JPS6214005A - 膜厚測定装置 - Google Patents
膜厚測定装置Info
- Publication number
- JPS6214005A JPS6214005A JP15378385A JP15378385A JPS6214005A JP S6214005 A JPS6214005 A JP S6214005A JP 15378385 A JP15378385 A JP 15378385A JP 15378385 A JP15378385 A JP 15378385A JP S6214005 A JPS6214005 A JP S6214005A
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- Japan
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- light
- film
- film thickness
- measured
- thickness measuring
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分骨〕
この発明は例えば、磁気テープ等の製造ラインにおける
塗工機の制御、監視を行うための塗膜の膜厚を測定する
膜厚測定装置に関するもので°ある。
塗工機の制御、監視を行うための塗膜の膜厚を測定する
膜厚測定装置に関するもので°ある。
第２図は従来の渦電流式ｒｆ３厚測定装噌の構成図で、
（１）は磁気テープで、ポリエステル等の母材（１ａ）
の上に磁性体の塗１ｊｌ（ｌｂ）がついている。Ｉは検
出器で、コア（ｌｌａ）に励磁巻１１１（ｌｌｂ）を巻
き、発慢器０で励磁している。
（１）は磁気テープで、ポリエステル等の母材（１ａ）
の上に磁性体の塗１ｊｌ（ｌｂ）がついている。Ｉは検
出器で、コア（ｌｌａ）に励磁巻１１１（ｌｌｂ）を巻
き、発慢器０で励磁している。
次に動作について説明する。コア（ｌｌａ）の開放端間
には励磁の磁界が発生しているが、接近した位置に磁性
体があると励磁インピーダンスが変わるこの変化は磁性
体の特性、サイズ、位置等により変化するため、このイ
ンピーダンスの変化を検出すれば一定特性、一定位置、
一定幅の条件下で磁性体の厚みが検出できることとなる
。
には励磁の磁界が発生しているが、接近した位置に磁性
体があると励磁インピーダンスが変わるこの変化は磁性
体の特性、サイズ、位置等により変化するため、このイ
ンピーダンスの変化を検出すれば一定特性、一定位置、
一定幅の条件下で磁性体の厚みが検出できることとなる
。
従来の膜厚測定装置は被測定膜と検出器との距離を一定
に、しかも接近、通常は接触させなければ感度良く、安
定に測定できず、製造ライン中に組込むことができなか
った。
に、しかも接近、通常は接触させなければ感度良く、安
定に測定できず、製造ライン中に組込むことができなか
った。
本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、非接触にしかも、被測定膜の位置が変化しても
影響を受けない膜厚測定装置を提供する。
もので、非接触にしかも、被測定膜の位置が変化しても
影響を受けない膜厚測定装置を提供する。
この発明に係る膜厚測定装置は、光源と、この光源から
の光をそのままの光と被測定膜へ入射する光と被測定膜
から反射した光とに分岐する分岐器と、各分岐した光を
それぞれ受光して光電変換する受光器と、この受光器の
出力から膜厚を演算する処理回路とを備えたものである
。
の光をそのままの光と被測定膜へ入射する光と被測定膜
から反射した光とに分岐する分岐器と、各分岐した光を
それぞれ受光して光電変換する受光器と、この受光器の
出力から膜厚を演算する処理回路とを備えたものである
。
この発明における膜厚測定装置は、光源からの直接の光
の量と、被測定膜での透過量及び反射量とから被測定膜
での光の吸収量を求めこの吸収量から膜厚を演算する。
の量と、被測定膜での透過量及び反射量とから被測定膜
での光の吸収量を求めこの吸収量から膜厚を演算する。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図は本発明の構成図で、第２図と同一番号のものは同一
のものを示す。図において、（２）は磁気テープ（１）
をある透過率で透過する波長を持つ光源、（３）は狭帯
域フィルタ、（４）は分岐器としてのビームスプリッタ
、（５）、（６）、（７）はそれぞれ第１、第２及び第
３の受光器、（８）はヤΦ変換器、（９）はディジタル
処理回路、αＯは光源（２）をパルス駆動するための駆
動回路である。
図は本発明の構成図で、第２図と同一番号のものは同一
のものを示す。図において、（２）は磁気テープ（１）
をある透過率で透過する波長を持つ光源、（３）は狭帯
域フィルタ、（４）は分岐器としてのビームスプリッタ
、（５）、（６）、（７）はそれぞれ第１、第２及び第
３の受光器、（８）はヤΦ変換器、（９）はディジタル
処理回路、αＯは光源（２）をパルス駆動するための駆
動回路である。
次に動作について説明する。
光源（２１から出た光は狭帯域フィルタ（３）で必要な
波長だけの光を透過し、ビームスプリッタ（４）に入る
。
波長だけの光を透過し、ビームスプリッタ（４）に入る
。
ビームスプリッタ（４）では透過した光が磁気テープ（
１）を透過し、受光器（６）で光電変換される。一方ビ
ームスプリッタ（４）で入射した光の反射光は受光器（
５）に入り、光電変換される。ところで磁気テープ（１
）に入射した光は、その表面での反射光、磁気テープ（
１）内での吸収量、及び磁気テープ（１）を透過した光
に分解できる。従って磁気テープ（１）は母材（１ａ）
と塗膜（１ｂ）とで構成されるが、母材（１ａ）はポリ
エステル等の透明な材料であるのでほぼ１００％透過し
、塗膜（１ｂ）で１部吸収されるのでその吸収される面
である塗膜（１ｂ）の方から光を入射させるように構成
し、この面からの反射光をビームスプリッタ（４）の反
射側に配置し１２′受光器（７）で光電変換し、光源（
２）の光量に比例した出力を出す受光器（５）の出力か
ら、受光器（６）及び（７）の出力を減じてやれば吸収
量に比例した出力を得ることができ、この値は膜厚°に
比例したものとなる。こｎを求めるため、受光器（５）
、（６）、（７）の出力をＡ／Ｄ変換器（８）でディジ
タル値にし、ディジタル処理回路（９）でディジタル演
算する。この場合光源（２）は駆動回路Ｑ□でパルス駆
動し、光源（２）が点灯しているときと、点灯していな
いときのそれぞれ受光器（５）、Ｃ６１、（７）の出力
の差を求め、しかも受光器（５）、（６）、（７）は順
次わずかに時間遅れのタイミングでＮ小麦換することに
より、１つのルΦ変換器（８）で処理できる。狭帯域フ
ィルタ（３）を使用するのは例えば光＠ （２１に磁気
テープ（１１が透過しにくい波長を持っている場合に誤
差となるのでこれを除去するためのものであり、必ず必
要であるとは限らない。また磁気テープｆｉ＋を矢印ｑ
３の方向に移動させることにより連続的な膜厚測定装置
能となる。
１）を透過し、受光器（６）で光電変換される。一方ビ
ームスプリッタ（４）で入射した光の反射光は受光器（
５）に入り、光電変換される。ところで磁気テープ（１
）に入射した光は、その表面での反射光、磁気テープ（
１）内での吸収量、及び磁気テープ（１）を透過した光
に分解できる。従って磁気テープ（１）は母材（１ａ）
と塗膜（１ｂ）とで構成されるが、母材（１ａ）はポリ
エステル等の透明な材料であるのでほぼ１００％透過し
、塗膜（１ｂ）で１部吸収されるのでその吸収される面
である塗膜（１ｂ）の方から光を入射させるように構成
し、この面からの反射光をビームスプリッタ（４）の反
射側に配置し１２′受光器（７）で光電変換し、光源（
２）の光量に比例した出力を出す受光器（５）の出力か
ら、受光器（６）及び（７）の出力を減じてやれば吸収
量に比例した出力を得ることができ、この値は膜厚°に
比例したものとなる。こｎを求めるため、受光器（５）
、（６）、（７）の出力をＡ／Ｄ変換器（８）でディジ
タル値にし、ディジタル処理回路（９）でディジタル演
算する。この場合光源（２）は駆動回路Ｑ□でパルス駆
動し、光源（２）が点灯しているときと、点灯していな
いときのそれぞれ受光器（５）、Ｃ６１、（７）の出力
の差を求め、しかも受光器（５）、（６）、（７）は順
次わずかに時間遅れのタイミングでＮ小麦換することに
より、１つのルΦ変換器（８）で処理できる。狭帯域フ
ィルタ（３）を使用するのは例えば光＠ （２１に磁気
テープ（１１が透過しにくい波長を持っている場合に誤
差となるのでこれを除去するためのものであり、必ず必
要であるとは限らない。また磁気テープｆｉ＋を矢印ｑ
３の方向に移動させることにより連続的な膜厚測定装置
能となる。
なお、以上の実施例は、光源（２）をパルス駆動するこ
とで暗主流の影響を除去する例であるが、他の実施例と
して光きν（２）とビームスプリッタ（４）との間番コ
しゃ元板と前記狭帯域フィルタ（３）を交互に組合せた
回転板を挿入し、この回転板の回転と同期してディジタ
ル演算しても同様の効果を奏する。
とで暗主流の影響を除去する例であるが、他の実施例と
して光きν（２）とビームスプリッタ（４）との間番コ
しゃ元板と前記狭帯域フィルタ（３）を交互に組合せた
回転板を挿入し、この回転板の回転と同期してディジタ
ル演算しても同様の効果を奏する。
以上のようにこの発明によれば、磁餓テープの光の透過
旭と反射坦とから光の吸収量を求めこの吸収量から膜厚
を演算するようにしたので、非接触でテープ位だ−が変
化しても正確に膜厚を測定できる。
旭と反射坦とから光の吸収量を求めこの吸収量から膜厚
を演算するようにしたので、非接触でテープ位だ−が変
化しても正確に膜厚を測定できる。
第１図は本発明の一実施例における膜厚測定装置の構成
図、第２図は従来の膜厚測定装置の構成図テある。図に
おいて、（１ｂ）は被測定膜としての磁性体の塗閃、（
２）は光源、（４）はビームスプリワタ、（５１（ａ）
ｍはそれぞｎ第１、第２及び第３の受光器、（９）は
ディジタル処理回路である。 なお、各１２中同一符号は同一または相当部分を示す。
図、第２図は従来の膜厚測定装置の構成図テある。図に
おいて、（１ｂ）は被測定膜としての磁性体の塗閃、（
２）は光源、（４）はビームスプリワタ、（５１（ａ）
ｍはそれぞｎ第１、第２及び第３の受光器、（９）は
ディジタル処理回路である。 なお、各１２中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (8)
- （１）被測定膜を透過する波長の光を出射する光源、こ
の光源から出た光を第１の分岐光と上記被測定膜に入射
される第２の分岐光とに分岐し更に上記第２の分岐光の
上記被測定膜の表面で反射した光を第３の分岐光として
分岐する分岐器、上記第１の分岐光を受光して光電変換
する第１の受光器、上記被測定膜を透過した光を受光し
て光電変換する第２の受光器、上記第３の分岐光を受光
して光電変換する第３の受光器、上記第１ないし第３の
受光器の出力から上記被測定膜での光の吸収量を求めこ
の吸収量から被測定膜の膜厚を演算する処理回路を備え
た膜厚測定回路。 - （２）被測定膜を入射光の方向と直角の方向に移動させ
る構成とし、膜厚を連続的に測定するようにしたことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の膜厚測定装置。 - （３）各受光器に入る光を点滅させることを特徴とする
特許請求の範囲第１項または第２項記載の膜厚測定装置
。 - （４）処理回路は各受光器の出力をＡ／Ｄ変換するＡ／
Ｄ変換器とこのＡ／Ｄ変換器の出力をディジタル処理し
て膜厚を演算することを特徴とする特許請求の範囲第３
項記載の膜厚測定装置。 - （５）Ａ／Ｄ変換器を１個で構成し、各受光器の出力を
時間差を設けてＡ／Ｄ変換することを特徴とする特許請
求の範囲第４項記載の膜厚測定装置。 - （６）受光器に入る光を点滅させる手段として、光源を
パルス駆動することを特徴とする特許請求の範囲第３項
ないし第５項のいずれかに記載の膜厚測定装置。 - （７）受光器に入る光を点滅させる手段として、光源と
分岐器との間にスリットを設けた回転板を挿入し、この
回転板を回転させて光路を断続的に遮断することを特徴
とする特許請求の範囲第３項ないし第５項のいずれかに
記載の膜厚測定装置。 - （８）分岐器はハーフミラーまたはビームスプリッタで
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第７
項のいずれかに記載の膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15378385A JPS6214005A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | 膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15378385A JPS6214005A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | 膜厚測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6214005A true JPS6214005A (ja) | 1987-01-22 |
Family
ID=15570042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15378385A Pending JPS6214005A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | 膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6214005A (ja) |
-
1985
- 1985-07-11 JP JP15378385A patent/JPS6214005A/ja active Pending
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