JPS62264128A - ウエハ真空処理装置 - Google Patents
ウエハ真空処理装置Info
- Publication number
- JPS62264128A JPS62264128A JP10648786A JP10648786A JPS62264128A JP S62264128 A JPS62264128 A JP S62264128A JP 10648786 A JP10648786 A JP 10648786A JP 10648786 A JP10648786 A JP 10648786A JP S62264128 A JPS62264128 A JP S62264128A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- holding section
- disposed
- vacuum
- bobbin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Gripping Jigs, Holding Jigs, And Positioning Jigs (AREA)
- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
- Reciprocating, Oscillating Or Vibrating Motors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、ウェハの搬送を行うウェハ搬送装置に関する
。
。
（従来の技術）
一般に超ＬＳＩ等の半導体装置は、ウェハに種々の処理
を行うことによって製造される。
を行うことによって製造される。
このような処理の多くはａ１温、高真空下で行われるた
め、例えば高真空下て処理を行う処理装置には、真空容
器内の所定の配置場所ｌ＼ウェハを搬送し載置するウェ
ハ搬送装置を備えているものか多い。
め、例えば高真空下て処理を行う処理装置には、真空容
器内の所定の配置場所ｌ＼ウェハを搬送し載置するウェ
ハ搬送装置を備えているものか多い。
従来ウェハ搬送装置は、ウェハ保持部に保持されたウェ
ハを所定の配置場所へ搬送する搬送用装置と、例えばエ
アーシリンダーまたは挺を利用した機械的なハンドリン
グアーム等を用いて駆動され、ウェハ保持部に保持され
たウェハを配置場所に載置する載置動作装置とを備えて
いる。
ハを所定の配置場所へ搬送する搬送用装置と、例えばエ
アーシリンダーまたは挺を利用した機械的なハンドリン
グアーム等を用いて駆動され、ウェハ保持部に保持され
たウェハを配置場所に載置する載置動作装置とを備えて
いる。
（発明が解決しようとする間肩点）
しかしながら、載置動作装置にハンドリングアームを用
いた従来のウェハ搬送装置では、機構が複雑となり、装
置が大型化するという問題と、眼識的な可動部か多くな
るため、塵の発生が多くなるという問題がある。また載
置動作装置にエアーシリンダーを用いたウェハ搬送装置
では、比較的小ヘリにりることかできるが、速度制御お
よび位置制御の制御性が悪く、ウェハに損傷を与える可
能性かあるという問題と、真空容器内ではエアーがリー
クして真空度に悪影響を与えるという問題かある、。
いた従来のウェハ搬送装置では、機構が複雑となり、装
置が大型化するという問題と、眼識的な可動部か多くな
るため、塵の発生が多くなるという問題がある。また載
置動作装置にエアーシリンダーを用いたウェハ搬送装置
では、比較的小ヘリにりることかできるが、速度制御お
よび位置制御の制御性が悪く、ウェハに損傷を与える可
能性かあるという問題と、真空容器内ではエアーがリー
クして真空度に悪影響を与えるという問題かある、。
本発明はかかる従来の問題に対処してなされたもので、
真空度および清浄度等に悪影響を与えることなく、小型
でかつ正確な載置動作を行うことのできるウェハ搬送Ｖ
ｔＭを提供しようとするものである。
真空度および清浄度等に悪影響を与えることなく、小型
でかつ正確な載置動作を行うことのできるウェハ搬送Ｖ
ｔＭを提供しようとするものである。
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
すなわち本発明のウェハ搬送装置は、搬送用装置と、制
御装置によって一制御されるボイスコイルモータおよび
このボイスコイルモータによって駆動されるウェハ保持
部をイ１する載置動作装置とを備えている。
御装置によって一制御されるボイスコイルモータおよび
このボイスコイルモータによって駆動されるウェハ保持
部をイ１する載置動作装置とを備えている。
（作用）
本発明のウェハ搬送装置では、制御装置により制御され
るボイスコイルモータによりウェハ保持部を駆動して載
置動作を行う。
るボイスコイルモータによりウェハ保持部を駆動して載
置動作を行う。
（実施例）
以下本発明の詳細を図面に示す一実施例について説明す
る。
る。
第１図および第２図は本発明の一実施例のつエバ搬送装
置の要部を示すもので、例えば希土類コバルト系磁石か
らなり表面にニツリルメッキを施された円板状の永久磁
石１は、透磁率の高い金属、例えば５Ｓ４１等からなる
センタピース２を固着され、容器上に形成された同様の
金属からなるヨーク３内の中央部に収容固着され、磁気
回路を形成している。
置の要部を示すもので、例えば希土類コバルト系磁石か
らなり表面にニツリルメッキを施された円板状の永久磁
石１は、透磁率の高い金属、例えば５Ｓ４１等からなる
センタピース２を固着され、容器上に形成された同様の
金属からなるヨーク３内の中央部に収容固着され、磁気
回路を形成している。
また、アルミ等の常磁性体からなる円板状のボビン４に
は、一方の面に例えばポリイミドコーティングを施され
た電線からなる環状のコイル５が突設され、反対側の面
にテフロン等からなる絶縁シート６を介して半円形状の
２つの静電チャック゛ 用−極７ａ、７ｂが固着され、
つ１ハ保持部が形成されている。
は、一方の面に例えばポリイミドコーティングを施され
た電線からなる環状のコイル５が突設され、反対側の面
にテフロン等からなる絶縁シート６を介して半円形状の
２つの静電チャック゛ 用−極７ａ、７ｂが固着され、
つ１ハ保持部が形成されている。
そして、このボビン４の環状のコイル５が、永久磁石１
およびセンタピース２とヨーク３との間に形成された環
状の間隙部に挿入され、ヨーク３とボビン４との間に配
置された３つの板バネ８により弾性的に保持され、ボイ
スコイルモータおよびウェハ保持部とからなる載置動作
装置９が構成されている。
およびセンタピース２とヨーク３との間に形成された環
状の間隙部に挿入され、ヨーク３とボビン４との間に配
置された３つの板バネ８により弾性的に保持され、ボイ
スコイルモータおよびウェハ保持部とからなる載置動作
装置９が構成されている。
なお、載置動作装置９は、搬送用装置１０の先端に配Ｈ
され、コイル５は図示しない制御装置に接続されている
。
され、コイル５は図示しない制御装置に接続されている
。
このような載置動作装置９では、コイル５に電流Ｉが流
されると、永久磁石１による磁束密度をＢ、１束とコイ
ル５とのなす角をθ、コイル５の長さをβとして、 Ｆ＝ＩＢＪＳｉｎθ で示される力Ｆがコイル５に加わ乞。また、ボビン４は
板バネ８により弾性的に保持されており、この板バネ８
のバネ係数と力Ｆとの釣り合いによってボビン４の移動
距離が決定される。
されると、永久磁石１による磁束密度をＢ、１束とコイ
ル５とのなす角をθ、コイル５の長さをβとして、 Ｆ＝ＩＢＪＳｉｎθ で示される力Ｆがコイル５に加わ乞。また、ボビン４は
板バネ８により弾性的に保持されており、この板バネ８
のバネ係数と力Ｆとの釣り合いによってボビン４の移動
距離が決定される。
従って、図示しない制御装置により、コイル５に流す電
流Ｉの量およびこの電流Ｉの単位時間当りの変化量を制
御し、ボビン４の移動距離および移動速度が制御される
。
流Ｉの量およびこの電流Ｉの単位時間当りの変化量を制
御し、ボビン４の移動距離および移動速度が制御される
。
そして、ウェハ搬送装置は、この載置動作装置９が、第
３図に示すように搬送用装置１０の先端に回転自在に配
置されて構成される。このウェハ搬送装置は、例えば副
真空室１１と主真空室１２とを有する超高真空ＣＶＤ装
置の副真空室１１内等に配Ｉａされる。
３図に示すように搬送用装置１０の先端に回転自在に配
置されて構成される。このウェハ搬送装置は、例えば副
真空室１１と主真空室１２とを有する超高真空ＣＶＤ装
置の副真空室１１内等に配Ｉａされる。
超高真空ＣＶＤＥ置では、副真空室１１と主真空室１２
とは、隔離用扉１３を有する開口１４によって連通され
ている。そして、ウェハを主真空室１２の加熱台１５上
にＨ，置する場合は、まず、隔１ｉ１１１扉１３を閉と
し、副真空室１１だけを常圧とし、開閉扉１６からウェ
ハを静電チャック用電極７ａ、７ｂ上に吸着させる。
とは、隔離用扉１３を有する開口１４によって連通され
ている。そして、ウェハを主真空室１２の加熱台１５上
にＨ，置する場合は、まず、隔１ｉ１１１扉１３を閉と
し、副真空室１１だけを常圧とし、開閉扉１６からウェ
ハを静電チャック用電極７ａ、７ｂ上に吸着させる。
この後、副真空室１１内を真空とし、隔離扉１３を開と
し、搬送用装置１０によりウェハを加熱台１５の上方ま
で搬送し、載置動作装置９によりウェハを加熱台１５と
接触状態とし、ウェハ保持部の静電ヂャックをＯＦＦと
することにより、ウェハを加熱台１５上に載置する。
し、搬送用装置１０によりウェハを加熱台１５の上方ま
で搬送し、載置動作装置９によりウェハを加熱台１５と
接触状態とし、ウェハ保持部の静電ヂャックをＯＦＦと
することにより、ウェハを加熱台１５上に載置する。
上記説明のようにこの実施例のウェハ搬送装置では、ウ
ェハ保持部をボイスコイルモータによって駆動する載置
動作装＠９を備えているので、駆動用エアーの漏れ等に
より真空度に悪影響を与え。
ェハ保持部をボイスコイルモータによって駆動する載置
動作装＠９を備えているので、駆動用エアーの漏れ等に
より真空度に悪影響を与え。
ることかない。また、小型で機械的駆動部が少ないので
、塵の発生が少なく、清浄化雰囲気を保つことができる
。さらに、コイル５に通電される電流および電流の単位
時間当たりの変化けを制御することにより、載置動作時
のウェハ保持部の移動速度および位置の制御を正確に行
うことがでさ、正確な載置動作を行うことができるので
、ウェハに損傷を与えることしない。
、塵の発生が少なく、清浄化雰囲気を保つことができる
。さらに、コイル５に通電される電流および電流の単位
時間当たりの変化けを制御することにより、載置動作時
のウェハ保持部の移動速度および位置の制御を正確に行
うことがでさ、正確な載置動作を行うことができるので
、ウェハに損傷を与えることしない。
［発明の効果］
上述のように本発明のウェハ搬送装置は、ボイスコイル
モータによってウェハ保持部を駆動し、Ｕ、置動作を行
う載＠動作装置を漸えているので、真空度および清浄度
等に悪影響を与えることがなく、小型でかつ正確な載置
動作を行うことができる。
モータによってウェハ保持部を駆動し、Ｕ、置動作を行
う載＠動作装置を漸えているので、真空度および清浄度
等に悪影響を与えることがなく、小型でかつ正確な載置
動作を行うことができる。
第１図は本発明の一実施例のウェハ搬送装置の要部を示
す縦断面図、第２図は第１図の側面図、第３図は第１図
に示づウェハ搬送装置を配置された超高真空ＣＶＤ装置
を示ず縦断面図である。 １・・・・・・永久磁石、２・・・・・・センターピー
ス、訃・・・・・ヨーク、４・・・・・・ボビン、５・
・・・・・コイル、７ａ１７ｂ・・・・・・静電チャッ
ク用電極、８・・・・・・板バネ、９・・・・・・Ｍ、
置動作装置、１０・・・・・・搬送用装置。
す縦断面図、第２図は第１図の側面図、第３図は第１図
に示づウェハ搬送装置を配置された超高真空ＣＶＤ装置
を示ず縦断面図である。 １・・・・・・永久磁石、２・・・・・・センターピー
ス、訃・・・・・ヨーク、４・・・・・・ボビン、５・
・・・・・コイル、７ａ１７ｂ・・・・・・静電チャッ
ク用電極、８・・・・・・板バネ、９・・・・・・Ｍ、
置動作装置、１０・・・・・・搬送用装置。
Claims (1)
- （１）搬送用装置と、制御装置によつて制御されるボイ
スコイルモータおよびこのボイスコイルモータによって
駆動されるウェハ保持部を有する載置動作装置とを備え
たことを特徴とするウェハ搬送装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10648786A JPS62264128A (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | ウエハ真空処理装置 |
| US06/911,362 US4733632A (en) | 1985-09-25 | 1986-09-25 | Wafer feeding apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10648786A JPS62264128A (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | ウエハ真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62264128A true JPS62264128A (ja) | 1987-11-17 |
| JPH0479932B2 JPH0479932B2 (ja) | 1992-12-17 |
Family
ID=14434820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10648786A Granted JPS62264128A (ja) | 1985-09-25 | 1986-05-09 | ウエハ真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62264128A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01227453A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Fujitsu Ltd | ウエーハ搬送具 |
| JPH01307537A (ja) * | 1988-06-06 | 1989-12-12 | Takenaka Komuten Co Ltd | 制振支持構造 |
| JPH02152820A (ja) * | 1988-12-01 | 1990-06-12 | Tel Sagami Ltd | 熱処理装置 |
| JP2008141898A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Duplo Seiko Corp | アクチュエータおよび搬送装置 |
| JP2009290991A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Iai:Kk | ボイスコイルモータとアクチュエータ |
| US7866058B2 (en) * | 2006-08-30 | 2011-01-11 | Semes Co., Ltd. | Spin head and substrate treating method using the same |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56171590U (ja) * | 1980-05-21 | 1981-12-18 | ||
| JPS5771260A (en) * | 1980-10-17 | 1982-05-04 | Mitsubishi Electric Corp | Actuator |
| JPS584389U (ja) * | 1981-06-30 | 1983-01-12 | 富士通株式会社 | ハンド |
-
1986
- 1986-05-09 JP JP10648786A patent/JPS62264128A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56171590U (ja) * | 1980-05-21 | 1981-12-18 | ||
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| JPS584389U (ja) * | 1981-06-30 | 1983-01-12 | 富士通株式会社 | ハンド |
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|---|---|---|---|---|
| JPH01227453A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Fujitsu Ltd | ウエーハ搬送具 |
| JPH01307537A (ja) * | 1988-06-06 | 1989-12-12 | Takenaka Komuten Co Ltd | 制振支持構造 |
| JPH02152820A (ja) * | 1988-12-01 | 1990-06-12 | Tel Sagami Ltd | 熱処理装置 |
| US7866058B2 (en) * | 2006-08-30 | 2011-01-11 | Semes Co., Ltd. | Spin head and substrate treating method using the same |
| JP2008141898A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Duplo Seiko Corp | アクチュエータおよび搬送装置 |
| JP2009290991A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Iai:Kk | ボイスコイルモータとアクチュエータ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0479932B2 (ja) | 1992-12-17 |
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