JPH02116141A - 真空チャンバへの試料の挿入,取出し装置 - Google Patents
真空チャンバへの試料の挿入,取出し装置Info
- Publication number
- JPH02116141A JPH02116141A JP63268084A JP26808488A JPH02116141A JP H02116141 A JPH02116141 A JP H02116141A JP 63268084 A JP63268084 A JP 63268084A JP 26808488 A JP26808488 A JP 26808488A JP H02116141 A JPH02116141 A JP H02116141A
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- JP
- Japan
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- chamber
- vacuum chamber
- preliminary
- vacuum
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、真空装置への試料の挿入、取出し装置に関す
るものである6 (従来の技術) 近年真空装置は、チャンバ内での試料の加工を行う場合
、試料の挿入、取出し時間を短縮することが重要となっ
ている。以下に従来の真空装置の試料の挿入、取出し装
置について説明する。
るものである6 (従来の技術) 近年真空装置は、チャンバ内での試料の加工を行う場合
、試料の挿入、取出し時間を短縮することが重要となっ
ている。以下に従来の真空装置の試料の挿入、取出し装
置について説明する。
第3図は、従来の試料の挿入、取出し装置を示す図であ
る。1は真空チャンバ、2は試料予備排気室23は仕切
弁、4は試料(ウェハ)、5は真空チャンバと試料予備
排気室との間の試料の挿入。
る。1は真空チャンバ、2は試料予備排気室23は仕切
弁、4は試料(ウェハ)、5は真空チャンバと試料予備
排気室との間の試料の挿入。
取出し方向、6は試料予備排気室ドアである。
以上のように構成された試料挿入、取出し装置について
、その使用方法を説明する。まず試料予備排気室ドア6
を開け、試料予備排気室2に試料(ウェハ)4を挿入す
る。ドアを閉め予備排気室の排気を行う。一定時間たっ
た後、予備排気室の真空度が、仕切弁3を開けても真空
チャンバ1内での加工に影響をおよぼさないまで達した
ら、仕切弁3を開け、試料を真空チャンバ1内に挿入す
る。
、その使用方法を説明する。まず試料予備排気室ドア6
を開け、試料予備排気室2に試料(ウェハ)4を挿入す
る。ドアを閉め予備排気室の排気を行う。一定時間たっ
た後、予備排気室の真空度が、仕切弁3を開けても真空
チャンバ1内での加工に影響をおよぼさないまで達した
ら、仕切弁3を開け、試料を真空チャンバ1内に挿入す
る。
そして仕切弁3を閉め、真空チャンバ1内での加工を行
う。加工が終了したら仕切弁3を開け、試料予備排気室
6へ試料4を取出した後、仕切弁3を閉じる。そして、
試料予備排気室2をリークし、大気状態になったらドア
6を開け、試料4を取り出す。
う。加工が終了したら仕切弁3を開け、試料予備排気室
6へ試料4を取出した後、仕切弁3を閉じる。そして、
試料予備排気室2をリークし、大気状態になったらドア
6を開け、試料4を取り出す。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら上記従来の構成では、試料予備排気時間が
問題となる。排気時間を短くするため、試料予備排気室
を小さくすると、試料が少数しか入れられず、多数枚の
試料を連続して加工する場合、排気、リークの回数が増
え、試料処理時間がかかる。予備排気室2を大きくし一
度にたくさんの試料を入れた時、排気、リークの回数は
減るが、排気時間がかかる。真空チャンバ1内で試料加
工中に小型予備排気室に次の試料のみを装填することは
、振動をきらう真空内での加ニオ9よび試料温度コント
ロールの要求が厳しい加工(例えば電子ビーム露光)の
場合、試料加工と同時にはできない。従って処理時間が
かかる。
問題となる。排気時間を短くするため、試料予備排気室
を小さくすると、試料が少数しか入れられず、多数枚の
試料を連続して加工する場合、排気、リークの回数が増
え、試料処理時間がかかる。予備排気室2を大きくし一
度にたくさんの試料を入れた時、排気、リークの回数は
減るが、排気時間がかかる。真空チャンバ1内で試料加
工中に小型予備排気室に次の試料のみを装填することは
、振動をきらう真空内での加ニオ9よび試料温度コント
ロールの要求が厳しい加工(例えば電子ビーム露光)の
場合、試料加工と同時にはできない。従って処理時間が
かかる。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、試料温度
安定性の良い、短時間での試料挿入、取出しを可能にす
る装置を提供することを目的とする。
安定性の良い、短時間での試料挿入、取出しを可能にす
る装置を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
この目的を達成するために本発明の試料挿入。
取出し装置は、大気状態にしない真空予備室および真空
、大気状態をつくれる予備排気室を複数有している。
、大気状態をつくれる予備排気室を複数有している。
(作 用)
大気状態にしない小型の真空予備室で次に加工する試料
の温度安定性が確保され、また小型の予備排気室が挿入
、取出し側にそれぞれあることから短時間での試料挿入
、取出しが可能となる。
の温度安定性が確保され、また小型の予備排気室が挿入
、取出し側にそれぞれあることから短時間での試料挿入
、取出しが可能となる。
(実施例)
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。第1図は本発明の試料挿入、取出し装置を示す
ものである。第1図において、11は真空チャンバ、1
2a〜12eは仕切弁、13は仕切弁12aを介して真
空チャンバに取付られた真空予備室、14は仕切弁12
bを介して真空予備室13に取付けられた試料挿入用予
備排気室、15は仕切弁12dを介して真空予備室13
に通ずるように取付けられた試料取出し用予備排気室、
16は仕切弁12cを介して試料挿入用予備排気室14
に連結可能な試料挿入用カセット、17は仕切弁12e
を介して試料取出し用予備排気室15に連結可能な試料
取出し用カセット、18は真空予備室13内に移動可能
に設けられたスライド台である。第2図(a)〜(g)
は第1図を模式化して試料の位置と装置の動作状態をス
テップ毎に示したものである。(a)は、試料Aが加工
終了して試料取出し用カセット17にあり、試料Bは加
工終了してチャンバ取出し口に戻って来た状態である。
明する。第1図は本発明の試料挿入、取出し装置を示す
ものである。第1図において、11は真空チャンバ、1
2a〜12eは仕切弁、13は仕切弁12aを介して真
空チャンバに取付られた真空予備室、14は仕切弁12
bを介して真空予備室13に取付けられた試料挿入用予
備排気室、15は仕切弁12dを介して真空予備室13
に通ずるように取付けられた試料取出し用予備排気室、
16は仕切弁12cを介して試料挿入用予備排気室14
に連結可能な試料挿入用カセット、17は仕切弁12e
を介して試料取出し用予備排気室15に連結可能な試料
取出し用カセット、18は真空予備室13内に移動可能
に設けられたスライド台である。第2図(a)〜(g)
は第1図を模式化して試料の位置と装置の動作状態をス
テップ毎に示したものである。(a)は、試料Aが加工
終了して試料取出し用カセット17にあり、試料Bは加
工終了してチャンバ取出し口に戻って来た状態である。
C,D、Eは未加工試料である。
(b)では、加工終了した試料Bが真空予備室13内の
スライド台18へ取出される。(C)ではスライド台1
8が移動したことを表わす、(d)では、加工終了した
試料Bが試料取出し用予備排気室15へ取出され、次に
加工する試料Cが真空チャンバll内に挿入されたこと
を示す。Cは加工を開始する。(e)はスライド台18
が移動したことを表わす、(f)では、試料挿入用予備
排気室14から真空予備室13へ次の加工試料りが挿入
されたことを示す、(g)は、挿入、取出し用予備排気
室14.15がリークされ試料Bは取出され、試料Eは
挿入用予備排気室14へ挿入されたことを示す。次いで
2つの予備排気室14、15を排気しくa)の状態に戻
る。
スライド台18へ取出される。(C)ではスライド台1
8が移動したことを表わす、(d)では、加工終了した
試料Bが試料取出し用予備排気室15へ取出され、次に
加工する試料Cが真空チャンバll内に挿入されたこと
を示す。Cは加工を開始する。(e)はスライド台18
が移動したことを表わす、(f)では、試料挿入用予備
排気室14から真空予備室13へ次の加工試料りが挿入
されたことを示す、(g)は、挿入、取出し用予備排気
室14.15がリークされ試料Bは取出され、試料Eは
挿入用予備排気室14へ挿入されたことを示す。次いで
2つの予備排気室14、15を排気しくa)の状態に戻
る。
本実施例では2つの予備排気室14.15を小型にする
ことにより排気時間を短くできる。また挿入用予備排気
室14と真空予備室13を有することから、試料加工ま
で長い時間真空状態を保てるため、試料の温度安定性が
良くなる。さらに、加工用真空チャンバと予備排気室と
の間に真空予備室があることから、排気の際の振動も真
空チャンバに伝わりに<<、予備排気室排気中でも真空
チャンバ内での加工が可能である。従って試料処理時間
が短縮される。
ことにより排気時間を短くできる。また挿入用予備排気
室14と真空予備室13を有することから、試料加工ま
で長い時間真空状態を保てるため、試料の温度安定性が
良くなる。さらに、加工用真空チャンバと予備排気室と
の間に真空予備室があることから、排気の際の振動も真
空チャンバに伝わりに<<、予備排気室排気中でも真空
チャンバ内での加工が可能である。従って試料処理時間
が短縮される。
(発明の効果)
以上のように本発明は、真空予備室および複数の予備室
を設けることにより、温度安定性が良く短時間の試料挿
入、取出しができる。また、挿入。
を設けることにより、温度安定性が良く短時間の試料挿
入、取出しができる。また、挿入。
取出し時に試料が交差することがないので、パーティク
ルの付着が低減できる。
ルの付着が低減できる。
第1図は本発明の試料の挿入、取出し装置を示す図、第
2図は第1図を模式化して示した図、第3図は従来の試
料の挿入、取出し装置を示す図である。 11・・・真空チャンバ、12a〜12e・・・仕切弁
、13・・・真空予備室、14・・・試料挿入用予備排
気室、 15・・・試料取出し用予備排気室、16
・・試料挿入用カセット(大気中)、17・・・試料取
出し用カセット(大気中)、 18・・・スライド台。 特許出願人 松下電子工業株式会社 第 図 12a 〜]2e 、−イ士しつすt
2図は第1図を模式化して示した図、第3図は従来の試
料の挿入、取出し装置を示す図である。 11・・・真空チャンバ、12a〜12e・・・仕切弁
、13・・・真空予備室、14・・・試料挿入用予備排
気室、 15・・・試料取出し用予備排気室、16
・・試料挿入用カセット(大気中)、17・・・試料取
出し用カセット(大気中)、 18・・・スライド台。 特許出願人 松下電子工業株式会社 第 図 12a 〜]2e 、−イ士しつすt
Claims (1)
- 加工を行う真空チャンバに対して第1の仕切弁を介して
設けた真空予備室と、試料挿入用カセットを連結可能に
する第3の仕切弁を有し、前記真空予備室に対し第2の
仕切弁を介して設けた試料挿入用予備排気室と、試料取
出し用カセットを連結可能にする第5の仕切弁を有し、
前記真空予備室に対し第4の仕切弁を介して設けた試料
取出し用予備排気室とを具備することを特徴とする真空
チャンバへの試料の挿入、取出し装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63268084A JPH02116141A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 真空チャンバへの試料の挿入,取出し装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63268084A JPH02116141A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 真空チャンバへの試料の挿入,取出し装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02116141A true JPH02116141A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17453666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63268084A Pending JPH02116141A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 真空チャンバへの試料の挿入,取出し装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02116141A (ja) |
-
1988
- 1988-10-26 JP JP63268084A patent/JPH02116141A/ja active Pending
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