JPS62250928A - 湿式ガス吸収処理装置および処理方法 - Google Patents

湿式ガス吸収処理装置および処理方法

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Publication number
JPS62250928A
JPS62250928A JP61095521A JP9552186A JPS62250928A JP S62250928 A JPS62250928 A JP S62250928A JP 61095521 A JP61095521 A JP 61095521A JP 9552186 A JP9552186 A JP 9552186A JP S62250928 A JPS62250928 A JP S62250928A
Authority
JP
Japan
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gas
liquid
porous plates
contacts
absorption
Prior art date
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Pending
Application number
JP61095521A
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English (en)
Inventor
Hideo Enomoto
榎本 秀夫
Toshiyuki Oota
敏行 太田
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KEMIKOOTO KK
Original Assignee
KEMIKOOTO KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガス吸収処理装置および処理方法、とりわけ湿
式ガス吸収処理装置および処理方法に関する。
〔従来の技術〕
湿式ガス吸収法は、特定ガス成分の除去方法として知ら
れ各種有害ガス成分、悪臭等の大気汚染防止及び作業環
境改善等の公害防止設備として多用されている。
これら湿式ガス吸収方法としては充填塔、スプレー搭、
泡鐘搭、多孔板塔のような吸収装置を用いる方法が、一
般的である。
〔本発明が解決しようとする問題点〕
前記した従来の湿式ガス吸収方法は、それぞれ良い方法
であるが、気液接触が不充分であり、そのためガス吸収
率が低いという問題があった。
この対策として気液接触を充分に行わせるために、厚い
水層内にガスを通過させる方法が考案されている。しか
し、この方法だと水層を厚くすることにより排気ファン
の動力を極端に高くしなければならず、設備費も膨大な
ものとなる。又、騒音などの二次公害を起こすおそれが
ある。
有害ガス、悪臭等は公害面では厳しく規制されなければ
ならないが、産業上のプロセスとしては、なくてはなら
ないケースが殆どである。
そのため操業を制約されるおそれもある0本発明はこの
様な有害ガス、悪臭等の除去を効率良<、シかも安価な
設備費と安価なランニングコストで対応したいという業
界の強い要望にこたえて開発したものである。
〔問題を解決するための手段〕
本発明の目的は前記した有害ガス等による作業環境の改
善と悪臭等の大気汚染を防止するための排ガス処理装置
および方法を提供することにあるが、この目的を達成す
るために、本発明はガス吸収塔内に保持する多孔板を2
枚以上とし、2枚の多孔板を一対として一方の多孔板と
他方の多孔板の間隔を200mm以内としたものである
これにより一方の多孔板と他方の多孔板の間に200I
llPa以内の薄い水層を簡単に形成することができる
ガス吸収の効率はいかに水層と気体を効率良く接触 さ
せることができるかという点にかかっている。
水層の厚みを増加すれば気液接触を充分に行うことがで
き、ガス吸収率も向上するが水層の厚みが増すほど吸引
ファンの動力も高くしなければならない。
ファンの動力を高くするとモーター自身もファン自体も
大型化しガス吸収塔が高価になる。
本発明はこの問題点を解消するため、対をなす2枚の多
孔板の中間に薄膜の水層を形成し、この水層にガスを通
過させることで解決したものである。
水層は多孔板同士の中間層に形成されるので上部多孔板
から流入する吸収液と下部多孔板から流出する吸収液の
流動で激しく拡散され乱流となり、気液接触が促進され
る。
この水層は当然のことであるが、多層であればそれだけ
気液接触の機会が多くなりガス吸収率が向上する。
対となる多孔板同士の間隔を200mm以内としたのは
経済ベースからくる理由であり200mmを越える範囲
では圧力損失が大となり不経済であることによる。
一方、間隔の下限に限定を加えないのは処理ガスの風量
および風速により、単位面積当たりの水層形成厚みが異
なり、−概に下限が決まらないことによる。
水層が形成され、乱流となって気液接触が促進されるに
は、だいたい5mm以上の間隔が必要である。
又、ガスはガス吸収塔内に強制的に送り込む方法でも、
吸引して吸入する方法をとっても良いが高温ガスや腐食
性のガスなどを処理すると声は機器類の耐久性を考慮し
、吸引する方法をとる方が良い。
尚、気液接触したガスと吸収液は激しく接触し、排気中
に液状の飛沫が混入することがあるので、気液分離器を
取りつけるのも良い方法である。
〔作 用〕
次に具体的な作用を添付図面について説明する。
第1図は本発明の湿式ガス吸収処理装置の概要を示す1
例でガスはガス導入部1からガス吸収塔9に導入されガ
ス吸収塔内4を通ってガス排気導管13へ送られ、排気
経路へ進行する。
この間、ガス吸収塔内4には吸収液溜槽2内に溜められ
たガス吸収液3が循環パイプ10を通してポンプPによ
り送液管11を通ってスプレー機構12へ送られ給液さ
れる。
スプレー機構12から給液されたガス吸収液は多孔板5
〜8を通過して吸収液溜槽2内に戻り循環される。
スプレー機構12から給液されたガス吸収液は多孔板5
と6の間および多孔板7と8の間で液層を形成し、落下
しながら吸収液溜槽2に戻ることになるが、この系は排
気経路とは向流になっている。
ガス導入部1から導入されたガスは、はじめに多孔板7
と8の間に溜っている吸収液の落下液と接触し、吸収が
行われ、次いで多孔板7と8の間に形成された液層と激
しく接触し、吸収されながら上昇する。
多孔板7と8の間に形成された液層を通過したガスは更
に多孔板5と6の間に溜まっている吸収液の落下液と接
触し、吸収が行われ、多孔板5と6の間に形成された液
層を上昇して、スプレー機構12からスプレーされたガ
ス吸収液と接触し、吸収されながら排気導管13へ送ら
れる。
この間、多孔板5と6の間では多孔[7と8の間で行わ
れる気液接触機構がくり返されることになる。
排気導管13へ送られたガスは次いで気液分離器14に
てガス吸収液の飛沫が分離され気体はアアンFを通りガ
ス出口16から系外へ排気される。
気液分離器で分離されたガス吸収液の飛沫は捕集されて
吸収液溜槽2に戻される。
吸収液2は定量的に又は定期的に更新し、常にガス吸収
の効率が劣化しないようにする〔実施例〕 第1図に示した装置にラジェーターのコアーはんだ付け
から発生するガスを導入しガス濃度として、はんだ付は
フラフクスの主成分であるアミンをガス出口にて測定し
た。
基l東豆 ガス中のアミン濃度 −・−50ppmガス風速   
   −・ 1.5m/秒ファンの動圧    −20
0mmA q多孔板の孔径    −5mm 多孔板の開孔率   −・−33,5%多孔板の液層厚
み  ・−・・・ 39mm  2層ガス吸収液   
  ・−水 ※測定されたアミン濃度は0.2ρρ−であった。
〔比較例〕
実施例の多孔板の間隔を離し、多孔板の間の液層の形成
ができない状態で試験を行った以外は実施例と同一条件
で試験を行い、アミン濃度を測定した。
※測定されたアミン濃度は2.01)り一であった。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明による湿式ガス吸収処理装置により
ガス吸収を行ったときは、圧力損失の極めて低い水層が
2枚の多孔板の間に形成できるので特別の装置を付は加
えることなく効率良く気液接触でき、ガス吸収装置の向
上ができる。
このため安価な装置で大気汚染防止、悪臭防止、作業環
境の改善などの対策として優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の湿式ガス吸収装置の概要を示す断面図
の1例で第2図は多孔板の1例を示す部分拡大平面図で
ある。 1−一−−−ガス導入部  2−・吸収液溜槽3−一一
一一ガス吸収液  4−・−・ガス吸収塔内5〜8・・
−・−多孔板  9・−ガス吸収塔10・−循環バイブ
  11・−・送液管12・・−スプレー機構 13−
四排気導管14・・−気液分離器  15・・−分離液
戻し菅16−−−−・ガス出口   P −吸収液循環
ポンプF・−・−排気ファン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ガス吸収塔内に200mm間隔以内に保持した2枚
    の多孔板を対として、1対以上の対を形成させ、処理ガ
    スと吸収液とを向流接触させることを特徴とする湿式ガ
    ス吸収処理装置および処理方法。
JP61095521A 1986-04-24 1986-04-24 湿式ガス吸収処理装置および処理方法 Pending JPS62250928A (ja)

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JP61095521A JPS62250928A (ja) 1986-04-24 1986-04-24 湿式ガス吸収処理装置および処理方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002177727A (ja) * 2000-12-07 2002-06-25 Kurita Water Ind Ltd 脱臭装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5281069A (en) * 1975-12-29 1977-07-07 Riyouichi Kurumaya Exhaust gas purification column
JPS59196715A (ja) * 1983-04-21 1984-11-08 Seiko Kakoki Kk 排ガス洗浄装置ならびに排ガス洗浄方法

Patent Citations (2)

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