消するためCζなされ
たもので、非接触にしかも、被測定膜の位置が変化して
も影響を受けない膜厚測定装置を提供する。
たもので、非接触にしかも、被測定膜の位置が変化して
も影響を受けない膜厚測定装置を提供する。
この発明に係る膜厚測定装置は空間中に直線偏光の光を
出射させ、磁界中におかれた被測定膜を透過する間舒ζ
生じるファラデー効果による偏波面の回転を点滅した光
により検光子で光強度変化として検出するものである。
出射させ、磁界中におかれた被測定膜を透過する間舒ζ
生じるファラデー効果による偏波面の回転を点滅した光
により検光子で光強度変化として検出するものである。
この発明における膜厚測定装置は被測定膜の走行中、−
主交流磁界を被測定膜に対して直角方向にかけ、被測定
膜のファラデー効果による偏波面の回転を光強度変換し
て、しかも受光器に入る光を点滅させて信号処理し膜厚
を演算する。
主交流磁界を被測定膜に対して直角方向にかけ、被測定
膜のファラデー効果による偏波面の回転を光強度変換し
て、しかも受光器に入る光を点滅させて信号処理し膜厚
を演算する。
[発明の実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は構成図で、第3図と同一番号のものは同一のものを
示す。図において、(2)は磁界発生装置で、コイル(
2a) (2b)と駆動電源(2C)とから成る。(3
)は磁性体の塗膜(1b)を透過する波長を持つ光源、
(4)は偏光子、(5)は検光子、(6)は受光器、(
7)はA/D変換器、(8)はディジタル処理回路、(
9)は光源(3)をパルス駆動させるための駆動回路で
ある。
図は構成図で、第3図と同一番号のものは同一のものを
示す。図において、(2)は磁界発生装置で、コイル(
2a) (2b)と駆動電源(2C)とから成る。(3
)は磁性体の塗膜(1b)を透過する波長を持つ光源、
(4)は偏光子、(5)は検光子、(6)は受光器、(
7)はA/D変換器、(8)はディジタル処理回路、(
9)は光源(3)をパルス駆動させるための駆動回路で
ある。
次に動作について説明する。
光源(3)から出た光は偏光子(4)で直線偏光1ζさ
れ、磁界発生装置(2)のコイル(2a)の中を通り、
磁気テープ(1)を透過する。磁気テープ(1)の母材
(1a)は透明なので大部分透過し、塗膜(1b)では
ある透過率をもって透過する。この透過した光は再びコ
イル(2b)の中を通り、検光子(5)に入射する。と
ころで磁界発生装置(2)では駆動電源(2C)により
、コイル(2a) (2b)に磁界を発生する。この磁
界は塗膜(1b)に対して直角方向でしかも磁気テープ
(1)の走行に対して十分速い周波数で発生する。塗膜
αb)は磁性体であるのでファラデー効果により、前記
直線偏光の偏波面が回転する。この回転角の大きさθは
θ=VrI−1L で表わされ、ここにVrは磁性体のベルブ定t、Hは磁
界の強さ、Lは磁性体の光の進行方向の長さ、即ち厚み
である。Vrは磁性体によって決まる定数でHは一定磁
界・となるため、結局 θ=KL (Kは定数) となり、回転角θを求めることにより厚みを求めること
ができる。そこで偏光子(4)の偏光方向と46゜の角
度をなす偏光方向に検光子(5)が配置されており、
I = I□ (1+5in2θ)の光強度が検光
子+5]から得られる。ここでIOは磁界がゼロのとき
の光強度である。
れ、磁界発生装置(2)のコイル(2a)の中を通り、
磁気テープ(1)を透過する。磁気テープ(1)の母材
(1a)は透明なので大部分透過し、塗膜(1b)では
ある透過率をもって透過する。この透過した光は再びコ
イル(2b)の中を通り、検光子(5)に入射する。と
ころで磁界発生装置(2)では駆動電源(2C)により
、コイル(2a) (2b)に磁界を発生する。この磁
界は塗膜(1b)に対して直角方向でしかも磁気テープ
(1)の走行に対して十分速い周波数で発生する。塗膜
αb)は磁性体であるのでファラデー効果により、前記
直線偏光の偏波面が回転する。この回転角の大きさθは
θ=VrI−1L で表わされ、ここにVrは磁性体のベルブ定t、Hは磁
界の強さ、Lは磁性体の光の進行方向の長さ、即ち厚み
である。Vrは磁性体によって決まる定数でHは一定磁
界・となるため、結局 θ=KL (Kは定数) となり、回転角θを求めることにより厚みを求めること
ができる。そこで偏光子(4)の偏光方向と46゜の角
度をなす偏光方向に検光子(5)が配置されており、
I = I□ (1+5in2θ)の光強度が検光
子+5]から得られる。ここでIOは磁界がゼロのとき
の光強度である。
ここに光源(3)は駆動回路(9)でパルス駆動されて
いるため、光源(3)の駆動と同期して点灯している。
いるため、光源(3)の駆動と同期して点灯している。
とき及び消灯しているときのNの変換器(7)でディジ
タル値にして処理回路(8)で受光器(6)の出力のフ
ァラデー効果による回転角の交流信号と、その手均値と
の比を演算する。この場合、交流磁界のサイクルに対し
て、光源の点滅は十分速いサイクルにすることにより、
受光器(6)の暗電流の影響°を受けないように処理で
きる。即ち、光源(3)が点灯しているときのAρ変換
器(7)の出力値から次に消灯したときのA/D変換器
(7)の出力値を引き算することにより真の光の値を求
めることができる。
タル値にして処理回路(8)で受光器(6)の出力のフ
ァラデー効果による回転角の交流信号と、その手均値と
の比を演算する。この場合、交流磁界のサイクルに対し
て、光源の点滅は十分速いサイクルにすることにより、
受光器(6)の暗電流の影響°を受けないように処理で
きる。即ち、光源(3)が点灯しているときのAρ変換
器(7)の出力値から次に消灯したときのA/D変換器
(7)の出力値を引き算することにより真の光の値を求
めることができる。
なお、以上の実施例では光源(3)を点滅させて、受光
器(6)の暗電流の影響を補償した例であるが、第2図
に示す構成図のようにしても同様の効果を奏する。
器(6)の暗電流の影響を補償した例であるが、第2図
に示す構成図のようにしても同様の効果を奏する。
第2図において、C1ωはモータ軸にスリットを切った
回転板をつけたもので、そのスリットが光学路に合うよ
うに設定することにより、点滅した光を受光器(6)に
入れることができる。第1図と同一番号のものは同一の
ものを示し、第1図の場合と同様に処理するものである
。
回転板をつけたもので、そのスリットが光学路に合うよ
うに設定することにより、点滅した光を受光器(6)に
入れることができる。第1図と同一番号のものは同一の
ものを示し、第1図の場合と同様に処理するものである
。
以上のようにこの発明によれば、ファラデー効果による
塗膜の厚さに依存する偏波面の回転を光強度変換し、し
かも受光器に入る光を点滅させて信号処理するため、非
接触でかつ被測定膜の位置の変化を受けず、また受光器
の暗電流の影響も受けず正確に膜厚が測定できる。
塗膜の厚さに依存する偏波面の回転を光強度変換し、し
かも受光器に入る光を点滅させて信号処理するため、非
接触でかつ被測定膜の位置の変化を受けず、また受光器
の暗電流の影響も受けず正確に膜厚が測定できる。
第1図は本発明の一実施例fζおける膜厚測定装置の構
成図、第2図は本発明の他の実施例の構成図、第3図は
従来の膜厚測定装置の構成図である。 図において、(1b)は被測定膜としての磁性体の塗膜
、(2)は磁界発生装置、(3)は光源、(4)は偏光
子、(5)は検光子、(6)は受光器、(9)は駆動回
路である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
成図、第2図は本発明の他の実施例の構成図、第3図は
従来の膜厚測定装置の構成図である。 図において、(1b)は被測定膜としての磁性体の塗膜
、(2)は磁界発生装置、(3)は光源、(4)は偏光
子、(5)は検光子、(6)は受光器、(9)は駆動回
路である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (4)
- (1)ファラデー効果を有する被測定膜を透過する波長
を持つ光源、偏光子、被測定膜、検光子、受光器を順次
配置し、上記被測定膜を光の進行方向に対して直角方向
に移動させ、上記偏光子と検光子との間の光の通路に一
定交流磁界をかける磁界発生装置を設け、上記被測定膜
はその発生磁界中を横切つて走行するようにし、上記受
光器に入る光を点滅させるようにして、上記受光器の出
力を演算し膜厚を測定することを特徴とする膜厚測定装
置。 - (2)受光量を点滅させる手段として、光源をパルス駆
動することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の膜
厚測定装置。 - (3)受光量を点滅させる手段として、光学系のいずれ
かの箇所にしゃ光板を設け、このしゃ光板を移動させて
光路を断続的にしゃ断することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の膜厚測定装置。 - (4)受光量の点滅と同期して受光器出力をA/D変換
し、交流成分と平均値とを求め、割算演算をディジタル
処理することを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし
第3項のいずれかに記載の膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15036985A JPS629207A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15036985A JPS629207A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 膜厚測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS629207A true JPS629207A (ja) | 1987-01-17 |
Family
ID=15495486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15036985A Pending JPS629207A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS629207A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63288650A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-25 | Namiki Precision Jewel Co Ltd | ファラデ−回転子の研磨方法 |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP15036985A patent/JPS629207A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63288650A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-25 | Namiki Precision Jewel Co Ltd | ファラデ−回転子の研磨方法 |
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