JPS62230794A - ハロプロピルトリアルコキシシラン及びハロプロピルアルキルアルコキシシランの新規製造方法 - Google Patents
ハロプロピルトリアルコキシシラン及びハロプロピルアルキルアルコキシシランの新規製造方法Info
- Publication number
- JPS62230794A JPS62230794A JP61301825A JP30182586A JPS62230794A JP S62230794 A JPS62230794 A JP S62230794A JP 61301825 A JP61301825 A JP 61301825A JP 30182586 A JP30182586 A JP 30182586A JP S62230794 A JPS62230794 A JP S62230794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cyclooctadiene
- methyl
- reaction
- iridium
- following formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 42
- -1 allyl halides Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 16
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 claims description 14
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 4
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 claims description 3
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical group CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 28
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 abstract description 8
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 10
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 4
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- DNZZPKYSGRTNGK-PQZOIKATSA-N (1z,4z)-cycloocta-1,4-diene Chemical compound C1C\C=C/C\C=C/C1 DNZZPKYSGRTNGK-PQZOIKATSA-N 0.000 description 1
- VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene Chemical compound C\1C\C=C/CC\C=C/1 VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N 0.000 description 1
- LGXAANYJEHLUEM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tri(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1C(C)C LGXAANYJEHLUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHXAOPZTJOUYKM-UHFFFAOYSA-N 3-Chloro-2-methylpropene Chemical compound CC(=C)CCl OHXAOPZTJOUYKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBMMYRPBNQOFGU-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCCl BBMMYRPBNQOFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAAEGLATBQCKH-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCO[SiH](C)C Chemical compound CCCCCCCCO[SiH](C)C PQAAEGLATBQCKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020323 ClF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100441092 Danio rerio crlf3 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N chloro(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(OCC)OCC JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBVJWBYNOWIOFJ-UHFFFAOYSA-N chloro(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](Cl)(OC)OC CBVJWBYNOWIOFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- DNZZPKYSGRTNGK-UHFFFAOYSA-N cycloocta-1,4-diene Chemical compound C1CC=CCC=CC1 DNZZPKYSGRTNGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009089 cytolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[SiH](OC)OC YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical class [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N tributoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH](OCCCC)OCCCC UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
杢1月V夏月1分1一
本発明はハロプロビルトリアルコキシシラン及びハロプ
ロピルアルキルアルコキシシランの新規製造方法に関す
るものである。より詳細には本発明はイリジウム含有触
媒の存在において、ハロゲン化アリルをトリアルコキシ
シラン及びアルキルアルコキシシランによりハイドロシ
レーション(hydrosi 1aLion)する方法
に関する。
ロピルアルキルアルコキシシランの新規製造方法に関す
るものである。より詳細には本発明はイリジウム含有触
媒の存在において、ハロゲン化アリルをトリアルコキシ
シラン及びアルキルアルコキシシランによりハイドロシ
レーション(hydrosi 1aLion)する方法
に関する。
良股α改艦
塩化アリル及び関連化合物のハイドロシレーションは、
従来は白金又はロジウム含有化合物を触媒として行なわ
れてきた1例えば白金含有ハイドロシレーション触媒の
使用は、米国特許第2.823.218号、第3,81
4.730号、第3,715.334号、第3,516
,946号、第3 、474.123号、第3.419
,593号、第3,220.972号、第3,188,
299号、第3.178.464号、第3,159,6
01号、ドイツ特許第1,165,028号及び英国公
開特許出願第2.019,426A号に記載されている
。塩化ロジウム化合物によるハイドロシレーションは、
米国特許第3,296,291号及び第3.564.2
66号に記載されている。しかしこれらの触媒の使用を
通して得られる収量はかなり低く 、+111ち40な
いし70%である。このように収量の低いことは、競合
する還元反応の存在によるものと信じられていた6例え
ば白金触媒を用いて塩化アリルにトリクロロシランを添
加すると、結果的に下ジュルナール・オプシチェイ・キ
ーミー(Zburnal 0bshchei Kb
isaie)、44巻、11号、2409−2442頁
に、上記の還元反応の速度はシランのハロゲン原子が有
機原子団で置換されるにつれて、恐らく立体因子により
かなり増大すると報告されている6例えばクロロ白金酸
触媒上でのトリメトキシシランと塩化アリルとの反応で
は、3−クロロ−プロピルトリメトキシシラン生成する
収率は40%よりも少ない。還元反応を通して発生した
主な副産物はトリメトキシクロロシランとプロピレンで
ある.競合する還元反応の速度の増大が、所望のハイド
ロシレーション生成物の収率の低下に対応するものと考
えられる。
従来は白金又はロジウム含有化合物を触媒として行なわ
れてきた1例えば白金含有ハイドロシレーション触媒の
使用は、米国特許第2.823.218号、第3,81
4.730号、第3,715.334号、第3,516
,946号、第3 、474.123号、第3.419
,593号、第3,220.972号、第3,188,
299号、第3.178.464号、第3,159,6
01号、ドイツ特許第1,165,028号及び英国公
開特許出願第2.019,426A号に記載されている
。塩化ロジウム化合物によるハイドロシレーションは、
米国特許第3,296,291号及び第3.564.2
66号に記載されている。しかしこれらの触媒の使用を
通して得られる収量はかなり低く 、+111ち40な
いし70%である。このように収量の低いことは、競合
する還元反応の存在によるものと信じられていた6例え
ば白金触媒を用いて塩化アリルにトリクロロシランを添
加すると、結果的に下ジュルナール・オプシチェイ・キ
ーミー(Zburnal 0bshchei Kb
isaie)、44巻、11号、2409−2442頁
に、上記の還元反応の速度はシランのハロゲン原子が有
機原子団で置換されるにつれて、恐らく立体因子により
かなり増大すると報告されている6例えばクロロ白金酸
触媒上でのトリメトキシシランと塩化アリルとの反応で
は、3−クロロ−プロピルトリメトキシシラン生成する
収率は40%よりも少ない。還元反応を通して発生した
主な副産物はトリメトキシクロロシランとプロピレンで
ある.競合する還元反応の速度の増大が、所望のハイド
ロシレーション生成物の収率の低下に対応するものと考
えられる。
従ってアルコキシシラン及びアルキルアルコキシシラン
の夫々から従来技術の方法を用いて得られるよりも高い
収率でハロプロピルアルコキシシラン及びハロプロビル
アルキルアルコキシシランを効果的に生成させるハイド
ロシレーション方法を開発することは大いに要望されて
いる.本出願者は75%よりも高い収率で製造すること
のできる本方法を開発することにより、この目標を達成
した.本方法を通じて実現化されるこれらの生成物の収
率の改善は、イリジウム含有触媒が1−オレフィン類の
ハイドロシリニージョン(hydrosilyatio
n)において効果が無いと述べる文献(INえばハ
′口z I ニー2 ゝ LL
!7A11Ji[ I ridiu+* C
o+*plexes as Hydros
ilyation C atalysis].ジャー
ナル・オフ・モレキュラー・カタリシスしJ ouna
l of MolecularC atal)+B
is]、29巻(1985年)60頁参照)の見地から
すれば全く予想出来ないことである。
の夫々から従来技術の方法を用いて得られるよりも高い
収率でハロプロピルアルコキシシラン及びハロプロビル
アルキルアルコキシシランを効果的に生成させるハイド
ロシレーション方法を開発することは大いに要望されて
いる.本出願者は75%よりも高い収率で製造すること
のできる本方法を開発することにより、この目標を達成
した.本方法を通じて実現化されるこれらの生成物の収
率の改善は、イリジウム含有触媒が1−オレフィン類の
ハイドロシリニージョン(hydrosilyatio
n)において効果が無いと述べる文献(INえばハ
′口z I ニー2 ゝ LL
!7A11Ji[ I ridiu+* C
o+*plexes as Hydros
ilyation C atalysis].ジャー
ナル・オフ・モレキュラー・カタリシスしJ ouna
l of MolecularC atal)+B
is]、29巻(1985年)60頁参照)の見地から
すれば全く予想出来ないことである。
水発1B矢!旬一
本発明は下記式
%式%
但し R及びR1は各別個で1ないし10個の炭素原子
を有するアルキル基であり、 R2は水素又は1ないし6個の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、 Xは塩素、臭素又は沃素であり、そしてnは0、1又は
2の数値を有する、 を有するハロプロピルトリアルコキシシラン及びハロブ
ロビルアルキルアルコキシシランの新規製造方法を含む
もので、該方法は下記式 但しR,R1,及びnは上記に定義した通りである、 のシランを、下記式 %式% 但し R2及びnは上に定義された通りである、の化合
物と、触媒量の下記式 %式%)] 但し Qは1.3−ブタジェン、1.3−ヘキサジエン
、■,3−シクロへキサジエン、■。
を有するアルキル基であり、 R2は水素又は1ないし6個の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、 Xは塩素、臭素又は沃素であり、そしてnは0、1又は
2の数値を有する、 を有するハロプロピルトリアルコキシシラン及びハロブ
ロビルアルキルアルコキシシランの新規製造方法を含む
もので、該方法は下記式 但しR,R1,及びnは上記に定義した通りである、 のシランを、下記式 %式% 但し R2及びnは上に定義された通りである、の化合
物と、触媒量の下記式 %式%)] 但し Qは1.3−ブタジェン、1.3−ヘキサジエン
、■,3−シクロへキサジエン、■。
3−シクロオクタジエン、1.5−シクロオクタジエン
及びノルボルナジェンからなる群から選ばれ、そして しは塩素、臭素又は沃素である、 を有するイリジウム含有二量体錯体の存在において反応
させることからなるものである。
及びノルボルナジェンからなる群から選ばれ、そして しは塩素、臭素又は沃素である、 を有するイリジウム含有二量体錯体の存在において反応
させることからなるものである。
本方法において有用なシラン類は、下記式Rn5i(O
R’)3−n’ 但し R及びR1は各々1ないし10個の炭素原子を有
するアルキル基で、 nは0.1又は2である、 のシラン類である。本発明の方法において有用である好
適なシラン物質は、nが0でR及びIt’がメチル、エ
チル、プロピル、イン10ビル又はブチル基であるシラ
ンを含む6本発明の方法で用いられるシランの例は、ト
リエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリプロポキ
シシラン、トリーイソプロポキシシラン、トリブトキシ
シラン、メチルジメトキシシラン、エチルジメトキシシ
ラン、メチルジェトキシシラン、ジメチルメトキシシラ
ン、トリオクチロキシシラン、メチルジェトキシシラン
及びジメチルオクチロキシシランである。
R’)3−n’ 但し R及びR1は各々1ないし10個の炭素原子を有
するアルキル基で、 nは0.1又は2である、 のシラン類である。本発明の方法において有用である好
適なシラン物質は、nが0でR及びIt’がメチル、エ
チル、プロピル、イン10ビル又はブチル基であるシラ
ンを含む6本発明の方法で用いられるシランの例は、ト
リエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリプロポキ
シシラン、トリーイソプロポキシシラン、トリブトキシ
シラン、メチルジメトキシシラン、エチルジメトキシシ
ラン、メチルジェトキシシラン、ジメチルメトキシシラ
ン、トリオクチロキシシラン、メチルジェトキシシラン
及びジメチルオクチロキシシランである。
本発明の方法において有用なハロゲン化アリル及びその
誘導体は、下記式 %式% 但し R2は水素又は1ないし約6個の炭素原子を有す
るアルキル基であり、 Xは塩素、臭素又は沃素である、 を有するものである。塩化アリル及び塩化メタリルが好
適である。経済的な配慮からすれば塩化アリルが最も好
適である。
誘導体は、下記式 %式% 但し R2は水素又は1ないし約6個の炭素原子を有す
るアルキル基であり、 Xは塩素、臭素又は沃素である、 を有するものである。塩化アリル及び塩化メタリルが好
適である。経済的な配慮からすれば塩化アリルが最も好
適である。
本発明の方法において使用されるシラン出発原料対ハロ
ゲン化アリルの重量比は、5:1ないし1:5の範囲で
あることができ、好適には1.5:1ないし1:1.5
の範囲である。最も好適にはシラン対ハロゲン化アリル
の比は約1:1である。
ゲン化アリルの重量比は、5:1ないし1:5の範囲で
あることができ、好適には1.5:1ないし1:1.5
の範囲である。最も好適にはシラン対ハロゲン化アリル
の比は約1:1である。
本発明の方法において有用なイリジウム触媒は下記式
%式%]
但し Qは1,3−ブタジェン、1,3−へキサジエン
、1,3−シクロへキサジエン、1,3゜−シクロオク
タジエン、1.5−シクロオクタジエン及びノルボルナ
ジェンからなる群から選ばれ、そして Lは塩素、臭素又は沃素である、 のイリジウムのハロゲン化ジエン錯体の二量体からなる
。好適な触媒組成は、Lが上記のもので、Qが1,5−
シクロオクタジエンである。Lが塩素で、Qが1.5−
シクロオクタジエンである触媒組成が最も好適である。
、1,3−シクロへキサジエン、1,3゜−シクロオク
タジエン、1.5−シクロオクタジエン及びノルボルナ
ジェンからなる群から選ばれ、そして Lは塩素、臭素又は沃素である、 のイリジウムのハロゲン化ジエン錯体の二量体からなる
。好適な触媒組成は、Lが上記のもので、Qが1,5−
シクロオクタジエンである。Lが塩素で、Qが1.5−
シクロオクタジエンである触媒組成が最も好適である。
本発明の方法において利用される触媒の製造に関しては
文献中で充分に報告されている。例えば、[Ir(シク
ロオフジエン)ClJ2 はツアイトシュリフト・フ
ェア・ナツールフオルシュング(Z。
文献中で充分に報告されている。例えば、[Ir(シク
ロオフジエン)ClJ2 はツアイトシュリフト・フ
ェア・ナツールフオルシュング(Z。
NaLurrorsch、 )、B分冊(’r’eil
13)、20巻(1965年)602頁、及びヘミ
ッシエ・ベリヒテ(Chew、 Ber、 )、99巻
(1966年)3610頁に記載されている。これらの
製造法は両者とも水性エタノールの存在で、N R21
rClsのようなイリジウム(■)塩を1,5−シクロ
オクタジエンで還元することを含んでいる。
13)、20巻(1965年)602頁、及びヘミ
ッシエ・ベリヒテ(Chew、 Ber、 )、99巻
(1966年)3610頁に記載されている。これらの
製造法は両者とも水性エタノールの存在で、N R21
rClsのようなイリジウム(■)塩を1,5−シクロ
オクタジエンで還元することを含んでいる。
II 2 I rCl6,6H20及び1,3−シフ1
コオクタジエンとの反応によるl、 l’r(1、5−
シクロオクタジエン)1.の製造は、更にヘミッシェ・
ベリヒテ(Cbem、 Ber、 )、99巻(196
6年)3610頁に記載されている。ジャーナル・オブ
・オルガノメタラージカル・ケミストリー(J our
nal ofOrganometallurgica
l Chemistry)、92巻(1975年)1
07頁においてはNa21rClsと1.4−シクロオ
クタジエンの反応によるこの物質の生成が記載されてで
いる。
コオクタジエンとの反応によるl、 l’r(1、5−
シクロオクタジエン)1.の製造は、更にヘミッシェ・
ベリヒテ(Cbem、 Ber、 )、99巻(196
6年)3610頁に記載されている。ジャーナル・オブ
・オルガノメタラージカル・ケミストリー(J our
nal ofOrganometallurgica
l Chemistry)、92巻(1975年)1
07頁においてはNa21rClsと1.4−シクロオ
クタジエンの反応によるこの物質の生成が記載されてで
いる。
ジャーナル・オブ・オルガノメタラージカル・ケミスト
リー(Journal of Organomet
allurHical Cbemistry)、13
5巻(1977年)395頁においては、H2I rC
lsと1,5−シクロオクタジエンとのインプロパツー
ル中の反応による[HClIr(1,5−シクロオクタ
ジエン>c 1.1.の生成が記載されている0次いで
この反応の生成物は水性酢酸ナトリウムで脱ハロゲン化
水素されて[Ir(1,5−シクロオクタジエン)Cl
hとなる。
リー(Journal of Organomet
allurHical Cbemistry)、13
5巻(1977年)395頁においては、H2I rC
lsと1,5−シクロオクタジエンとのインプロパツー
ル中の反応による[HClIr(1,5−シクロオクタ
ジエン>c 1.1.の生成が記載されている0次いで
この反応の生成物は水性酢酸ナトリウムで脱ハロゲン化
水素されて[Ir(1,5−シクロオクタジエン)Cl
hとなる。
ケミカル・アブストラクト(Chemical A
bsLrack)、85巻、96591X(1976年
)に記載されたような沃素錯体1.Ir(1,5−シク
ロオクタジエン)工]、の生成は、水性エタノール中で
のIr1s、3H20及び1.5−シクロオクタジエン
の反応を含む。
bsLrack)、85巻、96591X(1976年
)に記載されたような沃素錯体1.Ir(1,5−シク
ロオクタジエン)工]、の生成は、水性エタノール中で
のIr1s、3H20及び1.5−シクロオクタジエン
の反応を含む。
1.5−シクロオクタジエンを含むもの以外の触媒用錯
体は、[Ir(2,5−シクロオクタジエン)]2物質
と、過剰の所望のジエンとの単純な置換反応によって製
造することができる。こうして製造された触媒は次いで
固体として回収され得る。
体は、[Ir(2,5−シクロオクタジエン)]2物質
と、過剰の所望のジエンとの単純な置換反応によって製
造することができる。こうして製造された触媒は次いで
固体として回収され得る。
本発明の方法において使用されるイリジウム含有触媒の
濃度は反応温度及び時間によるが、一般に1吏用される
シラン及びハロゲン化アリルの合計のliiに対してイ
リジウムが約51)I)IIよりも大きくなければなら
ない、触媒濃度の上限は重要な問題ではないが、主とし
て触媒の溶解度及び経費を考慮して定められる。好適に
は触媒濃度はシラン及びハロゲン化アリルの合計のtt
に対してイリジウムが約40ppI11よりも大きい必
要があり、最も好適にはイリジウムが約550−900
ppの範囲内にあるべきである。
濃度は反応温度及び時間によるが、一般に1吏用される
シラン及びハロゲン化アリルの合計のliiに対してイ
リジウムが約51)I)IIよりも大きくなければなら
ない、触媒濃度の上限は重要な問題ではないが、主とし
て触媒の溶解度及び経費を考慮して定められる。好適に
は触媒濃度はシラン及びハロゲン化アリルの合計のtt
に対してイリジウムが約40ppI11よりも大きい必
要があり、最も好適にはイリジウムが約550−900
ppの範囲内にあるべきである。
本発明の方法に含まれるハイドロシレーション反応は約
20℃ないし200°Cの温度で、好適には約50℃な
いし約150℃の間で、最も好適には約60℃ないし約
125℃の間で行う事ができる0反応の圧力は特に問題
ではない。反応は常圧、減圧又は過圧で行うことができ
る1本発明の方法は、およそ大気圧で行う事が好ましい
。
20℃ないし200°Cの温度で、好適には約50℃な
いし約150℃の間で、最も好適には約60℃ないし約
125℃の間で行う事ができる0反応の圧力は特に問題
ではない。反応は常圧、減圧又は過圧で行うことができ
る1本発明の方法は、およそ大気圧で行う事が好ましい
。
本発明の方法で用いられる反応時間は触媒の量又は反応
温度などの他の条件によって変化する。
温度などの他の条件によって変化する。
触媒濃度及び反応温度が高ければ高い程、反応時間は短
くなる。−最に触媒濃度が使用されるシラン及びハロゲ
ン化アリルの合計の重菫に対してイリジウムとして5O
−900pp−の範囲にあり、反応温度が約60℃ない
し約125℃の間にあるとき、反応の収率は反応時間を
長くしても著しい影響を受けないので、−mに反応時間
は約2−3時間で充分である。
くなる。−最に触媒濃度が使用されるシラン及びハロゲ
ン化アリルの合計の重菫に対してイリジウムとして5O
−900pp−の範囲にあり、反応温度が約60℃ない
し約125℃の間にあるとき、反応の収率は反応時間を
長くしても著しい影響を受けないので、−mに反応時間
は約2−3時間で充分である。
本発明の方法に含まれるハイドロシレーション反応には
一最に溶剤は不必要である。しかし溶剤の使用により反
応混合物中の触媒の溶解度が増大するので望ましいとい
える。溶剤を使用する場合、本発明の方法において有用
な溶剤とは反応剤、触媒又は反応生成物と逆反応しない
溶剤である。
一最に溶剤は不必要である。しかし溶剤の使用により反
応混合物中の触媒の溶解度が増大するので望ましいとい
える。溶剤を使用する場合、本発明の方法において有用
な溶剤とは反応剤、触媒又は反応生成物と逆反応しない
溶剤である。
適当な溶剤はキシレン、トルエン及びトリーイソプロピ
ルベンゼンを含む。
ルベンゼンを含む。
本発明の方法により得られるハロプロビルトリアルコキ
シシラン及びハロブロビルアルキルアルコキシシランは
、例えば有機官能性シラン カップリング剤の製造の中
間体として有用である。本発明の生成物を該カップリン
グ剤に転化させることは、1列えばつオルター・ノール
(WalLerNote>著ケミストリー・アンド・テ
クノロジー・オブ・シリコーンズ(Cbemistry
and ’I’ecbnology of
5ilicones)(アカデミ−・プレス[Acad
eny P ress]、1968年発行)の147
.148及び158頁に示されたように、この分野では
周知である。転化反応は基本的にはハロゲン成分を例え
ば水酸基、アミン又はメルカプト基で置換することから
なる。
シシラン及びハロブロビルアルキルアルコキシシランは
、例えば有機官能性シラン カップリング剤の製造の中
間体として有用である。本発明の生成物を該カップリン
グ剤に転化させることは、1列えばつオルター・ノール
(WalLerNote>著ケミストリー・アンド・テ
クノロジー・オブ・シリコーンズ(Cbemistry
and ’I’ecbnology of
5ilicones)(アカデミ−・プレス[Acad
eny P ress]、1968年発行)の147
.148及び158頁に示されたように、この分野では
周知である。転化反応は基本的にはハロゲン成分を例え
ば水酸基、アミン又はメルカプト基で置換することから
なる。
下記に挙げる実施例は本発明のある態様を説明するもの
で、より詳細に本発明の11価を評価する手段を示して
いる。しかし実施例は本発明を例示するためにのみ述べ
られるもので、特許請求の範囲に述べられている事項以
外は本発明を限定するものと解釈すべきではない、総て
の部及びパーセントは特に断らない限り重櫃を基準とし
ている。
で、より詳細に本発明の11価を評価する手段を示して
いる。しかし実施例は本発明を例示するためにのみ述べ
られるもので、特許請求の範囲に述べられている事項以
外は本発明を限定するものと解釈すべきではない、総て
の部及びパーセントは特に断らない限り重櫃を基準とし
ている。
犬11性−」−
“スェージロック(S wagelock)″で蓋締め
したステンレスw4製の3ccのチューブ中に、トリエ
トキシシラン(1,0g 、0.006モル)、塩化ア
リル(0,5g 、0.006モル)、及びキシレン(
0,5g>を入れた。又その中に100100pp、1
9mg)の [Ir(1,5−シフ1フオクタジエン>
ClF3を導入した。
したステンレスw4製の3ccのチューブ中に、トリエ
トキシシラン(1,0g 、0.006モル)、塩化ア
リル(0,5g 、0.006モル)、及びキシレン(
0,5g>を入れた。又その中に100100pp、1
9mg)の [Ir(1,5−シフ1フオクタジエン>
ClF3を導入した。
次いで反応混合物を流9js層砂洛中で80℃に加熱し
た。この温度で4時間保持し、その後反応混合物を室温
に冷却した。
た。この温度で4時間保持し、その後反応混合物を室温
に冷却した。
反応生成物の分析の結果、3−クロt]プロピル −
トリエトキシシランが75%より僅かに多い収率で生成
したことが確認された。
トリエトキシシランが75%より僅かに多い収率で生成
したことが確認された。
火ハ調−?−
メチルジェトキシシラン(5,0g 、0.047モル
)、塩化アリル(3,6g 、0.047モル)、キシ
レン(0,4g)及び0.95.gの触媒(1001)
I)M )からなる反応混合物を45ccのバー(Pa
rr)型ボンベに導入した以外は実施例1に記載された
方法に従った。
)、塩化アリル(3,6g 、0.047モル)、キシ
レン(0,4g)及び0.95.gの触媒(1001)
I)M )からなる反応混合物を45ccのバー(Pa
rr)型ボンベに導入した以外は実施例1に記載された
方法に従った。
反応生成物の分析の結果、3−クロロプロピルメチルジ
ェトキシシランが約70%の収率で生成したことが確認
された。
ェトキシシランが約70%の収率で生成したことが確認
された。
火」l引−j−
メチルジェトキシシラン(1,0g 、0.007モル
)、塩化アリル(0,6g 、0.007モル)、キシ
レン(0,4g)及び0.21.gの触媒(100pp
+n)からなる反応混合物以外は実施例1に記載された
方法に従った。
)、塩化アリル(0,6g 、0.007モル)、キシ
レン(0,4g)及び0.21.gの触媒(100pp
+n)からなる反応混合物以外は実施例1に記載された
方法に従った。
反応生成物の分析の結果、3−クロロプロピルメチルジ
ェトキシシランが75%よりも僅かに多い収率で生成し
たことが確コ2された。
ェトキシシランが75%よりも僅かに多い収率で生成し
たことが確コ2された。
実」劃[ユ先
トリメトキシシラン(1,0g 、0.008モル)、
塩化アリル(0,6g 、0.006モル)、キシレン
(0,4g)及び0.18−gの触媒(100pp請)
からなる反応混合物以外は実施例】に記載された方法に
従った。
塩化アリル(0,6g 、0.006モル)、キシレン
(0,4g)及び0.18−gの触媒(100pp請)
からなる反応混合物以外は実施例】に記載された方法に
従った。
反応生成物の分析の結果、3−クロロプロピルトリメト
キシシランの収率が75%を超えたことが確認された。
キシシランの収率が75%を超えたことが確認された。
火舖[5
トリイソプロポキシシラン(5,0g 、0.024モ
ル)、塩化アリル(1,9g 、0.024モル)、キ
シレン(2,0g>及び1.91gの触媒(200pp
+* )からなる反応混合物を45ccのバー型ボンベ
中に導入した。
ル)、塩化アリル(1,9g 、0.024モル)、キ
シレン(2,0g>及び1.91gの触媒(200pp
+* )からなる反応混合物を45ccのバー型ボンベ
中に導入した。
次いで反応混合物を流動層砂洛中で150℃に加熱した
。この温度で6時間保持し、その後反応混合物を室温に
冷却した。
。この温度で6時間保持し、その後反応混合物を室温に
冷却した。
反応生成物の分析の結果、クロロプロピルトリイソプロ
ポキシシランが70%を超える収率で生成したことが確
認された。
ポキシシランが70%を超える収率で生成したことが確
認された。
101−[
反応温度を80℃から100℃に上げた他は実施例1記
載の方法に従った0反応時間は4時間に保持した。
載の方法に従った0反応時間は4時間に保持した。
反応生成物の分析の結果、3−クロロプロピルトリエト
キシシランが70%を超える収率で生成した。
キシシランが70%を超える収率で生成した。
火施11−乙
反応温度を80℃から135℃に上げた他は実施例1記
載の方法に従った。反応時間は4時間に保持した。
載の方法に従った。反応時間は4時間に保持した。
反応生成物の分析の結果、3−クロロプロビルトリエ■
・キシシランが約75%の収率で生成したことが確認さ
れた。
・キシシランが約75%の収率で生成したことが確認さ
れた。
支l−!lI免犬−hlij−Ml−
1〉触媒として02P tc l5(100ppm >
を用い、及び2)反応温度を100℃に上げた以外は実
施例1記載の方法に従った。
を用い、及び2)反応温度を100℃に上げた以外は実
施例1記載の方法に従った。
反応生成物の分析の結果、3−クロロプロピルトリエト
キシシラン 一方生成混合物の主成分はり四ロトリエトキシシラン及
びテトラエトキシシランから成っていた。
キシシラン 一方生成混合物の主成分はり四ロトリエトキシシラン及
びテトラエトキシシランから成っていた。
ル較ヌ」1殊−j工
1)使用した触媒がPtCl□(P P ht)2であ
り、そして2)反応温度を150℃に上げた以外は実施
例1記載の方法に従った。
り、そして2)反応温度を150℃に上げた以外は実施
例1記載の方法に従った。
生成混合物の分析の結果、3−クロロプロピルトリエト
キシシランは生成しないことが明らかにされた.しかし
テトラエトキシシラン、クロロトリエトキシシラン並び
に未反応のトリエトキシシラン及び塩化アリルが存在す
ることが認められた。
キシシランは生成しないことが明らかにされた.しかし
テトラエトキシシラン、クロロトリエトキシシラン並び
に未反応のトリエトキシシラン及び塩化アリルが存在す
ることが認められた。
雌側UIILj−
1)使用した触媒がll’th(1 、5−シクロオク
タジエン)Cllzであり、そして反応温度を135℃
に上げた以外は実施例1記載の方法に従った。
タジエン)Cllzであり、そして反応温度を135℃
に上げた以外は実施例1記載の方法に従った。
生成混合物の分析の結果3−り1コ1コプロビルトリエ
トキシシランは生成しないことが明らかにされた.反応
混合物の主な生成物は、テトラエトキシシラン とが認められた。
トキシシランは生成しないことが明らかにされた.反応
混合物の主な生成物は、テトラエトキシシラン とが認められた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR及びR^1は各別個で1ないし6個の炭素原子を
有するアルキル基であり、 R^2は水素又は1ないし6個の炭素原子を有するアル
キル基であり、 Xは塩素、臭素又は沃素であり、そして nは0、1又は2の数値を有する、 の化合物を製造する方法において、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR及びR^1及びnは上記で定義された意味を有す
る、 を有するシランを、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR^2及びXは上記で定義された通りである、 を有する化合物と、触媒量の下記式 [Ir(Q)L]_2 但しQは1,3−ブタジエン、1,3−ヘキサジエン、
1,3−シクロヘキサジエン、1, 3−シクロオクタジエン、1,5−シクロ オクタジエン及びノルボルナジエンからな る群から選ばれ、そして Lは塩素、臭素又は沃素である、 を有するイリジウム含有二量体錯体の存在において反応
させることを特徴とする方法。 2、Rがメチル、エチル、プロピル、イソプロピル及び
ブチルからなる群から選ばれることを特徴とする特許請
求の範囲1項記載の方法。 3、R^1がメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
及びブチルからなる群から選ばれることを特徴とする特
許請求の範囲1項記載の方法。 4、Rがエチルであり、nが0に等しく、XがClであ
り、そしてR^2がHであることを特徴とする特許請求
の範囲1項記載の方法。 5、Rがメチルであり、R^1がメチルであり、nが0
に等しく、XがClであり、そしてR^2がHであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲1項記載の方法。 6、Rがメチルであり、R^1がエチルであり、nが1
に等しく、XがClであり、そしてR^2がHであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲1項記載の方法。 7、R^1がメチルであり、nが0に等しく、XがCl
であり、そしてR^2がHであることを特徴とする特許
請求の範囲1項記載の方法。 8、R^1がイソ−プロピルであり、nが0に等しく、
XがClであり、そしてR^2がHであることを特徴と
する特許請求の範囲1項記載の方法。 9、Qが1,5−シクロオクタジエンであり、そしてL
がClであることを特徴とする特許請求の範囲1項記載
の方法。 10、該反応が約20℃ないし約200℃の温度で行な
われることを特徴とする特許請求の範囲1項記載の方法
。 11、温度が約50℃ないし約150℃であることを特
徴とする特許請求の範囲10項記載の方法。 12、温度が約60℃ないし約125℃であることを特
徴とする特許請求の範囲12項記載の方法。 13、シラン及びハロゲン化アリルの合計重量に対し少
なくとも約40ppmのイリジウムが存在するような量
のイリジウム含有二量体錯体が存在することを特徴とす
る特許請求の範囲1項記載の方法。 14、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR及びR^1は各別個でメチル、エチル又はイソ−
プロピルであり、 nは0又は1である、 の化合物を製造する方法において、約20℃ないし約2
00℃の温度で: 下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しR及びR^1及びnは上記で定義された意味を有す
る、 を有するシランを、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する化合物と、触媒量の [Ir(1,5−シクロオクタジエン)Cl]_2の存
在において反応させることを特徴とする方法。 15、該触媒量の [Ir(1,5−シクロオクタジエン)Cl]_2が、
シラン及びハロゲン化アリルの合計重量に対しイリジウ
ムとして約40ppmないし約900ppm存在するよ
うな量であることを特徴とする特許請求の範囲15項記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/846,176 US4658050A (en) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | Novel process for the preparation of halopropyltrialkoxysilanes and halopropylalkylalkoxysilanes |
| US846176 | 1986-03-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62230794A true JPS62230794A (ja) | 1987-10-09 |
| JPH0257076B2 JPH0257076B2 (ja) | 1990-12-03 |
Family
ID=25297153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61301825A Granted JPS62230794A (ja) | 1986-03-31 | 1986-12-19 | ハロプロピルトリアルコキシシラン及びハロプロピルアルキルアルコキシシランの新規製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4658050A (ja) |
| EP (1) | EP0239677B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62230794A (ja) |
| AT (1) | ATE49974T1 (ja) |
| CA (1) | CA1307287C (ja) |
| DE (1) | DE3668623D1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06157555A (ja) * | 1992-11-16 | 1994-06-03 | Agency Of Ind Science & Technol | 3−ハロプロピルトリアルコキシシラン類の製造方法 |
| JP2011513405A (ja) * | 2008-03-06 | 2011-04-28 | ダウ・コーニング・コーポレイション | ハロアルキルアルコキシシランおよびハロアルキルハロシランの製造方法 |
| WO2017154846A1 (ja) * | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | イリジウム錯体等を用いたアリル化合物のヒドロシリル化によるシリル化合物の製造方法 |
| JP2020525568A (ja) * | 2017-06-26 | 2020-08-27 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | 脂肪族不飽和アルコキシシラン及び水素末端オルガノシロキサンオリゴマーをヒドロシリル化して、イリジウム触媒を使用してポリオルガノシロキサンを官能化するのに有用なアルコキシシリル末端ポリマーを調製する方法 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3823450A1 (de) * | 1988-07-11 | 1990-02-08 | Degussa | Verfahren zur herstellung von reinen 3-butenyltriorganyloxysilanen die zwischenprodukte 3,4-dichlorbutyltriorganyloxysilane und verwendung der endprodukte |
| US5559264A (en) * | 1994-02-24 | 1996-09-24 | Osi Specialities, Inc. | Process for making chloroorganosilicon compounds |
| DE59509258D1 (de) * | 1994-10-25 | 2001-06-21 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von 3-Halogen- bzw. -Pseudohalogen-alkylsilanestern |
| CA2161181A1 (en) * | 1994-10-25 | 1996-04-26 | Frank Kropfgans | Process for the preparation of 3-halo- and -pseudohaloalkylsilane esters |
| DE19632157A1 (de) * | 1996-08-09 | 1998-02-12 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von 3-Halogen-Propyl-Organosilanen |
| JP3856081B2 (ja) * | 2000-05-15 | 2006-12-13 | 信越化学工業株式会社 | ハロプロピルジメチルクロロシラン化合物の製造方法 |
| DE10053037C1 (de) * | 2000-10-26 | 2002-01-17 | Consortium Elektrochem Ind | Herstellung von Organosilanen |
| DE10232663C1 (de) * | 2002-07-18 | 2003-10-16 | Wacker Chemie Gmbh | Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen |
| US6872845B2 (en) * | 2003-03-03 | 2005-03-29 | General Electric Company | Process for making haloorganoalkoxysilanes |
| WO2006045533A1 (de) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Wacker Chemie Ag | Herstellung von organosilanen in gegenwart von iridium-katalysatoren und cokatalysatoren |
| DE102007011158A1 (de) | 2007-03-07 | 2008-09-11 | Wacker Chemie Ag | Iridiumkatalysiertes Herstellungsverfahren für siliciumorganische Verbindungen |
| US9556208B2 (en) | 2012-10-12 | 2017-01-31 | Momentive Performance Materials Inc. | Hydrosilylation synthesis of haloalkylorganosilanes using peroxide promoters |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE553159A (ja) * | 1955-12-05 | |||
| US3658866A (en) * | 1968-08-26 | 1972-04-25 | Toray Industries | Catalyst for a hydrosilation reactor |
| US3714212A (en) * | 1971-12-30 | 1973-01-30 | Stauffer Wacker Silicone Corp | Cobalt-platinum catalyst |
| US3907852A (en) * | 1972-06-23 | 1975-09-23 | Exxon Research Engineering Co | Silylhydrocarbyl phosphines and related compounds |
| EP0061241B1 (en) * | 1981-03-20 | 1985-11-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Platinum-, rhodium-, and iridium-nitrogen complex catalysts |
| DE3131954C2 (de) * | 1981-08-13 | 1984-10-31 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Metallkomplexe von polymeren, gegebenenfalls vernetzten Organosiloxanaminen, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
| DE3404703A1 (de) * | 1984-02-10 | 1985-09-05 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von 3-chlorpropyltrichlorsilan |
-
1986
- 1986-03-31 US US06/846,176 patent/US4658050A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-05 CA CA000524638A patent/CA1307287C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-19 JP JP61301825A patent/JPS62230794A/ja active Granted
- 1986-12-19 DE DE8686117784T patent/DE3668623D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-19 EP EP86117784A patent/EP0239677B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-19 AT AT86117784T patent/ATE49974T1/de active
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06157555A (ja) * | 1992-11-16 | 1994-06-03 | Agency Of Ind Science & Technol | 3−ハロプロピルトリアルコキシシラン類の製造方法 |
| JP2011513405A (ja) * | 2008-03-06 | 2011-04-28 | ダウ・コーニング・コーポレイション | ハロアルキルアルコキシシランおよびハロアルキルハロシランの製造方法 |
| WO2017154846A1 (ja) * | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | イリジウム錯体等を用いたアリル化合物のヒドロシリル化によるシリル化合物の製造方法 |
| JPWO2017154846A1 (ja) * | 2016-03-09 | 2019-02-21 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | イリジウム錯体等を用いたアリル化合物のヒドロシリル化によるシリル化合物の製造方法 |
| JP2020525568A (ja) * | 2017-06-26 | 2020-08-27 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | 脂肪族不飽和アルコキシシラン及び水素末端オルガノシロキサンオリゴマーをヒドロシリル化して、イリジウム触媒を使用してポリオルガノシロキサンを官能化するのに有用なアルコキシシリル末端ポリマーを調製する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1307287C (en) | 1992-09-08 |
| EP0239677A3 (en) | 1988-07-20 |
| JPH0257076B2 (ja) | 1990-12-03 |
| US4658050A (en) | 1987-04-14 |
| DE3668623D1 (de) | 1990-03-08 |
| ATE49974T1 (de) | 1990-02-15 |
| EP0239677B1 (en) | 1990-01-31 |
| EP0239677A2 (en) | 1987-10-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62230794A (ja) | ハロプロピルトリアルコキシシラン及びハロプロピルアルキルアルコキシシランの新規製造方法 | |
| EP0135813B1 (en) | Preparation of aminopropyltrialkoxysilanes and/or aminoalkylaloxysilanes | |
| KR100697503B1 (ko) | 알콕시실란의 제조 방법 | |
| JPH0796555B2 (ja) | アミノプロピルシリル化合物の製造方法 | |
| JP3864070B2 (ja) | オルガノシランの製造方法 | |
| JPH0475917B2 (ja) | ||
| JPH0312075B2 (ja) | ||
| JPH08208667A (ja) | 3−ハロゲン−または−プソイドハロゲンアルキルシランエステルの製造方法 | |
| JPH0353317B2 (ja) | ||
| EP0189197B1 (en) | Process for preparing vinyl-tri-(tertiary-substituted)alkoxysilanes | |
| CN101970447B (zh) | 卤代烷基烷氧基硅烷和卤代烷基卤硅烷的制备方法 | |
| JP2976011B2 (ja) | 3―クロロプロピルトリアルコキシシラン類の製造方法 | |
| DE69311213T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1-Aza-2-silacyclopentan-Verbindungen | |
| JP3122358B2 (ja) | 3−クロロプロピルシラン類の製造方法 | |
| US6872845B2 (en) | Process for making haloorganoalkoxysilanes | |
| JP3754479B2 (ja) | 3−クロロプロピルトリクロロシラン合成用触媒および3−クロロプロピルトリクロロシランの製造方法 | |
| JP2768159B2 (ja) | ハロプロピルアルコキシシラン類の製造方法 | |
| JPH06157554A (ja) | トリオルガノクロロシランの製造方法 | |
| JP2000086675A (ja) | シランの製造法 | |
| JP3427144B2 (ja) | 3−クロロプロピルシラン類の製造方法 | |
| DE69313944T2 (de) | 1-Aza-2-Silacylobutan-Verbindungen und Verfahren zur deren Herstellung | |
| US4631310A (en) | Platinum (O) alkyne complexes and a method for their preparation | |
| JP2538917B2 (ja) | アミノプロピルアルコキシシラン類の製造法 | |
| JP3856050B2 (ja) | 3−クロロプロピルシラン類の製造方法 | |
| JP3197294B2 (ja) | シラン化合物の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |