JPS62247478A - パタ−ン検査装置 - Google Patents
パタ−ン検査装置Info
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- JPS62247478A JPS62247478A JP61089892A JP8989286A JPS62247478A JP S62247478 A JPS62247478 A JP S62247478A JP 61089892 A JP61089892 A JP 61089892A JP 8989286 A JP8989286 A JP 8989286A JP S62247478 A JPS62247478 A JP S62247478A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
-
- G—PHYSICS
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- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30141—Printed circuit board [PCB]
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はパターン検査装置に係り、更に詳述すればプリ
ント基板パターンの断線、凹凸等の外観欠陥を自動的に
検査するパターン検査装置に関するものである。
ント基板パターンの断線、凹凸等の外観欠陥を自動的に
検査するパターン検査装置に関するものである。
従来、プリント基板等のパターン検査を行うためには、
特公昭59−24361号公報に記載されているように
、2枚のパターンを比較検査する検査方式が提案されて
おり実用に供されている。他方特開昭53−83768
号公報および特開昭58−125826号公報に記載さ
れているように、1枚のパターンで検査が行える検査装
置が提案されている。また一枚のパターンの検査を行う
には、特開昭52−42790号公報に記載のように、
パターンの設計データと比較検査する方式がある。実物
のパターンを記憶して検査する手法として「テレビジョ
ン学会誌」(36巻1号P38〜44.1982年)は
、同一基板上にある2組のパターンを比較する際に、一
方のパターンの一部を1時的に記憶し、他方のパターン
と比較するいわば2組の実物パターンを比較する方式の
変形的な手法の提案がある。
特公昭59−24361号公報に記載されているように
、2枚のパターンを比較検査する検査方式が提案されて
おり実用に供されている。他方特開昭53−83768
号公報および特開昭58−125826号公報に記載さ
れているように、1枚のパターンで検査が行える検査装
置が提案されている。また一枚のパターンの検査を行う
には、特開昭52−42790号公報に記載のように、
パターンの設計データと比較検査する方式がある。実物
のパターンを記憶して検査する手法として「テレビジョ
ン学会誌」(36巻1号P38〜44.1982年)は
、同一基板上にある2組のパターンを比較する際に、一
方のパターンの一部を1時的に記憶し、他方のパターン
と比較するいわば2組の実物パターンを比較する方式の
変形的な手法の提案がある。
上記した従来技術である特公昭59−24361号公報
に記載されている2枚のパターンを比較して検査する方
法では、2枚のパターンが必要であり、特開昭53−8
3768号および特開昭58−125826号公報に記
載の検査装置では、正常パターンに類似したパターンを
欠陥として検出することができず、1枚のパターンの検
査を行なう比較検査方法である特開昭52−42790
号記載の方法では、設計データからパターンの発生展開
に大規模な電気回路が必要で、データの転送保管につい
ても面倒で更に、実物のパターンを記憶して検査する手
法として「テレビジョン学会誌」記載の方法は限られた
用途については有効であっても一般でないと云う欠点が
ある。
に記載されている2枚のパターンを比較して検査する方
法では、2枚のパターンが必要であり、特開昭53−8
3768号および特開昭58−125826号公報に記
載の検査装置では、正常パターンに類似したパターンを
欠陥として検出することができず、1枚のパターンの検
査を行なう比較検査方法である特開昭52−42790
号記載の方法では、設計データからパターンの発生展開
に大規模な電気回路が必要で、データの転送保管につい
ても面倒で更に、実物のパターンを記憶して検査する手
法として「テレビジョン学会誌」記載の方法は限られた
用途については有効であっても一般でないと云う欠点が
ある。
上記目的は1回路パターンを2次元的に走査し。
2値化パターン情報を光電変換手段により検出する手段
と、検出したパターン情報を圧縮する手段と、この圧縮
された前記パターン情報を記憶媒体に記憶する手段と、
記憶された圧縮されたパターン情報を読出し伸展する手
段とを有し、これら各手段により予じめ記憶されたパタ
ーンと検査すべきパターンとを比較検査することにより
達成される。
と、検出したパターン情報を圧縮する手段と、この圧縮
された前記パターン情報を記憶媒体に記憶する手段と、
記憶された圧縮されたパターン情報を読出し伸展する手
段とを有し、これら各手段により予じめ記憶されたパタ
ーンと検査すべきパターンとを比較検査することにより
達成される。
本発明のパターン検査装置では、x−Yステージに取付
けられた被検査パターン基板をパターン検出器で2次元
的に走査し、2値化パターン情報を得て、このパターン
情報をMH/MR(モディファイドハフマン/モディフ
ァイドリレーティブエレメントアドレスディザイネート
)符号圧縮処理手段で圧縮し、この圧縮されたパターン
情報を半導体メモリ、磁気ディスク等の記憶媒体に記憶
し、このように記憶媒体に記憶されたパターン情報を読
出し、MH/MR符号伸長処理手段で伸長して取出し、
この取出されたパターン情報と次にX−Yステージに取
付けられた被検査パターンから検出されたパターン情報
とを比較検査し、パターンの良否を判別するものである
。
けられた被検査パターン基板をパターン検出器で2次元
的に走査し、2値化パターン情報を得て、このパターン
情報をMH/MR(モディファイドハフマン/モディフ
ァイドリレーティブエレメントアドレスディザイネート
)符号圧縮処理手段で圧縮し、この圧縮されたパターン
情報を半導体メモリ、磁気ディスク等の記憶媒体に記憶
し、このように記憶媒体に記憶されたパターン情報を読
出し、MH/MR符号伸長処理手段で伸長して取出し、
この取出されたパターン情報と次にX−Yステージに取
付けられた被検査パターンから検出されたパターン情報
とを比較検査し、パターンの良否を判別するものである
。
本発明のパターン検査装置は、莫大な情報量を有するパ
ターンを高速かつ能率良く記憶する手段と、記憶したパ
ターンを高速で発生し、実物検査パターンと比較検査を
する手段が必要であり、第1図は本発明による検査装置
の構成を示す。1aはパターン基板でありあらかじめ記
憶されるべきパターンである。パターン基板1aはXY
ステージ2上に設置される。パターンは結像レンズ3に
よりパターン検出器4上に投影される(照明装置は省略
されている)、XYステージ2はステージ制御装置5に
より位置が制御されるので、パターン検出器4により任
意の位置のパターンが検出できる。パターン検出器4は
TVカメラ、リニアイメージセンサのような自己走査形
の映像検出器である。パターン検出器4から同期信号7
aにより取出される検出信号11aは2値化回路15を
介し情報圧縮器6によってMH方式、あるいはMR方式
またはM’R方式により情報圧縮されて記憶装置8に記
憶される。記憶表@8として半導体メモリ。
ターンを高速かつ能率良く記憶する手段と、記憶したパ
ターンを高速で発生し、実物検査パターンと比較検査を
する手段が必要であり、第1図は本発明による検査装置
の構成を示す。1aはパターン基板でありあらかじめ記
憶されるべきパターンである。パターン基板1aはXY
ステージ2上に設置される。パターンは結像レンズ3に
よりパターン検出器4上に投影される(照明装置は省略
されている)、XYステージ2はステージ制御装置5に
より位置が制御されるので、パターン検出器4により任
意の位置のパターンが検出できる。パターン検出器4は
TVカメラ、リニアイメージセンサのような自己走査形
の映像検出器である。パターン検出器4から同期信号7
aにより取出される検出信号11aは2値化回路15を
介し情報圧縮器6によってMH方式、あるいはMR方式
またはM’R方式により情報圧縮されて記憶装置8に記
憶される。記憶表@8として半導体メモリ。
磁気ディスク、磁気テープ、光ディスク等を使うことが
できる。大量のパターンを記憶するには。
できる。大量のパターンを記憶するには。
光ディスクが適する。
つぎにパターン基板1aを取り去り、パターン基板1b
を設置する。基板1bは検査すべき基板である。基板1
bの検査を行うには、パターン検出器4で特定位置のパ
ターンを検出し、得た検出信号11bとあらかじめ記憶
した同一部分のパターン検出信号11aとを比較検査回
路lOで比較して行う。
を設置する。基板1bは検査すべき基板である。基板1
bの検査を行うには、パターン検出器4で特定位置のパ
ターンを検出し、得た検出信号11bとあらかじめ記憶
した同一部分のパターン検出信号11aとを比較検査回
路lOで比較して行う。
パターン基板1aの検出信号11aは情報圧縮された形
で記憶装置8に記憶されているので、検出信号ttbと
比較するためには、情報伸展装置9により、情報圧縮前
の検出信号の状態に直す。このとき、パターン基板1b
のパターンと同一部分のパターンを情報伸展装置9によ
り発生するように、ステージ制御装置5から、同期信号
7bを得てパターン伸展を行なう。情報伸展されたパタ
ーン信号11aと検出信号11bとはパターンの比較検
査回路10において比較検査される。このようなことを
2〜3枚のパターン基板に対し実施することで良否の判
定が出来、正常パターン情報が記憶装置に記憶され、あ
とは順に同じことを繰返すことでパターンの検査を行な
うことができる。
で記憶装置8に記憶されているので、検出信号ttbと
比較するためには、情報伸展装置9により、情報圧縮前
の検出信号の状態に直す。このとき、パターン基板1b
のパターンと同一部分のパターンを情報伸展装置9によ
り発生するように、ステージ制御装置5から、同期信号
7bを得てパターン伸展を行なう。情報伸展されたパタ
ーン信号11aと検出信号11bとはパターンの比較検
査回路10において比較検査される。このようなことを
2〜3枚のパターン基板に対し実施することで良否の判
定が出来、正常パターン情報が記憶装置に記憶され、あ
とは順に同じことを繰返すことでパターンの検査を行な
うことができる。
前述した、検出信号11aの情報圧縮、記憶、情報伸展
装置について示す。本装置は近年市販され始めたパター
ン情報の圧縮伸展用素子に(日経エレトロニクス198
5年1月28日号P 、193)を適用したもので、第
2図に示すように検出信号11aはリード/ライト(R
ead/ Write)スイッチ1Δ(図はライトの状
態になっている)を通してA+/Az切換スイッチ14
に送られる。AI/Az切換スイッチ14は検出信号1
1aをバッファメモリA+ (あるいはAりに送り、こ
れが一杯になると次の他方のメモリA2 (あるいはA
+)に入力を切換える。バッファメモリAI + A2
の中に蓄えられたパターンは情報圧縮伸展素子12によ
り情報を圧縮する。これによりもとの検出信号11aの
情報量を約4%まで低減することができる。情報圧縮・
伸展用素子12は最大処理速度が5MHzであるので、
4個の素子を並列に用いることにより最大20M)Iz
の速度の検出信号11を情報圧縮することができる。情
報圧縮された検出(+’を号11aはバッファメモリB
。
装置について示す。本装置は近年市販され始めたパター
ン情報の圧縮伸展用素子に(日経エレトロニクス198
5年1月28日号P 、193)を適用したもので、第
2図に示すように検出信号11aはリード/ライト(R
ead/ Write)スイッチ1Δ(図はライトの状
態になっている)を通してA+/Az切換スイッチ14
に送られる。AI/Az切換スイッチ14は検出信号1
1aをバッファメモリA+ (あるいはAりに送り、こ
れが一杯になると次の他方のメモリA2 (あるいはA
+)に入力を切換える。バッファメモリAI + A2
の中に蓄えられたパターンは情報圧縮伸展素子12によ
り情報を圧縮する。これによりもとの検出信号11aの
情報量を約4%まで低減することができる。情報圧縮・
伸展用素子12は最大処理速度が5MHzであるので、
4個の素子を並列に用いることにより最大20M)Iz
の速度の検出信号11を情報圧縮することができる。情
報圧縮された検出(+’を号11aはバッファメモリB
。
(あるいはB2)に記憶される。B I/ B 2切換
スイツチ15はバッファメモリB、、B2の内容を交互
に切換つつ、情報圧縮後の検出信号11aをインタフェ
ース16を経て情報記憶装置8に転送する。
スイツチ15はバッファメモリB、、B2の内容を交互
に切換つつ、情報圧縮後の検出信号11aをインタフェ
ース16を経て情報記憶装置8に転送する。
パターン基板11bを検査する場合は、情報記憶装置8
に記憶されたパターン検出信号11aを逆に、伸展させ
る。これは、情報圧縮用の回路を逆の順に用いることが
できる。
に記憶されたパターン検出信号11aを逆に、伸展させ
る。これは、情報圧縮用の回路を逆の順に用いることが
できる。
本発明により、例えば大きさ600 X 500 nm
の大きさのパターン基板10μm画素で記憶する場合、
情報圧縮をしない場合、375Mbyteの記憶容量が
必要であるが、約15Mbyteに低減することができ
る。
の大きさのパターン基板10μm画素で記憶する場合、
情報圧縮をしない場合、375Mbyteの記憶容量が
必要であるが、約15Mbyteに低減することができ
る。
−面当り1.310byteの光ディスクを使用すると
1枚で150面以上のパターン基板情報が記憶可能とな
る。記憶面数が少なくて良い場合は、半導体メモリ、磁
気テープ等が使用可能である。
1枚で150面以上のパターン基板情報が記憶可能とな
る。記憶面数が少なくて良い場合は、半導体メモリ、磁
気テープ等が使用可能である。
本発明の装置を導入することにより、多品種少量生産の
パターン基板情報をあらかじめ記憶しておくことにより
、比較すべきパターンが生産されるのを待つことなく検
査を実行できる。パターンの比較検査を行うので高信頼
度の検査が実行できる。また、同一形状のパターン基板
が多数流れる製造行程においても、最初の1枚の基板パ
ターンを記憶すれば、以降の基板の検査に適用すること
ができる。
パターン基板情報をあらかじめ記憶しておくことにより
、比較すべきパターンが生産されるのを待つことなく検
査を実行できる。パターンの比較検査を行うので高信頼
度の検査が実行できる。また、同一形状のパターン基板
が多数流れる製造行程においても、最初の1枚の基板パ
ターンを記憶すれば、以降の基板の検査に適用すること
ができる。
図はいずれも本発明の一実施例を示すもので、第1図は
検査装置の構成図、第2図本装置に用いられる情報の圧
縮、記憶および伸展回路の構成図である。 la、 lb・・・パターン基板、4・・・パターン検
出器、6・・・情報圧縮装置、8・・・記憶装置、9・
・・情報伸展装置、10・・・比較検査回路。
検査装置の構成図、第2図本装置に用いられる情報の圧
縮、記憶および伸展回路の構成図である。 la、 lb・・・パターン基板、4・・・パターン検
出器、6・・・情報圧縮装置、8・・・記憶装置、9・
・・情報伸展装置、10・・・比較検査回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、回路パターンを2次元的に走査し、2値化パターン
情報を光電変換することにより電気信号として検出する
手段と、検出したパターン情報を圧縮するパターン情報
圧縮手段と、圧縮した前記パターン情報を記憶媒体に記
憶する手段と、記憶された情報圧縮パターンをもとのパ
ターンに伸展する手段とを有し、これらの各手段により
予じめ記憶されたパターンと、検査すべきパターンとを
比較検査することを特徴とするパターン検査装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のパターン情報圧縮手段
としてファクシミリ用2値画像データ圧縮手法を用いる
ことを特徴とするパターン検査装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61089892A JPS62247478A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | パタ−ン検査装置 |
| KR870003685A KR870010381A (ko) | 1986-04-21 | 1987-04-17 | 패턴 검사 장치 |
| KR1019870003685Q KR900003202B1 (ko) | 1986-04-21 | 1987-04-17 | 패턴 검사장치 |
| US07/040,128 US4908871A (en) | 1986-04-21 | 1987-04-20 | Pattern inspection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61089892A JPS62247478A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | パタ−ン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62247478A true JPS62247478A (ja) | 1987-10-28 |
Family
ID=13983390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61089892A Pending JPS62247478A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | パタ−ン検査装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4908871A (ja) |
| JP (1) | JPS62247478A (ja) |
| KR (2) | KR870010381A (ja) |
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