JPS62223227A - ジニトリルとジアミン又はアミノニトリルからのポリアミドの製造方法 - Google Patents
ジニトリルとジアミン又はアミノニトリルからのポリアミドの製造方法Info
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- JPS62223227A JPS62223227A JP2487687A JP2487687A JPS62223227A JP S62223227 A JPS62223227 A JP S62223227A JP 2487687 A JP2487687 A JP 2487687A JP 2487687 A JP2487687 A JP 2487687A JP S62223227 A JPS62223227 A JP S62223227A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、ルテニウム化合物などを触媒としてジニト
リルとジアミンより、又はアミノニトリルより直接ポリ
アミドを製造する方法に関する。
リルとジアミンより、又はアミノニトリルより直接ポリ
アミドを製造する方法に関する。
（従来の技術）
従来、アミドをニトリルとアミンから合成する場合には
、ニトリルを加水分解してカルボン酸に変え、次いでア
ミンと縮合させてアミドを得る方法が行われている。し
かしながらジニトリルとジアミンより、又はアミノニト
リルより直接ポリアミドを製造する方法は知られていな
い。
、ニトリルを加水分解してカルボン酸に変え、次いでア
ミンと縮合させてアミドを得る方法が行われている。し
かしながらジニトリルとジアミンより、又はアミノニト
リルより直接ポリアミドを製造する方法は知られていな
い。
（発明が解決しようとする問題点）
更に、上記のような従来の製造方法を工業的に実施する
場合、工程数、各段生成物の分離、副生成物による汚染
防止などのための装置、コストなどの種々の問題がある
。
場合、工程数、各段生成物の分離、副生成物による汚染
防止などのための装置、コストなどの種々の問題がある
。
（問題点を解決するための手段）
この発明は、従来の方法と異なり、ジニトリルとジアミ
ンから又はアミノニトリルから直接ポリアミドを合成し
、工程を短縮する方法を提供し、これにより反応時間の
短縮、装置のコンパクト化及びクリーンな操作を実現す
ることを目的とするものである。
ンから又はアミノニトリルから直接ポリアミドを合成し
、工程を短縮する方法を提供し、これにより反応時間の
短縮、装置のコンパクト化及びクリーンな操作を実現す
ることを目的とするものである。
本発明者らは、上記問題点を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、意外にもルテニウム化合物を初めとする一
群の触媒によってこの目的に適合することを確かめ、次
の二つの発明を達成するに至った。
重ねた結果、意外にもルテニウム化合物を初めとする一
群の触媒によってこの目的に適合することを確かめ、次
の二つの発明を達成するに至った。
すなわち、第一の発明は、ルテニウム化合物、ロジウム
化合物、オスミウム化合物、ニッケル化合物、モリブデ
ン化合物及び銅化合物よりなる群の中から選ばれた少な
くとも一つの化合物触媒の存在下で、一般式 ％式％） （式中、Ｒ４は二価の飽和若しくはヘテロ原子を芳香族
基、ヘテロ環残基若しくはヘテロ原子を含む置換基を有
する脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ
環残基、 水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は芳
香族基、二価の脂肪族炭化水素部よりなる基を示す。） りなる基を示す。） で表されるジニトリルの少なくとも１種と、一般式 ％式％） （式中、Ｒ％及びＨ’ｒは、それぞれ−価の、同−又は
異なる水素原子、飽和若しくはヘテロ原子を芳香族基を
有する脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテ
ロ環残基、 素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は芳香
族基、ヘテロ環残基を有する、若しくはヘテロ原子を含
む置換基を存する脂肪族炭化水素残基を示し、Ｒ６は、
二価の飽和若しくはヘテロ原子を芳香族基、ヘテロ環残
基若しくはヘテロ原子を含む置換基で置換した基、 若しくはヘテロ原子を含む置換基で置換した基、脂環式
炭化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又
は芳香族基、二価の脂肪族炭化水素部よりなる基を示す
。）で表されるジアミンの少なくとも１種と、水とを加 熱反応させてポリアミドを生成させるジニトリルとジア
ミンからのポリアミドの製造方法である。
化合物、オスミウム化合物、ニッケル化合物、モリブデ
ン化合物及び銅化合物よりなる群の中から選ばれた少な
くとも一つの化合物触媒の存在下で、一般式 ％式％） （式中、Ｒ４は二価の飽和若しくはヘテロ原子を芳香族
基、ヘテロ環残基若しくはヘテロ原子を含む置換基を有
する脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ
環残基、 水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は芳
香族基、二価の脂肪族炭化水素部よりなる基を示す。） りなる基を示す。） で表されるジニトリルの少なくとも１種と、一般式 ％式％） （式中、Ｒ％及びＨ’ｒは、それぞれ−価の、同−又は
異なる水素原子、飽和若しくはヘテロ原子を芳香族基を
有する脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテ
ロ環残基、 素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は芳香
族基、ヘテロ環残基を有する、若しくはヘテロ原子を含
む置換基を存する脂肪族炭化水素残基を示し、Ｒ６は、
二価の飽和若しくはヘテロ原子を芳香族基、ヘテロ環残
基若しくはヘテロ原子を含む置換基で置換した基、 若しくはヘテロ原子を含む置換基で置換した基、脂環式
炭化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又
は芳香族基、二価の脂肪族炭化水素部よりなる基を示す
。）で表されるジアミンの少なくとも１種と、水とを加 熱反応させてポリアミドを生成させるジニトリルとジア
ミンからのポリアミドの製造方法である。
更に、第二の発明は、ルテニウム化合物、ロジウム化合
物、オスミウム化合物、ニッケル化合物、モリブデン化
合物及び銅化合物よりなる群の中から選ばれた少なくと
も一つの化合物触媒の存在下で、一般式 ％式％ （式中、Ｒ５は、−価の水素原子、飽和若しくはヘテロ
原子を芳香族基で置換した基、 水素残基の水素原子を芳香族基で置換した基、脂環式炭
化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は
芳香族基、ヘテロ環残基を有する、若しくはヘテロ原子
を含む置換基を有する脂肪族炭化水素残基を示し、Ｒ６
は、二価の飽和若しくはヘテロ原子を芳香族基、 記脂肪族炭化水素残基の水素原子を芳香族基、ヘテロ環
残基若しくはヘテロ原子を含む置換基を有する脂肪族炭
化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は
芳香族基、二価の脂肪族炭化水素部よりなる基を示す。
物、オスミウム化合物、ニッケル化合物、モリブデン化
合物及び銅化合物よりなる群の中から選ばれた少なくと
も一つの化合物触媒の存在下で、一般式 ％式％ （式中、Ｒ５は、−価の水素原子、飽和若しくはヘテロ
原子を芳香族基で置換した基、 水素残基の水素原子を芳香族基で置換した基、脂環式炭
化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は
芳香族基、ヘテロ環残基を有する、若しくはヘテロ原子
を含む置換基を有する脂肪族炭化水素残基を示し、Ｒ６
は、二価の飽和若しくはヘテロ原子を芳香族基、 記脂肪族炭化水素残基の水素原子を芳香族基、ヘテロ環
残基若しくはヘテロ原子を含む置換基を有する脂肪族炭
化水素残基、芳香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は
芳香族基、二価の脂肪族炭化水素部よりなる基を示す。
）で表されるアミノニトリルの少なくとも１種と、で表
されるアミノニトリルの少なくとも１種と、水とを加熱
反応させてポリアミドを生成させるアミノニトリルから
のポリアミドの製造方法である。
されるアミノニトリルの少なくとも１種と、水とを加熱
反応させてポリアミドを生成させるアミノニトリルから
のポリアミドの製造方法である。
第一の発明において、ジニトリルとしては、ＮＣ（Ｃ１
ｌｚ） １ｌＣＮ （ｎ ＝ １〜２０ ）が好ましく
、ジアミンとしてはＩＩＮ（Ｒ’） （ＣＩｌｚ）−
ＮＩＩＲ’ （ｍ ＝ １〜２０）が好ましく、これら
からポリアミド（Ｒ５及びＲ７は前述したとおりである
。）第二の発明において、アミノニトリルとしては、Ｎ
Ｃ（Ｃ１ｌｚ）−ＮＩＩＲ５（ｍ ”’ １ 、 ２
、 ３及び５〜２０）が好ましく、これからポリアミド
（−ＣＩｌ□）ｍ ＮＲ’Ｃ−）。
ｌｚ） １ｌＣＮ （ｎ ＝ １〜２０ ）が好ましく
、ジアミンとしてはＩＩＮ（Ｒ’） （ＣＩｌｚ）−
ＮＩＩＲ’ （ｍ ＝ １〜２０）が好ましく、これら
からポリアミド（Ｒ５及びＲ７は前述したとおりである
。）第二の発明において、アミノニトリルとしては、Ｎ
Ｃ（Ｃ１ｌｚ）−ＮＩＩＲ５（ｍ ”’ １ 、 ２
、 ３及び５〜２０）が好ましく、これからポリアミド
（−ＣＩｌ□）ｍ ＮＲ’Ｃ−）。
が得られる。（Ｒ５は前述したとおりである。）第一、
第二の発明において、それぞれジニトリル及び／又はジ
アミンを２種以上、アミノニトリルを２種以上用いても
よく、その場合はコポリアミドが得られる。また、それ
ぞれの場合に、それぞれ３官能以上のニトリル及び／又
はアミン、又はアミノニトリルを全体でほぼ化学量論的
な割合となるように加えることも、得られるポリアミド
の特性を改善するため必要があれば、実施することがで
きる。
第二の発明において、それぞれジニトリル及び／又はジ
アミンを２種以上、アミノニトリルを２種以上用いても
よく、その場合はコポリアミドが得られる。また、それ
ぞれの場合に、それぞれ３官能以上のニトリル及び／又
はアミン、又はアミノニトリルを全体でほぼ化学量論的
な割合となるように加えることも、得られるポリアミド
の特性を改善するため必要があれば、実施することがで
きる。
前記二つの発明において用いられる触媒は、ルテニウム
、ロジウム、オスミウム、ニッケル、モリブデン及び銅
の化合物、例えばこれらの金属の錯化合物、カルボニル
化合物、ハロゲン化物、酸化物などが上げられ、その中
でも活性の高い点でルテニウムの錯化合物、Ｍｏ （Ｃ
ｏ） ｂが好ましく、特にＲｕ１ｌｚ （ＰＰｈ＊）
４ 、Ｒｕ１ｌｚ （Ｃｏ） （ＰＰｈｚ） ３などが
好ましい。（１）ｈはフェニル基を示す。） これらの触媒は２種以上混合して用いることもできるし
、さらに必要であれば、適当な助触媒、例えば金属水酸
化物のような助触媒を用いてもかまわない。
、ロジウム、オスミウム、ニッケル、モリブデン及び銅
の化合物、例えばこれらの金属の錯化合物、カルボニル
化合物、ハロゲン化物、酸化物などが上げられ、その中
でも活性の高い点でルテニウムの錯化合物、Ｍｏ （Ｃ
ｏ） ｂが好ましく、特にＲｕ１ｌｚ （ＰＰｈ＊）
４ 、Ｒｕ１ｌｚ （Ｃｏ） （ＰＰｈｚ） ３などが
好ましい。（１）ｈはフェニル基を示す。） これらの触媒は２種以上混合して用いることもできるし
、さらに必要であれば、適当な助触媒、例えば金属水酸
化物のような助触媒を用いてもかまわない。
これらの触媒の添加量は、反応系に触媒量存在するだけ
でじゅうぶんであり、例えば原料のジニトリル又はアミ
ノニトリルに対して約０．１〜１０１ＩＩ０２％が好適
であるが、これより少なくても、また多くても反応は可
能である。
でじゅうぶんであり、例えば原料のジニトリル又はアミ
ノニトリルに対して約０．１〜１０１ＩＩ０２％が好適
であるが、これより少なくても、また多くても反応は可
能である。
これらの発明において、反応は不活性ガス中で行うのが
好ましい。反応は、ジアミン、ジニトリル（又はアミノ
ニトリル）、水に触媒を添加するだけでも容易に直行す
るが、適当な溶媒、例えば、ジメトキシエタン、アセト
ン、テトラヒド口フランなどの存在下に行う方が好まし
い。反応温度に特別な上限はないが、２５０°Ｃ以下で
行うことが好ましい。反応圧力は常圧でよいが、必要な
らば加圧下でもよい。水はニトリル基に対し１当量が必
要であるが、過剰に用いてもよく、１〜３当量の範囲内
であることが好ましい。
好ましい。反応は、ジアミン、ジニトリル（又はアミノ
ニトリル）、水に触媒を添加するだけでも容易に直行す
るが、適当な溶媒、例えば、ジメトキシエタン、アセト
ン、テトラヒド口フランなどの存在下に行う方が好まし
い。反応温度に特別な上限はないが、２５０°Ｃ以下で
行うことが好ましい。反応圧力は常圧でよいが、必要な
らば加圧下でもよい。水はニトリル基に対し１当量が必
要であるが、過剰に用いてもよく、１〜３当量の範囲内
であることが好ましい。
（実施例）
次に、実施例により、この発明を具体的に説明する。
ユ新１」１
ナイロン６．６の合成
３０１Ｉ１１の容量の試験管に磁気撹拌子を入れ、アル
ゴンで置換した。これにアジポニトリル（０゜２１６ｇ
）、ヘキサメチレンジアミン（０，２３２ｇ ） 、Ｒ
ｕＨｚ（ＰＰｈｉ）４（０，０６９ｇ ） 、水（０，
０７２ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｍｊりを加え封
管した。この溶液をかきまぜながら封管中、アルゴン下
、１６０°Ｃで２４時間反応させた。反応後、封管を一
７８°Ｃに冷却してあけ、沈殿物をろ過し、クロロホル
ムで洗い、乾燥した。ナイロン６．６が９２％の収率で
得られた。末端アミノ基をｐ −トルエンスルホン酸で
チモールブルーを指示薬として定量することにより計算
した数平均分子量は４１００であった。このナイロン６
．６の確認は、次の通り行った。
ゴンで置換した。これにアジポニトリル（０゜２１６ｇ
）、ヘキサメチレンジアミン（０，２３２ｇ ） 、Ｒ
ｕＨｚ（ＰＰｈｉ）４（０，０６９ｇ ） 、水（０，
０７２ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｍｊりを加え封
管した。この溶液をかきまぜながら封管中、アルゴン下
、１６０°Ｃで２４時間反応させた。反応後、封管を一
７８°Ｃに冷却してあけ、沈殿物をろ過し、クロロホル
ムで洗い、乾燥した。ナイロン６．６が９２％の収率で
得られた。末端アミノ基をｐ −トルエンスルホン酸で
チモールブルーを指示薬として定量することにより計算
した数平均分子量は４１００であった。このナイロン６
．６の確認は、次の通り行った。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ） ： ３２３０ （Ｎ−Ｉ
Ｉ 、 ｍ ）。
Ｉ 、 ｍ ）。
２９１０ （Ｃ−Ｈ，ｓ）、２８４０ （ｓ）、１６３
０（Ｃ＝Ｏ，ｓ）、１５３０ （Ｎ−Ｈ，ｓ）、１２２
５（り及び７４０ （ｗ） ｃｍ−’。
０（Ｃ＝Ｏ，ｓ）、１５３０ （Ｎ−Ｈ，ｓ）、１２２
５（り及び７４０ （ｗ） ｃｍ−’。
’ＨＮＭＲスペクトル（ｌｌｃＯｚｌｌ 、 ６０
Ｍｌｌｚ） ：δ０．９３〜１．８５ （ｍ、 １２１
１． Ｃｌ１ｇ ） 、 １．９５〜２．６０
（ｍ 、 ４１１ 、 ＣＯＣＩＩｇ ） 、
２．８２〜３．４３ （ｍ、４１１． Ｎ ＣＨ
ｚ ）及び８．４５ （ｂｒ、 ｓ。
Ｍｌｌｚ） ：δ０．９３〜１．８５ （ｍ、 １２１
１． Ｃｌ１ｇ ） 、 １．９５〜２．６０
（ｍ 、 ４１１ 、 ＣＯＣＩＩｇ ） 、
２．８２〜３．４３ （ｍ、４１１． Ｎ ＣＨ
ｚ ）及び８．４５ （ｂｒ、 ｓ。
２１１、−Ｎ１１）。
災施拠主
分子量の高いナイロン６．６の合成
アジポニトリル（０，２１６ｇ）、ヘキサメチレンジア
ミン（０，２３２ｇ ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈｓ）４（
０，０６９ｇ） 、水（０，０７２ｇ）、ジメトキシエ
タン（０，５ｍｆｆ１）を封管中、アルゴン下２００°
Ｃで２４時間反応させ、た。反応後、沈殿物をろ過し、
クロロホルムで洗い乾燥した。２５５°Ｃより高い融点
を存するナイロン６．６が９８％収率で得られた。
ミン（０，２３２ｇ ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈｓ）４（
０，０６９ｇ） 、水（０，０７２ｇ）、ジメトキシエ
タン（０，５ｍｆｆ１）を封管中、アルゴン下２００°
Ｃで２４時間反応させ、た。反応後、沈殿物をろ過し、
クロロホルムで洗い乾燥した。２５５°Ｃより高い融点
を存するナイロン６．６が９８％収率で得られた。
そのＩＲスペクトル及びＩＨＮＭＲスペクトルは、実施
例１のものと同様であった。末端アミノ基をｐ−）ルエ
ンスルホン酸でチモールブルーを指示薬として定量する
ことにより計算した数平均分子量は８９００であった。
例１のものと同様であった。末端アミノ基をｐ−）ルエ
ンスルホン酸でチモールブルーを指示薬として定量する
ことにより計算した数平均分子量は８９００であった。
（クレゾールに溶解）
実音班主
ナイロン２．６の合成
アジポニトリル（０，２１６ｇ）、エチレンジアミン（
０，１２０ｇ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈ３）４（０，０６
９ｇ）、水（０，０７２ｇ）、ジメトキシエタン（０，
５ｍｊりを封管中、実施例１と同じ条件下で反応させた
。
０，１２０ｇ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈ３）４（０，０６
９ｇ）、水（０，０７２ｇ）、ジメトキシエタン（０，
５ｍｊりを封管中、実施例１と同じ条件下で反応させた
。
反応後、沈殿物をろ過し、クロロホルムで洗い、乾燥し
た。ナイｌコン２，６が９９％収率で得られた。
た。ナイｌコン２，６が９９％収率で得られた。
末端アミノ基を実施例１と同様な方法で計算した数平均
分子量は３７００であった。
分子量は３７００であった。
ＩＲスペクトル（にＢｒ） ： ３３５０ （Ｎ−ｔ
ｌ 、 ｓ ）。
ｌ 、 ｓ ）。
３１７０ （Ｎ−Ｈ，５）２９５０ （Ｃ−Ｈ，ｓ）。
１６４５ （Ｃ＝０．ｓ）、１５４５ （Ｎ−１ｔ
、ｍ）。
、ｍ）。
１３３０ （ｍ）、１１２０（ｍ）及び８００ （ｍ）
ｃ＋＋＋−’。
ｃ＋＋＋−’。
ＩＨＮＭＲスペクトＪｌ／ （ＩＩＣＯ２＋１ 、 ６
０ＭＩＩｚ ） ：δ１．０３〜１．９６ （ｍ＋
４ ＩＩ 、 ＣＩ＋２ ） 、 １．９６〜２
．６Ｂ （ｍ 、 ４ Ｈ、Ｃ０Ｃ１ｈ ） 、
３．０５〜３゜９５（ｍ、４１１． Ｎ ＣＨｚ
）及び（１，２２（ｂｒ。
０ＭＩＩｚ ） ：δ１．０３〜１．９６ （ｍ＋
４ ＩＩ 、 ＣＩ＋２ ） 、 １．９６〜２
．６Ｂ （ｍ 、 ４ Ｈ、Ｃ０Ｃ１ｈ ） 、
３．０５〜３゜９５（ｍ、４１１． Ｎ ＣＨｚ
）及び（１，２２（ｂｒ。
ｓ、 ２ Ｈ、−Ｎｉｌ）。
ス新１ｉ１−
ナイロン３の合成
３−アミノブロピオノニトリル（０，２８２ｇ）、水（
０，１４５ｇ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈｓ）４（０，０６
９ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｍｊ２）を封管中、
アルゴン下２００ ’Ｃで２４時間反応させた。反応後
、沈殿物をろ過し、クロロホルムで洗い、乾燥した。
０，１４５ｇ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈｓ）４（０，０６
９ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｍｊ２）を封管中、
アルゴン下２００ ’Ｃで２４時間反応させた。反応後
、沈殿物をろ過し、クロロホルムで洗い、乾燥した。
ナイロン３が９８％収率で得られた。末端アミン基を実
施例１と同様の方法で計算した数平均分子量は１６００
であった。
施例１と同様の方法で計算した数平均分子量は１６００
であった。
ｔｒ＋スペクトル（ＫＢｒ）：３２９０ （Ｎ−Ｉｆ、
ｓ）。
ｓ）。
２９４０ （Ｃ−Ｉｔ、ｗ）、１６４０ （Ｃ＝Ｏ，ｓ
）。
）。
１５４５ （Ｎ−ＩＩ、ｓ ）、 １４３５
（ｍ）。
（ｍ）。
１１１５ （ｍ）及び６９５ （ｍ）ｃｍ−’。
’ＨＮＭＲスペクトル（ｌｌｃＯｚｌｌ 、 ６０Ｍ
ＩＩｚ ） ：δ１．７８〜２．９８ （ｍ 、
２ ＩＩ 、 −ＣＯＣＩＩ□−）。
ＩＩｚ ） ：δ１．７８〜２．９８ （ｍ 、
２ ＩＩ 、 −ＣＯＣＩＩ□−）。
３．０５〜４．１４ （ｍ、 ２１１． Ｎ Ｃｌ
ｈ ）及び７．５ ６ （ｂｒ、 ｓ、
Ｉ ＩＩ 、 −ＮＨ） 。
ｈ ）及び７．５ ６ （ｂｒ、 ｓ、
Ｉ ＩＩ 、 −ＮＨ） 。
次１１１１
ナイロン１２の合成
１２−アミノドデカンニトリル（０，３９３ｇ）、水（
０，０７２ｇ） 、Ｒｕ１ｌｚ（ＰＰｈｚ）ｓ（０，０
６９ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｎｉ！、）を封管
中、アルゴン下実施例１と同様な条件で反応させた。反
応後、沈殿物をろ過し、クロロホルムで洗い、乾燥した
。
０，０７２ｇ） 、Ｒｕ１ｌｚ（ＰＰｈｚ）ｓ（０，０
６９ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｎｉ！、）を封管
中、アルゴン下実施例１と同様な条件で反応させた。反
応後、沈殿物をろ過し、クロロホルムで洗い、乾燥した
。
ナイロン１２が９９％の収率で得られた。実施例１と同
様な方法で計算した数平均分子量は５０００であった。
様な方法で計算した数平均分子量は５０００であった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）： ３２９０ （Ｎ−ＩＩ
、 ｓ ）。
、 ｓ ）。
２９４０ （Ｃ−ＩＩ、ｗ ）１６４０ （Ｃ＝Ｏ，ｓ
）。
）。
１５４５ （Ｎ−ＩＩ、ｓ ）、１４３５ （ｍ）、１
１１５（ｍ）及び６９５ （ｍ）ｃｌ’。
１１５（ｍ）及び６９５ （ｍ）ｃｌ’。
’ＨＮＭＲスペクトル（ｌｌｃｏ２＋１．６０ Ｍｌｌ
ｚ ） ：Ｃ０，９３〜１．８５ （ｍ、 １８
１１．−Ｃ１ｌ□−）、１．９５〜２．６０ （ｍ、
２ ＩＩ、 Ｃ０Ｃ１ｈ ） 、 ２．８
２〜３．４３（ｍ、 ２１１ 、 Ｎ Ｃ）Ｉｚ
）及び８．４５ （ｂｒ、ｓ、 ２１１゜−Ｎｔｌ）
。
ｚ ） ：Ｃ０，９３〜１．８５ （ｍ、 １８
１１．−Ｃ１ｌ□−）、１．９５〜２．６０ （ｍ、
２ ＩＩ、 Ｃ０Ｃ１ｈ ） 、 ２．８
２〜３．４３（ｍ、 ２１１ 、 Ｎ Ｃ）Ｉｚ
）及び８．４５ （ｂｒ、ｓ、 ２１１゜−Ｎｔｌ）
。
ス新［
ナイロン６Ｔの合成
テレフタロニトリル（０，２５６ｇ）、ヘキサメチレン
ジアミン（０，２３２ｇ ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈ３）
４（０，０６９ｇ）、水（０，０７４ｇ）、ジメトキシ
エタン（０，５ａ／りを封管中、アルゴン下１８０°Ｃ
で２４時間反応させた０反応後、沈殿物をろ過し、クロ
ロホルムで洗い、乾燥した。２６５℃の分解温度を有す
るポリへキサメチレンテレフタルアミドが９８％の収率
で得られた。実施例１と同様の方法で計算した数平均分
子量は１２００であった。
ジアミン（０，２３２ｇ ） 、ＲｕＨｚ（ＰＰｈ３）
４（０，０６９ｇ）、水（０，０７４ｇ）、ジメトキシ
エタン（０，５ａ／りを封管中、アルゴン下１８０°Ｃ
で２４時間反応させた０反応後、沈殿物をろ過し、クロ
ロホルムで洗い、乾燥した。２６５℃の分解温度を有す
るポリへキサメチレンテレフタルアミドが９８％の収率
で得られた。実施例１と同様の方法で計算した数平均分
子量は１２００であった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ） ： ３１６０ （Ｎ−Ｉｔ
、 ｓ ） 。
、 ｓ ） 。
３０７０ （Ｃ−Ｉｔ 、 ｍ ）、 ２９２０ （
Ｃ−ＩＩ 、 ｓ ）。
Ｃ−ＩＩ 、 ｓ ）。
２８６０ （Ｃ−Ｉｆ、ｍ）、１６２０ （Ｃ＝Ｏ，ｓ
）。
）。
１５３５ （Ｎ−Ｉｆ、ｍ）、 １４１０ （
ｍ）。
ｍ）。
１２８５ （＋ａ）及び８６０ （ｍ） ｃｍ−’。
’ＨＮＭＲスペクトル（ＩＩＣＯｚｌｌ、 ６０ＭＩＩ
ｚ ） ：Ｃ０，７１〜２．３４ （ｍ、 ８
ＩＩ、 Ｃ１ｈ ） 、 ２．９０〜３．７６
（ｍ、 ４１１． ＮＣｌ１ｚ）、 ６．
２１ （ｂｒ、 ｓ、 ２１１゜Ｎ１３）及び７
．００〜７．５４ （ｍ、 ４ ＩＩ、＾ｒ１１）。
ｚ ） ：Ｃ０，７１〜２．３４ （ｍ、 ８
ＩＩ、 Ｃ１ｈ ） 、 ２．９０〜３．７６
（ｍ、 ４１１． ＮＣｌ１ｚ）、 ６．
２１ （ｂｒ、 ｓ、 ２１１゜Ｎ１３）及び７
．００〜７．５４ （ｍ、 ４ ＩＩ、＾ｒ１１）。
次１Ｉ１１
ポリ−ｐ−シクロヘキサンアジボアミドの合成アジポニ
トリル（０，２１６ｇ）、１．４−シクロヘキサンジア
ミン（０，２２８ｇ ） 、Ｒｕ１ｌｚ（ＰＰｈｓ）４
（０，０６９ｇ）、水（０，０７４ｇ）、ジメトキシエ
タン（０，５ｎｆりを封管中、アルゴン下１８０°Ｃで
２４時間反応させた。反応後、沈殿物をろ過し、クロロ
ホルムで洗い、乾燥した。２０８°Ｃの分解温度を有す
るポリアミドが９８％の収率で得られた。実施例１と同
様の方法で計算した数平均分子量は１０００であった。
トリル（０，２１６ｇ）、１．４−シクロヘキサンジア
ミン（０，２２８ｇ ） 、Ｒｕ１ｌｚ（ＰＰｈｓ）４
（０，０６９ｇ）、水（０，０７４ｇ）、ジメトキシエ
タン（０，５ｎｆりを封管中、アルゴン下１８０°Ｃで
２４時間反応させた。反応後、沈殿物をろ過し、クロロ
ホルムで洗い、乾燥した。２０８°Ｃの分解温度を有す
るポリアミドが９８％の収率で得られた。実施例１と同
様の方法で計算した数平均分子量は１０００であった。
ＩＲスペクトル（Ｋｌｌｒ） ： ３１８０ （Ｎ−
Ｉｆ 、 ｓ ） 。
Ｉｆ 、 ｓ ） 。
２９２５ （Ｃ−Ｉｔ、ｓ ）、２８６０ （Ｃ−Ｉｆ
、ｍ）。
、ｍ）。
１６３０ （Ｃ＝０．ｓ ）、１５４０ （Ｎ−１ｔ、
ｓ）。
ｓ）。
１４１０ （ｍ）、１１１５ （ｎ＋）及び７４５
（ｍ） ｃｍ−’。
（ｍ） ｃｍ−’。
’ＨＮＭＲスペクトル（ｌｌｃＯｚｌｌ、 ６０ Ｍｌ
ｌｚ） ：Ｃ０，８４〜１．９７ （ｎ＋ １６８
） 、 ２．７０〜３．２７ （ｍ 。
ｌｚ） ：Ｃ０，８４〜１．９７ （ｎ＋ １６８
） 、 ２．７０〜３．２７ （ｍ 。
２１１、 ＮＣＨｚ ）及び６．７６ （ｂｒ、ｓ
、 ２ ＩＩ、 Ｎｔｌ ）。
、 ２ ＩＩ、 Ｎｔｌ ）。
ス１超引亀
ポリピペラジンアジボアミドの合成
アジポニトリル（０，２１６ｇ）、ピペラジン（０，１
７２ｇ） 、Ｒｕ１ｌｚ（ｒ’Ｐｈ５）４（０，０６９
ｇ）、水（０，０７７ｇ）、ジメトキシエタン（０，５
ｍｉりを封管中、アルゴン下１８０°Ｃで２４時間反応
させた。反応後、沈殿物をろ過し、クロロホルムで洗い
、乾燥した。２３０°Ｃで分解するポリアミドが９８％
の収率で得られた。実施例１と同様の方法で計算した数
平均分子量は２２００であった。
７２ｇ） 、Ｒｕ１ｌｚ（ｒ’Ｐｈ５）４（０，０６９
ｇ）、水（０，０７７ｇ）、ジメトキシエタン（０，５
ｍｉりを封管中、アルゴン下１８０°Ｃで２４時間反応
させた。反応後、沈殿物をろ過し、クロロホルムで洗い
、乾燥した。２３０°Ｃで分解するポリアミドが９８％
の収率で得られた。実施例１と同様の方法で計算した数
平均分子量は２２００であった。
ＩＲスペクトル（ＫＩｌｒ） ： ２９３０ （Ｃ−Ｉ
Ｉ、 ｓ） 。
Ｉ、 ｓ） 。
２８７０ （Ｃ−Ｈ，ｓ） １６３５ （Ｃ＝０．
ｓ） 。
ｓ） 。
１４３５ （ｓ）、１２５０ （ｍ）、１２０５ （ｍ
）及び１０１５ （ｍ）ｃｍ−’。
）及び１０１５ （ｍ）ｃｍ−’。
’ＨＮＭＲスペクトル（ｌｌｃＯｚｌｌ、 ６０ Ｍ
ｌｌｚ ） ：Ｃ０，７２〜１．４６ （ｍｔ ４
ＩＩ、 Ｃ１１ｚ ） 、 １．５２〜２．３７
（ｍ 、 ４ Ｉｆ、 Ｃ１１２ＣＯ）及び２．７
０〜３．６９ （ｍ 、 ８ Ｉｔ、 ＮＣＩ＋
２ ）。
ｌｌｚ ） ：Ｃ０，７２〜１．４６ （ｍｔ ４
ＩＩ、 Ｃ１１ｚ ） 、 １．５２〜２．３７
（ｍ 、 ４ Ｉｆ、 Ｃ１１２ＣＯ）及び２．７
０〜３．６９ （ｍ 、 ８ Ｉｔ、 ＮＣＩ＋
２ ）。
ス五〇１±
ポリへキサメチレン−ｐ−フェニレンジアセトアミドの
合成 １．４−フェニレンジアセトニトリル（０，３１２ｇＬ
ヘキサメチレンジアミン（０，２３２ｇ）、Ｒｕ１ｌｚ
（ＰＰｈｉ）ｎ（０，０６９ｇ ） 、水（０，０７４
ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｍｊ２）を封管中、ア
ルゴン下１８０°Ｃで２４時間反応させた。反応後、沈
殿物をろ過し、クロロホルムで洗い、乾燥した。
合成 １．４−フェニレンジアセトニトリル（０，３１２ｇＬ
ヘキサメチレンジアミン（０，２３２ｇ）、Ｒｕ１ｌｚ
（ＰＰｈｉ）ｎ（０，０６９ｇ ） 、水（０，０７４
ｇ）、ジメトキシエタン（０，５ｍｊ２）を封管中、ア
ルゴン下１８０°Ｃで２４時間反応させた。反応後、沈
殿物をろ過し、クロロホルムで洗い、乾燥した。
３００°Ｃでも溶融しないポリアミドが９３％の収率で
得られた。実施例１と同様の方法で計算した数平均分子
量は１４０００であった。
得られた。実施例１と同様の方法で計算した数平均分子
量は１４０００であった。
ＩＲスペクトル（ＫＲｒ）：３２５０ （Ｎ−１１，ｍ
）。
）。
２９２０ （Ｃ−Ｉｔ、ｓ ）、２８５０ （ＣＨ，ｍ
）。
）。
１６３０ （Ｃ＝０．ｓ ）、１５３０ （Ｎ−１１，
ｍ ）。
ｍ ）。
１４２５（ｍ）及び７４０ （ｍ）ｃｍ−’。
（発明の効果）
前記実施例から明らかなように、この発明は、ルテニウ
ム化合物などの金属化合物を触媒とすることにより、ジ
ニトリル、ジアミン、水より又はアミノニトリル、水よ
り直接ポリアミドを効果的に製造することを可能とする
ものであり、これにより従来の２段法の合成に比べて、
工程を１段にし、反応時間の短縮、装置のコンパクト化
及びクリーンな操業を実現しえた。特に、反応が中性条
件で行われること、水を微少しか用いないのでエネルギ
ー的にもを利であることはこの発明の利点である。
ム化合物などの金属化合物を触媒とすることにより、ジ
ニトリル、ジアミン、水より又はアミノニトリル、水よ
り直接ポリアミドを効果的に製造することを可能とする
ものであり、これにより従来の２段法の合成に比べて、
工程を１段にし、反応時間の短縮、装置のコンパクト化
及びクリーンな操業を実現しえた。特に、反応が中性条
件で行われること、水を微少しか用いないのでエネルギ
ー的にもを利であることはこの発明の利点である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、オスミウム化
合物、ニッケル化合物、モリブデン化合物及び銅化合物
よりなる群の中から選ばれた少なくとも一つの化合物触
媒の存在下で、一般式 Ｒ＾４（ＣＮ）＿２ （式中、Ｒ＾４は二価の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭
化水素残基、前記脂肪族炭化水素 残基の水素原子を芳香族基、ヘテロ環残基 若しくはヘテロ原子を含む置換基で置換し た基、脂環式炭化水素残基、芳香族炭化水 素残基、ヘテロ環残基、又は芳香族基、ヘ テロ環残基若しくはヘテロ原子を介して結 合した二つの脂肪族炭化水素部よりなる基 を示す。） で表されるジニトリルの少なくとも１種と、一般式 ＨＮ（Ｒ＾５）−Ｒ＾６−（Ｒ＾７）ＮＨ （式中、Ｒ＾５及びＲ＾７は、それぞれ一価の、同一又
は異なる水素原子、飽和若しくは不飽 和の脂肪族炭化水素残基、前記脂肪族炭化 水素残基の水素原子を芳香族基で置換した 基、脂環式炭化水素残基、芳香族炭化水素 残基、ヘテロ環残基、又は置換基としてヘ テロ環残基を有する、若しくはヘテロ原子 を含む置換基を有する脂肪族炭化水素残基 を示し、Ｒ＾６は、二価の飽和若しくは不飽和の脂肪族
炭化水素残基、前記脂肪族炭化水 素残基の水素原子を芳香族基、ヘテロ環残 基若しくはヘテロ原子を含む置換基で置換 した基、脂環式炭化水素残基、芳香族炭化 水素残基、ヘテロ環残基、又は芳香族基、 ヘテロ環残基若しくはヘテロ原子を介して 結合した二つの脂肪族炭化水素部よりなる 基を示す。） で表されるジアミンの少なくとも１種と、水とを加熱反
応させてポリアミドを生成させることを特徴とするジニ
トリルとジアミンからのポリアミドの製造方法。 ２、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、オスミウム化
合物、ニッケル化合物、モリブデン化合物及び銅化合物
よりなる群の中から選ばれた少なくとも一つの化合物触
媒の存在下で、一般式 ＨＮ（Ｒ＾５）−Ｒ＾６−ＣＮ （式中、Ｒ＾５は、一価の水素原子、飽和若しくは不飽
和の脂肪族炭化水素残基、前記脂 肪族炭化水素残基の水素原子を芳香族基で 置換した基、脂環式炭化水素残基、芳香族 炭化水素残基、ヘテロ環残基、又は置換基 としてヘテロ環残基を有する、若しくはヘ テロ原子を含む置換基を有する脂肪族炭化 水素残基を示し、Ｒ＾６は、二価の飽和若しくは不飽和
の脂肪族炭化水素残基、前記脂肪 族炭化水素残基の水素原子を芳香族基、ヘ テロ環残基若しくはヘテロ原子を含む置換 基で置換した基、脂環式炭化水素残基、芳 香族炭化水素残基、ヘテロ環残基、叉は芳 香族基、ヘテロ環残基若しくはヘテロ原子 を介して結合した二つの脂肪族炭化水素部 よりなる基を示す。） で表されるアミノニトリルの少なくとも１種と、水とを
加熱反応させてポリアミドを生成させることを特徴とす
るアミノニトリルからのポリアミドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2487687A JPS62223227A (ja) | 1985-03-08 | 1987-02-06 | ジニトリルとジアミン又はアミノニトリルからのポリアミドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60044939A JPS61205221A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | ニトリルとアミンからのアミドの製造方法 |
| JP2487687A JPS62223227A (ja) | 1985-03-08 | 1987-02-06 | ジニトリルとジアミン又はアミノニトリルからのポリアミドの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60044939A Division JPS61205221A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | ニトリルとアミンからのアミドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62223227A true JPS62223227A (ja) | 1987-10-01 |
| JPH0137409B2 JPH0137409B2 (ja) | 1989-08-07 |
Family
ID=26362449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2487687A Granted JPS62223227A (ja) | 1985-03-08 | 1987-02-06 | ジニトリルとジアミン又はアミノニトリルからのポリアミドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62223227A (ja) |
-
1987
- 1987-02-06 JP JP2487687A patent/JPS62223227A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0137409B2 (ja) | 1989-08-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |