JPS62258432A - エレクトロクロミツク素子の製造方法 - Google Patents
エレクトロクロミツク素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS62258432A JPS62258432A JP61100825A JP10082586A JPS62258432A JP S62258432 A JPS62258432 A JP S62258432A JP 61100825 A JP61100825 A JP 61100825A JP 10082586 A JP10082586 A JP 10082586A JP S62258432 A JPS62258432 A JP S62258432A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- amplitude
- potential
- oxide film
- iridium oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
- G02F1/15245—Transition metal compounds based on iridium oxide or hydroxide
Landscapes
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は、エレクトロクロミック（以下ＥＣと略す）素
子の製造方法に関し、詳しくは着消色濃度変化の大きい
醇化イリジウム膜を形成したＥＣ素子の製造方法に関す
る。
子の製造方法に関し、詳しくは着消色濃度変化の大きい
醇化イリジウム膜を形成したＥＣ素子の製造方法に関す
る。
［従来の技術］
従来、ＥＣ現象とは、電圧を加えた時に酸化還元反応に
より物質か着色する現象を指している。
より物質か着色する現象を指している。
この様なＥＣ現象を利用する電気化学的着消色素子、す
なわちＥＣ素子は、例えば数字表示素子、Ｘ−Ｙマトリ
クスディスプレイ、可変ＮＤフィルター、光学シャッタ
、絞り機構等に応用か期待されている。酸化時に着色す
るＥＣ材料として、現在では応答速度、安定性、寿命な
との面で最も優れている材料は酸化イリジウムであると
言われている。
なわちＥＣ素子は、例えば数字表示素子、Ｘ−Ｙマトリ
クスディスプレイ、可変ＮＤフィルター、光学シャッタ
、絞り機構等に応用か期待されている。酸化時に着色す
るＥＣ材料として、現在では応答速度、安定性、寿命な
との面で最も優れている材料は酸化イリジウムであると
言われている。
コ（１）様ｔ：ｔ、ＥＣ現象を示す酸化イリジウム膜の
作成法として、シェイ、エル、シェイ（Ｊ、１．．５ｈ
ａｙ）等著°゛アプライド・フィジックス・レタース″
（”Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ １ｅｔｔｅ
ｒｓ ” ） ３３ （ＩＩ）。
作成法として、シェイ、エル、シェイ（Ｊ、１．．５ｈ
ａｙ）等著°゛アプライド・フィジックス・レタース″
（”Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ １ｅｔｔｅ
ｒｓ ” ） ３３ （ＩＩ）。
９４２頁、１９７８年に陽極酸化法か提案されている。
以来、電解液中において、金属イリジウムに一定振幅の
交流電位を連続掃引することによりＥＣ現象を示す酸化
イリジウム膜か作成されてきた。しかし、従来の方法て
は、連続掃引電位の振幅か小さい条件て作成すると、得
られた酸化イリジウム膜の濃度変化か小さく、また濃度
変化を大きくとろうとして前記連続掃引の振幅か大きい
条件て作成すると、作成中に膜はかれを起こすという欠
点かあった。
交流電位を連続掃引することによりＥＣ現象を示す酸化
イリジウム膜か作成されてきた。しかし、従来の方法て
は、連続掃引電位の振幅か小さい条件て作成すると、得
られた酸化イリジウム膜の濃度変化か小さく、また濃度
変化を大きくとろうとして前記連続掃引の振幅か大きい
条件て作成すると、作成中に膜はかれを起こすという欠
点かあった。
［発明か解決しようとする問題点］
本発明はこの様な従来技術に鑑みてなされたものてあり
、金属イリジウム膜を酸化して酸化着色層としての酸化
イリジウム膜を作成する陽極酸化法において、交流電位
を振幅を変えて連続的に掃引することにより、着消色濃
度変化か大きいと共に膜か剥離し難い醇化イリジウム膜
を形成したＥＣ素子の製造法を提供することをＩＩ的と
するものである。
、金属イリジウム膜を酸化して酸化着色層としての酸化
イリジウム膜を作成する陽極酸化法において、交流電位
を振幅を変えて連続的に掃引することにより、着消色濃
度変化か大きいと共に膜か剥離し難い醇化イリジウム膜
を形成したＥＣ素子の製造法を提供することをＩＩ的と
するものである。
［問題点を解決するだめの−Ｌ段］
即ち、本発明は醇化着色層として酸化イリジウム膜を用
いるエレク１〜ロクロミック素子の製造方法において、
前記酸化イリジウム膜を、金属イリジウム膜に交流電位
を最初は小さい振幅て、次いて大きい振幅て連続的に印
加する陽極酸化法により作成することを特徴とするエレ
クトロクロミック末子の製造方法である。
いるエレク１〜ロクロミック素子の製造方法において、
前記酸化イリジウム膜を、金属イリジウム膜に交流電位
を最初は小さい振幅て、次いて大きい振幅て連続的に印
加する陽極酸化法により作成することを特徴とするエレ
クトロクロミック末子の製造方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の陽極酸化に用いるガラスセルの１例を
示す説明図である。第１図において、ｌはＩＴＯ付ガラ
ス基板上に成膜した金属イリジウム膜、２は飽和カロメ
ル参照電極（以１’ ＳＣＥと略す）、３は白金電極、
４はＩｔ ２Ｓ ０４水溶液である。
示す説明図である。第１図において、ｌはＩＴＯ付ガラ
ス基板上に成膜した金属イリジウム膜、２は飽和カロメ
ル参照電極（以１’ ＳＣＥと略す）、３は白金電極、
４はＩｔ ２Ｓ ０４水溶液である。
この様なセルを第２図に示すガラスセルの駆動装置で駆
動して酸化イリジウム膜を作成する。５はポテンシオス
タット、６はポテンシャルスィーパ−である。
動して酸化イリジウム膜を作成する。５はポテンシオス
タット、６はポテンシャルスィーパ−である。
本発明はＥＣ素子の酸化着色層となる酸化イリジウム膜
を形成するに際して、第１図に示すガラスセルに、第３
図に示す様な三角波電位（対ＳＣＥ電位、以下省略する
）を掃引する際、最初は小さい振幅て、次いて大きい振
幅で連続的に印加して金属イリジウム膜の陽極酸化を行
う。
を形成するに際して、第１図に示すガラスセルに、第３
図に示す様な三角波電位（対ＳＣＥ電位、以下省略する
）を掃引する際、最初は小さい振幅て、次いて大きい振
幅で連続的に印加して金属イリジウム膜の陽極酸化を行
う。
掃引電位の振幅の大きさは、最初に印加する小さい振幅
としては掃引回数により異なるか、通常は掃引電位幅−
０，６０Ｖ〜！、５０Ｖ、好ましくは−０，］５Ｖ〜１
．］５Ｖか望ましく、前記範囲以外ては膜はかれを起こ
す原因となる。
としては掃引回数により異なるか、通常は掃引電位幅−
０，６０Ｖ〜！、５０Ｖ、好ましくは−０，］５Ｖ〜１
．］５Ｖか望ましく、前記範囲以外ては膜はかれを起こ
す原因となる。
また、その後に印加する大きい振幅の交流電位の掃引電
位幅は掃引回数により異なるが、−１，５０Ｖ 〜２．
００Ｖ、好ましくは−１，００Ｖ 〜］、５０Ｖか望ま
しく、前記範囲以外ては膜はかれを起こす。
位幅は掃引回数により異なるが、−１，５０Ｖ 〜２．
００Ｖ、好ましくは−１，００Ｖ 〜］、５０Ｖか望ま
しく、前記範囲以外ては膜はかれを起こす。
次に、掃引電位幅の一具体例として、従来はジェイ、エ
ル、シェイ（Ｊ、 Ｌ、 ５ｈａｙ）等著゛アプライ１
〜・フィジックス・レターズ” （“ＡＩ）ｐｌｉｅｄ
Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ ” ） ３３ （
ＩＩ）、９４２頁、１９７８年に示されたごとく三角波
電位を−０，２５〜１．２５Ｖ（対ＳＣＥ電位）の固定
振幅て連続掃引を行ったのに対し、本発明ては振幅を従
来例と比べて最初はより小さく、その後はより大きくす
ることにより、濃度変化の大きい酸化イリジウム膜を得
ることかできる。
ル、シェイ（Ｊ、 Ｌ、 ５ｈａｙ）等著゛アプライ１
〜・フィジックス・レターズ” （“ＡＩ）ｐｌｉｅｄ
Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ ” ） ３３ （
ＩＩ）、９４２頁、１９７８年に示されたごとく三角波
電位を−０，２５〜１．２５Ｖ（対ＳＣＥ電位）の固定
振幅て連続掃引を行ったのに対し、本発明ては振幅を従
来例と比べて最初はより小さく、その後はより大きくす
ることにより、濃度変化の大きい酸化イリジウム膜を得
ることかできる。
本発明において、交流電位の印加は三角波電位の掃引に
限定されることなく、正弦波や矩形波等またはこれらの
組合せによっても同様な特性の酸化イリジウム膜を得る
ことができる。また、ガラスセルにおいて硫酸以外の酸
や中性塩水溶液な用いても同様の結果を得ることかてき
る。
限定されることなく、正弦波や矩形波等またはこれらの
組合せによっても同様な特性の酸化イリジウム膜を得る
ことができる。また、ガラスセルにおいて硫酸以外の酸
や中性塩水溶液な用いても同様の結果を得ることかてき
る。
［作 用］
本発明のＥＣ素子の製造方法は陽極酸化法により酸化イ
リジウム膜を作成する工程において、交流電位を最初に
小さい振幅て印加し膜を安定化させ、次いで大きい振幅
で連続的に印加することにより膜の剥離を防止すると共
に着消色濃度変化の大きいＥＣ素子が得られるものと推
定される。
リジウム膜を作成する工程において、交流電位を最初に
小さい振幅て印加し膜を安定化させ、次いで大きい振幅
で連続的に印加することにより膜の剥離を防止すると共
に着消色濃度変化の大きいＥＣ素子が得られるものと推
定される。
［実施例］
以下、本発明を実施例に従って説明する。
実施例１
ＩＴＯ膜を設けたガラス基板上に、スパッタリング法に
より金属イリジウム膜を３００〜４００人の厚さに成膜
した。この電極を０．０１Ｎの）＋２３Ｏ４水溶液中て
、三角波の連続掃引を掃引速度０．Ｉ Ｖ／ｓｅｃて行
った。その際の三角波の振幅を第１表に示すごとく、段
階的に増加させて掃引を行ったところ、膜はがれを起こ
すことなく濃度変化の大きい酸化イリジウム膜を作成す
ることかてきた。
より金属イリジウム膜を３００〜４００人の厚さに成膜
した。この電極を０．０１Ｎの）＋２３Ｏ４水溶液中て
、三角波の連続掃引を掃引速度０．Ｉ Ｖ／ｓｅｃて行
った。その際の三角波の振幅を第１表に示すごとく、段
階的に増加させて掃引を行ったところ、膜はがれを起こ
すことなく濃度変化の大きい酸化イリジウム膜を作成す
ることかてきた。
第１表
すなわち、第１段階て従来例（−０，２５〜１．２５Ｖ
）より小さい振幅で最初の酸化なゆるやかに行い、その
後、従来例の振幅である第２段階で安定な酸化膜を成長
させて、その後振幅を大きくして濃度変化を大きく、特
に消色時の濃度を小さくすることかできた。
）より小さい振幅で最初の酸化なゆるやかに行い、その
後、従来例の振幅である第２段階で安定な酸化膜を成長
させて、その後振幅を大きくして濃度変化を大きく、特
に消色時の濃度を小さくすることかできた。
第１表の条件で作成した時の掃引回数と膜の濃度変化（
最大値と最少値を示した）を第４図に示す。膜は着消色
を繰り返しながら成長し、１７５回の掃引を越えると、
濃度変化は収束した。
最大値と最少値を示した）を第４図に示す。膜は着消色
を繰り返しながら成長し、１７５回の掃引を越えると、
濃度変化は収束した。
この時の最終的な濃度変化は△ＯＤ＝ ０．６３てあり
、従来例の固定振幅（−０，２５〜］、２５Ｖ、４５０
回）による］二記濃度変化△ｏｏ＝ ０．２２に比へ著
しく増大した。
、従来例の固定振幅（−０，２５〜］、２５Ｖ、４５０
回）による］二記濃度変化△ｏｏ＝ ０．２２に比へ著
しく増大した。
こうしてＩＴＯ付ガラス」−に作成した酸化イリジウム
膜を用いた溶液系ＥＣ素子を作成した。この溶液系デバ
イスの構造を第５図に示す。第５図において、７はカラ
ス基板、８は透明電極（ＩＴＯ）、９は酸化イリジウム
膜、ＩＯは対極で例えば白金、１１は０．１ Ｎ Ｈ
２ＳＯ，水溶液、１５はシール材である。このＥＣ素子
に１０の対極を基準として＋１．５Ｖの直流電圧を透明
電極８、対極１０間に印加したところ２５０ ｍ５ｅｃ
て△ＯＤ＝ ０．３０の濃度変化を示した。
膜を用いた溶液系ＥＣ素子を作成した。この溶液系デバ
イスの構造を第５図に示す。第５図において、７はカラ
ス基板、８は透明電極（ＩＴＯ）、９は酸化イリジウム
膜、ＩＯは対極で例えば白金、１１は０．１ Ｎ Ｈ
２ＳＯ，水溶液、１５はシール材である。このＥＣ素子
に１０の対極を基準として＋１．５Ｖの直流電圧を透明
電極８、対極１０間に印加したところ２５０ ｍ５ｅｃ
て△ＯＤ＝ ０．３０の濃度変化を示した。
また、前記の第４図の最終的濃度変化は、従来例よりも
大きい振幅の掃引を行った結果得られたものであるか、
膜の酸化か収束した後は、従来例の電位振＠（−０，２
５〜１．２５Ｖ）の掃引でも同様の濃度変化か得られた
。
大きい振幅の掃引を行った結果得られたものであるか、
膜の酸化か収束した後は、従来例の電位振＠（−０，２
５〜１．２５Ｖ）の掃引でも同様の濃度変化か得られた
。
実施例２
実施例１と同様にして第６図に示ずごと＜ＩＴＯイづガ
ラス基板７七に作成した酸化イリジウム膜９に、Ｔａ２
０５膜１２を３００ＯＡの膜厚て、さらに還元着色層で
あるＷＯ３膜１３を４０００Ａの膜厚て順次電子ビーム
法により成膜し、最後に上部透明電極ＩＴＯ１４を反応
性イオンブレーティング法により成膜し、全固体ＥＣ素
子を作成した。このＥＣ素子に上部透明電極１４を基準
として、＋１．５Ｖの直流電圧を上部透明電極１４、透
明電極８間に印加したところ、２５０ ｍ５ｅｃで△Ｏ
Ｄ＝ ０．３７の濃度変化を示した。
ラス基板７七に作成した酸化イリジウム膜９に、Ｔａ２
０５膜１２を３００ＯＡの膜厚て、さらに還元着色層で
あるＷＯ３膜１３を４０００Ａの膜厚て順次電子ビーム
法により成膜し、最後に上部透明電極ＩＴＯ１４を反応
性イオンブレーティング法により成膜し、全固体ＥＣ素
子を作成した。このＥＣ素子に上部透明電極１４を基準
として、＋１．５Ｖの直流電圧を上部透明電極１４、透
明電極８間に印加したところ、２５０ ｍ５ｅｃで△Ｏ
Ｄ＝ ０．３７の濃度変化を示した。
［発明の効果］
以上説明した様に、本発明のＥＣ素子の製造方法によれ
ば最初は小さい振幅で、その後は大きい振幅て交流電位
を連続掃引する陽極酸化法により、膜か剥離することか
ないと共に濃度変化の犬きい酸化イリジウム膜を作成す
ることがてきる。
ば最初は小さい振幅で、その後は大きい振幅て交流電位
を連続掃引する陽極酸化法により、膜か剥離することか
ないと共に濃度変化の犬きい酸化イリジウム膜を作成す
ることがてきる。
また、その酸化イリジウム膜をＥＣ素子の酸化着色層に
用いることにより、濃度変化の大きいＥＣ素子を提供で
きる。
用いることにより、濃度変化の大きいＥＣ素子を提供で
きる。
第１図は本発明の陽極酸化に用いるガラスセルの１例を
示す説明図、Ｓ２図はガラスセルの駆動装置の説明図、
第３図は駆動電位波形を示すクラブ、第４図は実施例１
における掃引回数と酸化イリジウム膜の濃度変化の関係
を示すグラフ、第５図は溶液系ＥＣ素子の構成を示す断
面図、第６図は固体ＥＣ素子の構成を示す断面図である
。 ■・・・金属イリジウム膜 ２・・・飽和カロメル参照電極（５ＣＥ）３・・・白金
電極 ４・・・ＩＩ ２ Ｓ Ｏ４水溶液
５・・・ポテンシオスタット ６・・・ポテンシャルスィーパ− ７・・・ガラス基板 ８・・・透明電極９・
・・酸化イリジウム膜 １０・・・対極１１−０．
１ Ｎ Ｈ２ＳＯ，水溶液 １２・・Ｔａ２０５ ｌ
ｌ１１３・・・ＷＯ３膜 １４・・・に
部透明電極１５・・・シール材
示す説明図、Ｓ２図はガラスセルの駆動装置の説明図、
第３図は駆動電位波形を示すクラブ、第４図は実施例１
における掃引回数と酸化イリジウム膜の濃度変化の関係
を示すグラフ、第５図は溶液系ＥＣ素子の構成を示す断
面図、第６図は固体ＥＣ素子の構成を示す断面図である
。 ■・・・金属イリジウム膜 ２・・・飽和カロメル参照電極（５ＣＥ）３・・・白金
電極 ４・・・ＩＩ ２ Ｓ Ｏ４水溶液
５・・・ポテンシオスタット ６・・・ポテンシャルスィーパ− ７・・・ガラス基板 ８・・・透明電極９・
・・酸化イリジウム膜 １０・・・対極１１−０．
１ Ｎ Ｈ２ＳＯ，水溶液 １２・・Ｔａ２０５ ｌ
ｌ１１３・・・ＷＯ３膜 １４・・・に
部透明電極１５・・・シール材
Claims (1)
- 酸化着色層として酸化イリジウム膜を用いるエレクトロ
クロミック素子の製造方法において、前記酸化イリジウ
ム膜を、金属イリジウム膜に交流電位を最初は小さい振
幅で、次いで大きい振幅で連続的に印加する陽極酸化法
により作成することを特徴とするエレクトロクロミック
素子の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61100825A JPH0827467B2 (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
| US07/043,805 US4902109A (en) | 1986-05-02 | 1987-04-29 | Electrochromic device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61100825A JPH0827467B2 (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62258432A true JPS62258432A (ja) | 1987-11-10 |
| JPH0827467B2 JPH0827467B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=14284101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61100825A Expired - Fee Related JPH0827467B2 (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827467B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5355421A (en) * | 1976-10-29 | 1978-05-19 | Riken Keikinzoku Kogyo Kk | Surface treatment for coloring aluminum or aluminum alloy |
| JPS59180528A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-13 | Fujitsu Ltd | 酸化発色型エレクトロクロミツク層の製造方法 |
-
1986
- 1986-05-02 JP JP61100825A patent/JPH0827467B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5355421A (en) * | 1976-10-29 | 1978-05-19 | Riken Keikinzoku Kogyo Kk | Surface treatment for coloring aluminum or aluminum alloy |
| JPS59180528A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-13 | Fujitsu Ltd | 酸化発色型エレクトロクロミツク層の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0827467B2 (ja) | 1996-03-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Itaya et al. | Electrochemistry of Prussian blue modified electrodes: an electrochemical preparation method | |
| EP0197743A2 (en) | Addressing liquid crystal cells | |
| US4205903A (en) | Writing/erasing technique for an electrochromic display cell | |
| JPH0760235B2 (ja) | エレクトロクロミック表示装置 | |
| JPS5941563B2 (ja) | エレクトロクロミツク表示体の駆動方法 | |
| JPH0523409B2 (ja) | ||
| JP2515508B2 (ja) | エレクトロクロミック素子用陽極酸化膜の製造方法 | |
| JPS62258433A (ja) | エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPH0827467B2 (ja) | エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS6057574B2 (ja) | エレクトロクロミツク電極の製造方法 | |
| US4902109A (en) | Electrochromic device | |
| JPH01136129A (ja) | エレクトロクロミック素子の製造方法 | |
| JPS63286826A (ja) | エレクトロクロミツク表示素子 | |
| JPS606384B2 (ja) | エレクトロクロミツク材料の製造方法 | |
| EP0112037B1 (en) | A method of driving an electrochromic display device | |
| JPS62196627A (ja) | エレクトロクロミツク表示素子 | |
| JPS63282720A (ja) | エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPH0339724A (ja) | エレクトロクロミック素子 | |
| JPH0135326B2 (ja) | ||
| JPS617380A (ja) | エレクトロクロミツク表示素子 | |
| JPH02926A (ja) | エレクトロクロミック素子の製造方法 | |
| JPH0464047B2 (ja) | ||
| JPS62295031A (ja) | エレクトロクロミツク表示装置 | |
| JPS6353523A (ja) | エレクトロクロミツク素子 | |
| JPH02240293A (ja) | 陽極酸化膜の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |