JPS62260719A - 前周期遷移金属ポリスルフイド錯体およびその製造方法 - Google Patents
前周期遷移金属ポリスルフイド錯体およびその製造方法Info
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- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 title claims abstract description 50
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 title claims abstract description 50
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- -1 transition metal chalcogenide Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical group C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 claims description 7
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical group [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PJMJFVQKDBRMIP-UHFFFAOYSA-N tetraphenylarsonium Chemical group C1=CC=CC=C1[As+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PJMJFVQKDBRMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000010936 titanium Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical group [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical group [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract 2
- 229910001216 Li2S Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 1,1-ethanedithiol Chemical class CC(S)S DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910016323 MxSy Inorganic materials 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019804 NbCl5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021551 Vanadium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002641 lithium Chemical class 0.000 description 1
- OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I manganese(3+) 5,10,15-tris(1-methylpyridin-1-ium-4-yl)-20-(1-methylpyridin-4-ylidene)porphyrin-22-ide pentachloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Mn+3].C1=CN(C)C=CC1=C1C(C=C2)=NC2=C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)C([N-]2)=CC=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C(C=C2)N=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C2N=C1C=C2 OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- GCPVYIPZZUPXPB-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) bromide Chemical compound Br[Ta](Br)(Br)(Br)Br GCPVYIPZZUPXPB-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+3] HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は前用jtJ]遷移金属ポリスルフィド錯体およ
びその製造方法に関し、詳しくは新規な前周期遷移金属
ポリスルフィド錯体ならびにその効率のよい製造方法に
関する。
びその製造方法に関し、詳しくは新規な前周期遷移金属
ポリスルフィド錯体ならびにその効率のよい製造方法に
関する。
〔従来の技術および発明が解決しようとする問題点〕ニ
オブ、タンタル等の前周期遷移金属のカルコゲニド化合
物は、特有の電磁気的性質等、興味深い物性を示す無機
高分子化合物であり、最近様々な分野で注目を浴びてき
ている。
オブ、タンタル等の前周期遷移金属のカルコゲニド化合
物は、特有の電磁気的性質等、興味深い物性を示す無機
高分子化合物であり、最近様々な分野で注目を浴びてき
ている。
しかし、これまでのところ上述の無機高分子化合物を製
造するには、前周期遷移金属の粉末とカルコゲンを7昆
合したものを500〜1000℃およびそれ以上の高温
下で同相反応させる方法に限られていた。しかも、この
固相反応によって得られる無機高分子化合物は、必ずし
も所望する物性を示さず、実用的価値のあるものはなか
なか製造することができなかった。
造するには、前周期遷移金属の粉末とカルコゲンを7昆
合したものを500〜1000℃およびそれ以上の高温
下で同相反応させる方法に限られていた。しかも、この
固相反応によって得られる無機高分子化合物は、必ずし
も所望する物性を示さず、実用的価値のあるものはなか
なか製造することができなかった。
また、本発明者らは先般、上述の無機高分子化合物の新
しい製造方法として、モノマーに相当するエタンジチオ
ラート錯体を合成し、これを熱分解qて無機高分子化す
る方法を開発した(特願昭60−222719号明細書
)。この方法により製造される無機高分子化合物は、熱
分解条件を選定することにより、希望する電気伝導度を
付与することができるものである。しかしながら、この
無機高分子化合物には、チオラートやカチオン種に由来
する炭素や水素が10〜20%程度残存するという問題
がある。
しい製造方法として、モノマーに相当するエタンジチオ
ラート錯体を合成し、これを熱分解qて無機高分子化す
る方法を開発した(特願昭60−222719号明細書
)。この方法により製造される無機高分子化合物は、熱
分解条件を選定することにより、希望する電気伝導度を
付与することができるものである。しかしながら、この
無機高分子化合物には、チオラートやカチオン種に由来
する炭素や水素が10〜20%程度残存するという問題
がある。
そこで本発明者らは、さらに研究を進め、上述の方法の
欠点を解消し、全く新たな方法で効率よくしかも物性の
すくれた上記無機高分子化合物である前周期遷移金属カ
ルコゲニドを製造すべく検討を重ねた。
欠点を解消し、全く新たな方法で効率よくしかも物性の
すくれた上記無機高分子化合物である前周期遷移金属カ
ルコゲニドを製造すべく検討を重ねた。
その結果、特定の金属ポリスルフィド錯体を熱分解する
ことにより、目的とする物性の前周期遷移金属カルコゲ
ニドを製造することに成功した。
ことにより、目的とする物性の前周期遷移金属カルコゲ
ニドを製造することに成功した。
また、その研究過程において、本発明者らは上述の熱分
解原料として、全く新たな金属錯体を開発することにも
成功した。
解原料として、全く新たな金属錯体を開発することにも
成功した。
本発明の目的は、すぐれた物性を有する無機高分子化合
物たる前周期遷移金属カルコゲニドの製造原料として有
用な新規な金属錯体を提供すること、およびこの錯体の
を効な製造方法を提供することにある。
物たる前周期遷移金属カルコゲニドの製造原料として有
用な新規な金属錯体を提供すること、およびこの錯体の
を効な製造方法を提供することにある。
すなわち本発明は、
一般式
%式%(1)
(式中、Mはニオブ、ジルコニウム、バナジウム、タン
タルあるいはチタンを示し、Aはリチウム、テトラフェ
ニルホスホニラ11゜テ1−ラフェニルアルソニウムあ
るいはテトラアルキルアンモニウムを示す。また、X+
Yは正の実数を示す。) で表わされる前用!tJI遷移金属ポリスルフィド↑1
¥体を提供するものであり、またこの一般式(1)で表
わされる前周!t11遷移金9ポリズルフィド錯体を製
造する方法として、一般式MX’、(式中、Mは前記と
同じであり、XIはハロゲン原子を示す。
タルあるいはチタンを示し、Aはリチウム、テトラフェ
ニルホスホニラ11゜テ1−ラフェニルアルソニウムあ
るいはテトラアルキルアンモニウムを示す。また、X+
Yは正の実数を示す。) で表わされる前用!tJI遷移金属ポリスルフィド↑1
¥体を提供するものであり、またこの一般式(1)で表
わされる前周!t11遷移金9ポリズルフィド錯体を製
造する方法として、一般式MX’、(式中、Mは前記と
同じであり、XIはハロゲン原子を示す。
mはMの原子価を示す。)で表わされるハロゲン化金属
および一般式LizSm(式中、aは1〜5の実数を示
す。)で表わされるリチウムポリスルフィドを反応させ
る方法(以下「方法1」という。
および一般式LizSm(式中、aは1〜5の実数を示
す。)で表わされるリチウムポリスルフィドを反応させ
る方法(以下「方法1」という。
ならびに一般式MX’ff1C式中、M 、 X ’
、 mは前記と同じ。)で表わされるハロゲン化金属、
一般式Li2Sa(式中、aは前記と同じ。)で表わさ
れるリチウムポリスルフィドおよび一般式QX2(式中
、Qはテトラフェニルホスホニウム。
、 mは前記と同じ。)で表わされるハロゲン化金属、
一般式Li2Sa(式中、aは前記と同じ。)で表わさ
れるリチウムポリスルフィドおよび一般式QX2(式中
、Qはテトラフェニルホスホニウム。
テトラフェニルアルソニウムまたはテトラアルキルアン
モニウムを示し、X2はハロゲン原子を示す。)で表わ
されるハロゲン化合物を反応させる方法(以下「方法2
」という。)を提供するものである。
モニウムを示し、X2はハロゲン原子を示す。)で表わ
されるハロゲン化合物を反応させる方法(以下「方法2
」という。)を提供するものである。
前記一般的(1)で表わされる本発明の前周期遷移金属
ポリスルフィド錯体は炭素と水素を含まない可溶性キレ
ート型ポリスルフィド錯体であり、この錯体において、
Mはニオブ、ジルコニウム。
ポリスルフィド錯体は炭素と水素を含まない可溶性キレ
ート型ポリスルフィド錯体であり、この錯体において、
Mはニオブ、ジルコニウム。
バナジウム、タンクルあるいはチタンのいずれかの前周
期遷移金属であり、Aはリチウム(Li)。
期遷移金属であり、Aはリチウム(Li)。
テトラフェニルホスホニウム((C6H5)JP))
。
。
テトラフェニルアルソニウム((C6Hs)4AS)
あるいはテトラアルキルアンモニウム(R4N)で)、
ある。またx、yは必ずしも整数に限られず、正の実数
であればよく特に限定はないが、通常はyとXのモル比
y/xとして2〜4である。このポリスルフィド錯体の
具体例をあげれば、Aがリチウムの場合には、Li (
Nb3S+z)などがあり、またAがテトラフェニルホ
スホニウムの場合には、((C6H5)4P)[Nbz
Szz)などがある。
あるいはテトラアルキルアンモニウム(R4N)で)、
ある。またx、yは必ずしも整数に限られず、正の実数
であればよく特に限定はないが、通常はyとXのモル比
y/xとして2〜4である。このポリスルフィド錯体の
具体例をあげれば、Aがリチウムの場合には、Li (
Nb3S+z)などがあり、またAがテトラフェニルホ
スホニウムの場合には、((C6H5)4P)[Nbz
Szz)などがある。
前述した本発明の方法1によれば、−C式A (MXS
y)で表わされる前周期遷移金属ポリスルフィド錯体の
うち、Aがリチウムである一般式L i (M XS
y )で表わされる錯体が得られる。この方法1によっ
て上記前周期遷移金属ポリスルフィド錯体を製造するに
は、前周期遷移金属のハロゲン化物(ハロゲン化金属)
とリチウムポリスルフィドを反応させればよい。ここで
ハロゲン化金属は一般式MX’、で表わされるものであ
り、具体的にはNbCl5+ NbBr5.ZrC1n
+ ZrBratV Cl3. V Br3. T
aCl5. TaBr5. TlC14゜T i B
r aなどがあげられる。
y)で表わされる前周期遷移金属ポリスルフィド錯体の
うち、Aがリチウムである一般式L i (M XS
y )で表わされる錯体が得られる。この方法1によっ
て上記前周期遷移金属ポリスルフィド錯体を製造するに
は、前周期遷移金属のハロゲン化物(ハロゲン化金属)
とリチウムポリスルフィドを反応させればよい。ここで
ハロゲン化金属は一般式MX’、で表わされるものであ
り、具体的にはNbCl5+ NbBr5.ZrC1n
+ ZrBratV Cl3. V Br3. T
aCl5. TaBr5. TlC14゜T i B
r aなどがあげられる。
一方、リチウムポリスルフィドは一般式t、t2saで
表わされるものであり、具体的には通常はL iz S
a 、 L iz S sがあげられるが、またL
izS、 I、1zSz、LizS3などもある。さ
らに上記化合物の混合物の場合はaは非整数となる。
表わされるものであり、具体的には通常はL iz S
a 、 L iz S sがあげられるが、またL
izS、 I、1zSz、LizS3などもある。さ
らに上記化合物の混合物の場合はaは非整数となる。
なお、このリチウムポリスルフィドは金属リチウムと単
体いおうを液体アンモニウム中で撹拌するなどの方法で
得ることができる。
体いおうを液体アンモニウム中で撹拌するなどの方法で
得ることができる。
上述の方法1は、ハロゲン化金属とリチウムポリスルフ
ィドを反応させることによって進行するが、この際溶媒
としてアセトニトリルを用いることが好ましく、アセト
ニトリル存在下で上記反応を行なうと効率よく進行する
。また、この際の反応温度は特に制限はなく、所望する
部間3tJI遷移金属ポリスルフィド錯体の種類等によ
り異なるが、一般には−40°C〜+50°C1好まし
くはo ’c〜20℃程度の範囲に設定すればよい。さ
らに、反応の際に加えるハロゲン化金属とリチウムポリ
スルフィドの量比についても、f!A造すべきポリスル
フィド錯体の種類に応じて定めればよく、特に制限はな
い。
ィドを反応させることによって進行するが、この際溶媒
としてアセトニトリルを用いることが好ましく、アセト
ニトリル存在下で上記反応を行なうと効率よく進行する
。また、この際の反応温度は特に制限はなく、所望する
部間3tJI遷移金属ポリスルフィド錯体の種類等によ
り異なるが、一般には−40°C〜+50°C1好まし
くはo ’c〜20℃程度の範囲に設定すればよい。さ
らに、反応の際に加えるハロゲン化金属とリチウムポリ
スルフィドの量比についても、f!A造すべきポリスル
フィド錯体の種類に応じて定めればよく、特に制限はな
い。
次に、本発明の方法2によれば一般式A(M、s、)で
表わされる前周期遷移金属ポリスルフィド錯体のうち、
Aがテトラフェニルホスホニウムである一般式 ((C
61(S)4P)(M、Sy)の錯体、Aかテトラフェ
?ラルソニウムである一般式((C6H5)4As)(
MxSy〕の錯体、あるいはAがテトラアルキルアンモ
ニウムである一般式(R,N)(MXS、)(式中、R
はアルキル基)の錯体が得られる。この方法2によって
、前周間遷移金属ポリスルフィド錯体を製造するには、
前述のハロゲン化金属とリチウムポリスルフィドととも
に、ハロゲン化合物、具体的にはハ[2ゲン化テトラフ
エニルホスホニウム、ハロケン化テトラフェニルアルソ
ニウムあるいはハロゲン化テトラアルキルアンモニウム
を反応させn、ぽよい。ここでハロゲン化金属およびリ
チウムポリスルフィドの具体例としては前述した如きも
のがあげられる。
表わされる前周期遷移金属ポリスルフィド錯体のうち、
Aがテトラフェニルホスホニウムである一般式 ((C
61(S)4P)(M、Sy)の錯体、Aかテトラフェ
?ラルソニウムである一般式((C6H5)4As)(
MxSy〕の錯体、あるいはAがテトラアルキルアンモ
ニウムである一般式(R,N)(MXS、)(式中、R
はアルキル基)の錯体が得られる。この方法2によって
、前周間遷移金属ポリスルフィド錯体を製造するには、
前述のハロゲン化金属とリチウムポリスルフィドととも
に、ハロゲン化合物、具体的にはハ[2ゲン化テトラフ
エニルホスホニウム、ハロケン化テトラフェニルアルソ
ニウムあるいはハロゲン化テトラアルキルアンモニウム
を反応させn、ぽよい。ここでハロゲン化金属およびリ
チウムポリスルフィドの具体例としては前述した如きも
のがあげられる。
また、ハロゲン化テトラフェニルホスホニウムは−S式
(C6H5)4PX”で表わされるものであり、具体的
には(C6H5)4PBr、(C6Hs)4PCIがあ
げられる。ハロゲン化テトラフェニルアルソニウムは一
般式(Cb Hs ) 4 A s X ”で表わされ
、具体的には(C6H5)4AS Cj!+ (ChH
s)4AsBrなどがあげられ、ハロゲン化テトラアル
キルアンモニウムは一般式R4NX”で表わされ、具体
的には(CzHs)aNcl、(CzHs)aNBr。
(C6H5)4PX”で表わされるものであり、具体的
には(C6H5)4PBr、(C6Hs)4PCIがあ
げられる。ハロゲン化テトラフェニルアルソニウムは一
般式(Cb Hs ) 4 A s X ”で表わされ
、具体的には(C6H5)4AS Cj!+ (ChH
s)4AsBrなどがあげられ、ハロゲン化テトラアル
キルアンモニウムは一般式R4NX”で表わされ、具体
的には(CzHs)aNcl、(CzHs)aNBr。
(C4H9)NCR,CCaHq)NBrなどがあげら
れる。
れる。
上述の方法2は、ハロゲン化金属、リチウムポリスルフ
ィドおよびハロゲン化テトラフェニルホスホニウム(あ
るいはハロゲン化テトラフェニルアルソニウムやハロゲ
ン化テトラアルキルアンモニウム)を同時に反応系に加
えて反応を進行させてもよく、また前記方法1にて一般
式Li(M、S、)をつくり、さらにこれにハロゲン化
テトラフェニルホスホニウム(あるいはハロゲン化テト
ラフェニルアルソニウムやハロゲン化テトラアルキルア
ンモニウム)を反応させることによって進行させてもよ
い。いずれの場合においても反応は溶媒としてのアセト
ニトリルの存在下で進行させることが好ましく、また、
この際の反応1品度や各層f:)の使用割合については
、前記方法1に準ずればよく、特に制限はない。
ィドおよびハロゲン化テトラフェニルホスホニウム(あ
るいはハロゲン化テトラフェニルアルソニウムやハロゲ
ン化テトラアルキルアンモニウム)を同時に反応系に加
えて反応を進行させてもよく、また前記方法1にて一般
式Li(M、S、)をつくり、さらにこれにハロゲン化
テトラフェニルホスホニウム(あるいはハロゲン化テト
ラフェニルアルソニウムやハロゲン化テトラアルキルア
ンモニウム)を反応させることによって進行させてもよ
い。いずれの場合においても反応は溶媒としてのアセト
ニトリルの存在下で進行させることが好ましく、また、
この際の反応1品度や各層f:)の使用割合については
、前記方法1に準ずればよく、特に制限はない。
なお、方法2によって得られる一般式
((C6H5)4P)(MXsy)で表わされる錯体(
錯体のPh4P塩)は、一般式L i (M XS y
)で表わされる錯体(錯体のL i塩)よりも空気中に
おいてやや安定に存在するものである。
錯体のPh4P塩)は、一般式L i (M XS y
)で表わされる錯体(錯体のL i塩)よりも空気中に
おいてやや安定に存在するものである。
上述の方法1あるいは方法2によれば、前記したような
一般式(I)で表わされるような前周期遷移金属ポリス
ルフィド錯体の結晶が得られるが、さらにこの結晶をジ
メチルホルムアミド(DMF)等の溶媒に溶解し、再結
晶を行なえば一層純度の高い錯体が得られる。
一般式(I)で表わされるような前周期遷移金属ポリス
ルフィド錯体の結晶が得られるが、さらにこの結晶をジ
メチルホルムアミド(DMF)等の溶媒に溶解し、再結
晶を行なえば一層純度の高い錯体が得られる。
本発明の方法1,2によれば、高い収率でしかも高純度
の前回!tJI遷移金属ポリスルフィド錯体が得られる
。また、この錯体は、簡単な熱分解反応によって、ニオ
ブカルコゲニド、ジルコニウムカルコゲニド、バナジウ
ムカルコゲニド、タンタンカルコゲニド、チタンカルコ
ゲニドという金属カルコゲニドと称される電気伝導性の
良好な無機高分子化合物となる。特に、この場合に得ら
れる無機高分子化合物は、炭素や水素等の不純物の極め
て少ないものとなる。
の前回!tJI遷移金属ポリスルフィド錯体が得られる
。また、この錯体は、簡単な熱分解反応によって、ニオ
ブカルコゲニド、ジルコニウムカルコゲニド、バナジウ
ムカルコゲニド、タンタンカルコゲニド、チタンカルコ
ゲニドという金属カルコゲニドと称される電気伝導性の
良好な無機高分子化合物となる。特に、この場合に得ら
れる無機高分子化合物は、炭素や水素等の不純物の極め
て少ないものとなる。
したがって、本発明の前周期遷移金属ポリスルフィド錯
体は、良好な電気伝導性を示す無機高分子化合物の製造
原料として有効に利用することができる。
体は、良好な電気伝導性を示す無機高分子化合物の製造
原料として有効に利用することができる。
[実施例]
次に本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
なお、以下の操作はすべてアルゴン雰囲気下、あるいは
真空下で行ない、また溶媒は充分に乾燥した後、アルゴ
ン雰囲気下で蒸留して使用した。
真空下で行ない、また溶媒は充分に乾燥した後、アルゴ
ン雰囲気下で蒸留して使用した。
参考例1(リチウムポリスルフィド(LizS4)の合
成)金属リチウム0.66g(95ミリモル)と単体イ
オウ(S原子すなわち1/838として) 6.1 g
(190ミリモル)を500mff三つロフラスコに入
れ、メカニカルスタラーを取り付けた。反応系を一78
℃にした後、攪拌しながらアンモニアガスを吹き込んだ
ところ、橙褐色の溶液が生成した。液体アンモニアが約
200mlになるまでアンモニアガスを吹き込み、その
後、冷媒を取り除き、室温でアンモニアを留去した。約
3時間後にはアンモニアは留去され、橙褐色の固体が得
られた。これをさらに減圧下で一晩乾燥しアンモニアを
除いた。容器の底にへばりつくようにしてリチウムポリ
スルフィド(LizSn) 7.2 gが得られた。
成)金属リチウム0.66g(95ミリモル)と単体イ
オウ(S原子すなわち1/838として) 6.1 g
(190ミリモル)を500mff三つロフラスコに入
れ、メカニカルスタラーを取り付けた。反応系を一78
℃にした後、攪拌しながらアンモニアガスを吹き込んだ
ところ、橙褐色の溶液が生成した。液体アンモニアが約
200mlになるまでアンモニアガスを吹き込み、その
後、冷媒を取り除き、室温でアンモニアを留去した。約
3時間後にはアンモニアは留去され、橙褐色の固体が得
られた。これをさらに減圧下で一晩乾燥しアンモニアを
除いた。容器の底にへばりつくようにしてリチウムポリ
スルフィド(LizSn) 7.2 gが得られた。
参1112 <リチウムポリスルフィド頁LizSs)
の合成)参考例1において、単体イオウ(S原子すなわ
ち1/8Seとして)を7.6g(240ミリモル)と
したjこヒ以外は、参考例Iと同様の操作を行なって、
リチウムポリスルフィド(LizSs)を高収率で得た
。
の合成)参考例1において、単体イオウ(S原子すなわ
ち1/8Seとして)を7.6g(240ミリモル)と
したjこヒ以外は、参考例Iと同様の操作を行なって、
リチウムポリスルフィド(LizSs)を高収率で得た
。
実施例1
参考例2で得られたリチウムポリスルフィド(L iz
S s’) 6.3 g (36,2ミリモル)のア
セトニトリル溶液100mlに、五塩化ニオブ(NbC
1,)2.9g(10,7ミリモル)のアセトニトリル
溶液60m1水浴中で滴下した。数分で溶液の色は褐色
から緑に変わった。そのまま−晩撹拌した。その後褐色
の沈殿(LiC1,Nbを含む分解物)を濾過により取
除いた後、アセトニトリルを減圧下で留去し、緑色ター
ル状の固体(ポリスルフィド錯体Li (Nb3S、□
))5.8gを得た。
S s’) 6.3 g (36,2ミリモル)のア
セトニトリル溶液100mlに、五塩化ニオブ(NbC
1,)2.9g(10,7ミリモル)のアセトニトリル
溶液60m1水浴中で滴下した。数分で溶液の色は褐色
から緑に変わった。そのまま−晩撹拌した。その後褐色
の沈殿(LiC1,Nbを含む分解物)を濾過により取
除いた後、アセトニトリルを減圧下で留去し、緑色ター
ル状の固体(ポリスルフィド錯体Li (Nb3S、□
))5.8gを得た。
実施例2
上記実施例1で得られた固体にテトラフェニルホスホニ
ウムブロマイド(C6H5)4P B r 4. l’
g(10ミリモル)のアセトニトリル溶液(20mjり
を少量ずつ加えて攪拌し、−晩冷蔵庫に静置して粗結晶
を得、さらにこれを常法により精製して結晶3.5gを
得た。このものの分析結果は次のとおりであった。
ウムブロマイド(C6H5)4P B r 4. l’
g(10ミリモル)のアセトニトリル溶液(20mjり
を少量ずつ加えて攪拌し、−晩冷蔵庫に静置して粗結晶
を得、さらにこれを常法により精製して結晶3.5gを
得た。このものの分析結果は次のとおりであった。
遠赤外吸収スペクトル(Nujol mull、 cm
−’)492m、 369m、 350m、 3
25m。
−’)492m、 369m、 350m、 3
25m。
290ww、 267w、 187W紫外−可視吸
収スペクトル(λmax、 nm)CTI3CN溶液5
G0.612; C11:lOH溶ン(1318,380sh、 4
30shこれらの結果および元素分析の結果から、上記
結晶は組成式((C6H5)4P)CNh3S+□〕で
表わされるポリスルフィド錯体であることがわかった。
収スペクトル(λmax、 nm)CTI3CN溶液5
G0.612; C11:lOH溶ン(1318,380sh、 4
30shこれらの結果および元素分析の結果から、上記
結晶は組成式((C6H5)4P)CNh3S+□〕で
表わされるポリスルフィド錯体であることがわかった。
実施例3
参考例1で得られたリチウムポリスルフィド(Lj25
4) 6.6 g(44゜6ミリモル)と四塩化ジルコ
ニウム(ZrCI4) 3.4 g (14,8gミ
リ、ユ モル)をアセトニトリル中にて室温1時間反応させて橙
色のポリスルフィド錯体Li (ZrXS、)6.6g
を得た。この錯体はアセトニトリルやジメチルホルムア
ミド るが、これはS3−の色である。またこの錯体はメタノ
ールに熔けて黄色溶液になった。なお、このものの分析
結果(紫外−可視吸収スペクトル)は次の通りであった
。
4) 6.6 g(44゜6ミリモル)と四塩化ジルコ
ニウム(ZrCI4) 3.4 g (14,8gミ
リ、ユ モル)をアセトニトリル中にて室温1時間反応させて橙
色のポリスルフィド錯体Li (ZrXS、)6.6g
を得た。この錯体はアセトニトリルやジメチルホルムア
ミド るが、これはS3−の色である。またこの錯体はメタノ
ールに熔けて黄色溶液になった。なお、このものの分析
結果(紫外−可視吸収スペクトル)は次の通りであった
。
紫外−可視吸収スペクトル(λmax, nm)c H
、O H ?8液 4 0 2実施例4 三塩化バナジウム(VCI:l) 2.4 g (1
5ミリモル)のアセトニトリル懸濁液を、参考例1で得
られたリチウムポリスルフィド(LizSa) 4.
2 g(30.2ミリモル)のアセトニトリル懸濁液に
加えたところ、液の色が橙褐色から濃褐色に変化した。
、O H ?8液 4 0 2実施例4 三塩化バナジウム(VCI:l) 2.4 g (1
5ミリモル)のアセトニトリル懸濁液を、参考例1で得
られたリチウムポリスルフィド(LizSa) 4.
2 g(30.2ミリモル)のアセトニトリル懸濁液に
加えたところ、液の色が橙褐色から濃褐色に変化した。
1時間攪拌した後、不溶物を濾過し、減圧下で溶媒を留
去したところ、黒色ガラス状の固体(ポリスルフィド錯
体L i ( V XS y))6. 2 gが得られ
た。この生成物はアセトニトリルやDMFに溶−は緑色
の溶液を与え、またメタノールに溶は黄色の溶液になっ
た。なお、このものの分析結果(紫外−可視吸収スペク
トル)は次のとおりであった。
去したところ、黒色ガラス状の固体(ポリスルフィド錯
体L i ( V XS y))6. 2 gが得られ
た。この生成物はアセトニトリルやDMFに溶−は緑色
の溶液を与え、またメタノールに溶は黄色の溶液になっ
た。なお、このものの分析結果(紫外−可視吸収スペク
トル)は次のとおりであった。
紫外−可視吸収スペクトル(λmax, nm)C H
:lO H ?8液 2’5 6, 3 5
7, 4 5 0sh。
:lO H ?8液 2’5 6, 3 5
7, 4 5 0sh。
4 9 0sh, 5 9 0sh, 6 5 0
sh実施例5 参考例1で得られたリチウムポリスルフィド(LizS
4) 6. 6 g ( 44. 6ミリモル)と五塩
化タンクル(Tacls) 5. 7 g ( 1
5. 6ミリモル)幸 をアセトニトリルにて室温1時間反応させて赤褐色のポ
リスルフィド錯体i体Li (Ta.s,) 6. 8
gを得た。
sh実施例5 参考例1で得られたリチウムポリスルフィド(LizS
4) 6. 6 g ( 44. 6ミリモル)と五塩
化タンクル(Tacls) 5. 7 g ( 1
5. 6ミリモル)幸 をアセトニトリルにて室温1時間反応させて赤褐色のポ
リスルフィド錯体i体Li (Ta.s,) 6. 8
gを得た。
このta体はアセトニトリルやり. M Fに溶は緑色
溶液となり、またメタノールに)容けて赤褐色)各機に
なった。なお、このものの分析結果(紫外−可視吸収ス
ペクトル)は次の通りであった。
溶液となり、またメタノールに)容けて赤褐色)各機に
なった。なお、このものの分析結果(紫外−可視吸収ス
ペクトル)は次の通りであった。
紫外−可視吸収スペクトル(λmax, nm)C H
:lO Hm?ffl 3 1 0 sh, 3 7
0 sh。
:lO Hm?ffl 3 1 0 sh, 3 7
0 sh。
20sh
1・1己−・ニーへ1
Claims (8)
- (1)一般式 A〔M_xS_y〕 (式中、Mはニオブ、ジルコニウム、バナジウム、タン
タルあるいはチタンを示し、A はリチウム、テトラフェニルホスホニウム、テトラフェ
ニルアルソニウムあるいはテト ラアルキルアンモニウムを示す。また、x、yは正の実
数を示す。) で表わされる前周期遷移金属ポリスルフィド錯体。 - (2)一般式MX^1_m(式中、Mはニオブ、ジルコ
ニウム、バナジウム、タンタルあるいはチタンを示し、
X^1はハロゲン原子を示す。mはMの原子価を示す。 )で表わされるハロゲン化金属および一般式Li_2S
a(式中、aは1〜5の実数を示す。)で表わされるリ
チウムポリスルフィドを反応させることを特徴とする 一般式 Li〔M_xS_y〕 (式中、Mは前記と同じであり、x、yは正の実数を示
す。) で表わされる前周期遷移金属ポリスルフィド錯体の製造
方法。 - (3)反応をアセトニトリルの存在下で行なう特許請求
の範囲第2項記載の製造方法。 - (4)一般式MX^1_m(式中、Mはニオブ、ジルコ
ニウム、バナジウム、タンタルあるいはチタンを示し、
X^1はハロゲン原子を示す。mはMの原子価を示す。 )で表わされるハロゲン化金属、一般式Li_2Sa(
式中、aは1〜5の実数を示す。)で表わされるリチウ
ムポリスルフィドおよび一般式QX^2(式中、Qはテ
トラフェニルホスホニウム、テトラフェニルアルソニウ
ムまたはテトラアルキルアンモニウムを示し、X^2は
ハロゲン原子を示す。)で表わされるハロゲン化合物を
反応させることを特徴とする。 一般式 Q〔M_xS_Y〕 (式中、Q、Mは前記と同じであり、x、yは正の実数
を示す。) で表わされる前周期遷移金属ポリスルフィド錯体の製造
方法。 - (5)反応をアセトニトリルの存在下で行なう特許請求
の範囲第4項記載の製造方法。 - (6)一般式QX^2で表わされるハロゲン化合物が、
一般式(C_6H_5)_4PX^2で表わされるハロ
ゲン化テトラフェニルホスホニウムである特許請求の範
囲第4項記載の製造方法。 - (7)一般式QX^2で表わされるハロゲン化合物が、
一般式(C_6H_5)_4AsX^2で表わされるハ
ロゲン化テトラフェニルアルソニウムである特許請求の
範囲第4項記載の製造方法。 - (8)一般式QX^2で表わされるハロゲン化合物が、
一般式R_4NX^2(式中、Rはアルキル基を示す。 )で表わされるハロゲン化テトラアルキルアンモニウム
である特許請求の範囲第4項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10319386A JPS62260719A (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | 前周期遷移金属ポリスルフイド錯体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10319386A JPS62260719A (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | 前周期遷移金属ポリスルフイド錯体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62260719A true JPS62260719A (ja) | 1987-11-13 |
Family
ID=14347678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10319386A Pending JPS62260719A (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | 前周期遷移金属ポリスルフイド錯体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62260719A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014148432A1 (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | リチウムチタン硫化物、リチウムニオブ硫化物及びリチウムチタンニオブ硫化物 |
| JP2022170682A (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | ニオブ錯体およびリチウムを含む粉末および製造方法、並びに、ニオブ酸リチウムを含有する被覆層を有するリチウム二次電池正極活物質の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5278793A (en) * | 1975-12-17 | 1977-07-02 | Exxon Research Engineering Co | Chalcogenite and its manufacturing process |
-
1986
- 1986-05-07 JP JP10319386A patent/JPS62260719A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5278793A (en) * | 1975-12-17 | 1977-07-02 | Exxon Research Engineering Co | Chalcogenite and its manufacturing process |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014148432A1 (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | リチウムチタン硫化物、リチウムニオブ硫化物及びリチウムチタンニオブ硫化物 |
| JP6011989B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2016-10-25 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | リチウムチタン硫化物、リチウムニオブ硫化物及びリチウムチタンニオブ硫化物 |
| US10090524B2 (en) | 2013-03-18 | 2018-10-02 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Lithium titanium sulfide, lithium niobium sulfide, and lithium titanium niobium sulfide |
| JP2022170682A (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | ニオブ錯体およびリチウムを含む粉末および製造方法、並びに、ニオブ酸リチウムを含有する被覆層を有するリチウム二次電池正極活物質の製造方法 |
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