JPS62270921A - 液晶装置 - Google Patents
液晶装置Info
- Publication number
- JPS62270921A JPS62270921A JP11557186A JP11557186A JPS62270921A JP S62270921 A JPS62270921 A JP S62270921A JP 11557186 A JP11557186 A JP 11557186A JP 11557186 A JP11557186 A JP 11557186A JP S62270921 A JPS62270921 A JP S62270921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transparent electrode
- electrode
- liquid crystal
- metal film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔発明の技術分野〕
本発明は液晶装置に関する。
近時、光書込み式プリンタにおける光書込みゃテレビジ
ョン受像機などにおける画像形成などにおいては、光の
透過を制御する微少な多数のシャッタ部を配列形成した
液晶装置が用いられている。
ョン受像機などにおける画像形成などにおいては、光の
透過を制御する微少な多数のシャッタ部を配列形成した
液晶装置が用いられている。
この液晶装置は、液晶シャッタと呼ばれ、多数の信号電
極を配列形成した透明な基板と、前記信号電極に対向し
て共通電極を形成した透明な基板とを、電極形成面が内
側となるように液晶を介在して対向配置して構成したも
のである。すなわち、一方の基板に形成する信号1極と
他方の基板に形成する共通電極は、夫々基板表面に透明
シ称ヲ被着するとともに、この透明電極の表面に光が透
過する部分(シャッタ電極)を除いて金属@を被着して
構成されており、且つ信号成極における透明電極の光透
過部とこれに対向する共通電極における透明thiの光
透過部と両方の光透過部との間に位置する液晶とによっ
て多数のシャッタ部が配列形成されている。そして、信
号成極と共通電極との間に成田を印加して液晶分子の挙
動を制御することにより、各クヤッタ部を「開」または
「閉」にすることができる。
極を配列形成した透明な基板と、前記信号電極に対向し
て共通電極を形成した透明な基板とを、電極形成面が内
側となるように液晶を介在して対向配置して構成したも
のである。すなわち、一方の基板に形成する信号1極と
他方の基板に形成する共通電極は、夫々基板表面に透明
シ称ヲ被着するとともに、この透明電極の表面に光が透
過する部分(シャッタ電極)を除いて金属@を被着して
構成されており、且つ信号成極における透明電極の光透
過部とこれに対向する共通電極における透明thiの光
透過部と両方の光透過部との間に位置する液晶とによっ
て多数のシャッタ部が配列形成されている。そして、信
号成極と共通電極との間に成田を印加して液晶分子の挙
動を制御することにより、各クヤッタ部を「開」または
「閉」にすることができる。
しかして、この液晶装置において信号′電極および共通
シ臘の透明シ称に被着する金A@は、透明電極における
光透過部すなわちシャッタ成極′t−規定し、また電極
の抵抗を低下させるための役割をなしている。
シ臘の透明シ称に被着する金A@は、透明電極における
光透過部すなわちシャッタ成極′t−規定し、また電極
の抵抗を低下させるための役割をなしている。
従来、基板に信号成極および共通電極を形成するために
は、基板表面全体にスパッタリング法などによ)透明成
極を形成し、次に透明電極表面全体に蒸着法によシ金属
膜を形成し、その後にフォトエツチング法によシ透明1
極および金属膜の不要部分を除去して所定パターンの信
号および共通電極を形成している。
は、基板表面全体にスパッタリング法などによ)透明成
極を形成し、次に透明電極表面全体に蒸着法によシ金属
膜を形成し、その後にフォトエツチング法によシ透明1
極および金属膜の不要部分を除去して所定パターンの信
号および共通電極を形成している。
しかしながら、このような従来の電極に2いては、蒸着
法によジ金属層全形成しているので、金M膜を形成する
場合に蒸重装置を必要として製造設備が大掛りとなり、
しかも一度に多数の基板に対して蒸着を行ない金属膜を
形成することが困難では産には不適である。従って、従
来の液晶装置は、基板に設ける電@liを形成する上で
設備面2よび生産性の面で閉磁があった。
法によジ金属層全形成しているので、金M膜を形成する
場合に蒸重装置を必要として製造設備が大掛りとなり、
しかも一度に多数の基板に対して蒸着を行ない金属膜を
形成することが困難では産には不適である。従って、従
来の液晶装置は、基板に設ける電@liを形成する上で
設備面2よび生産性の面で閉磁があった。
本尊咽は前記事情に基づいて乙さ1乏もので、基板に設
ける准88t−大掛りな設備を用いることなく生産性良
く形成でき、しかも成極の特性の同上を図った液晶装U
t−提供することを目的とする。
ける准88t−大掛りな設備を用いることなく生産性良
く形成でき、しかも成極の特性の同上を図った液晶装U
t−提供することを目的とする。
本発明の液晶装置は、!極を設けた透明な一対の基板を
液晶を介して対向配まし、両基板の成極ふ・よび液晶に
よジシャッタ部(i−構成したものにおいて、少なくと
もいずれか一方のt電極は、基板表面に形成した透明1
′極と、この透明成極の異面に化学メッキにより形成さ
れた複数の金属層からなたものであることをvf徴とす
るものである。
液晶を介して対向配まし、両基板の成極ふ・よび液晶に
よジシャッタ部(i−構成したものにおいて、少なくと
もいずれか一方のt電極は、基板表面に形成した透明1
′極と、この透明成極の異面に化学メッキにより形成さ
れた複数の金属層からなたものであることをvf徴とす
るものである。
以下本発明を図面で示す実t!A例について説明する。
第3図ないし第6図は本発明の液晶装置すなわち液晶シ
ャッタの一実施例を示している。
ャッタの一実施例を示している。
図中1.2は透明ガラス板からなる基板で、この基板1
,2は対向配置されて枠形の外部クール材3および線状
の内部シール材4.4t−介して接着されている。基板
1,20間隙における内部シール材4,4に挾まれた部
分および外部シール材3の両端部には液晶LC例えばゲ
スト・ホスト効実用液晶が充填されている。
,2は対向配置されて枠形の外部クール材3および線状
の内部シール材4.4t−介して接着されている。基板
1,20間隙における内部シール材4,4に挾まれた部
分および外部シール材3の両端部には液晶LC例えばゲ
スト・ホスト効実用液晶が充填されている。
一方の基板1の内面には、多数の信号成極S・・・が受
手方向に間隔を存して配列形成されている。
手方向に間隔を存して配列形成されている。
信号を糧S・・・は透明成極5と金属膜6とからなるt
lのや 講aB蕾tX <け寡埒1の内面+y躍與シ稍
前記内部シール材4,4の内側に位置する光透過部であ
る2個のシャッタ電極7,7と外部シール材3の外側に
導出する端子8とを一体に形成したもので、各透明電極
S・・・の端子8は左右交互に導出するように形成され
る。金属膜6は透明電極5におけるシャッタ電極7,7
を除いた他の部分の表面に被着されている。信号成極S
は後に詳述する。なお、9は基板lの内面に形成した配
向膜である。
lのや 講aB蕾tX <け寡埒1の内面+y躍與シ稍
前記内部シール材4,4の内側に位置する光透過部であ
る2個のシャッタ電極7,7と外部シール材3の外側に
導出する端子8とを一体に形成したもので、各透明電極
S・・・の端子8は左右交互に導出するように形成され
る。金属膜6は透明電極5におけるシャッタ電極7,7
を除いた他の部分の表面に被着されている。信号成極S
は後に詳述する。なお、9は基板lの内面に形成した配
向膜である。
他方の基板2の内面には、帯状をなす2個の共通fii
c、Cが受手方向に沿って形成してあり、この共通電極
C,Cは、前記基板1の各信号電鴇S・・・に2ける一
方のシャッタ電極7・・・および端子8・・・の列と他
方のシャッタ、、IEa7・・・および端子8・・・の
列とに対向している。共通1極C,Cは、基板2の内面
に被着された帯状の透明′t glloと、この透明電
極10の表面に被着された金属@11とで構成され、且
つこの金属膜1ノの前記信号υI・・・のシャッタ成極
7・・・、7・・・と対向する部分が大夫開口さル、金
属膜11に2けるこルら]開口部に面する透明電極IQ
の各部分が光透過部である多数のシャッタ成極12・・
・、12・・・として形成されている。この共通型ic
、Cは後にも説明する。なお、13は基板2の内面に形
成した配向膜である。
c、Cが受手方向に沿って形成してあり、この共通電極
C,Cは、前記基板1の各信号電鴇S・・・に2ける一
方のシャッタ電極7・・・および端子8・・・の列と他
方のシャッタ、、IEa7・・・および端子8・・・の
列とに対向している。共通1極C,Cは、基板2の内面
に被着された帯状の透明′t glloと、この透明電
極10の表面に被着された金属@11とで構成され、且
つこの金属膜1ノの前記信号υI・・・のシャッタ成極
7・・・、7・・・と対向する部分が大夫開口さル、金
属膜11に2けるこルら]開口部に面する透明電極IQ
の各部分が光透過部である多数のシャッタ成極12・・
・、12・・・として形成されている。この共通型ic
、Cは後にも説明する。なお、13は基板2の内面に形
成した配向膜である。
そして、前記信号電極S・・・のシャッタ電極7・・・
、7・・・と、これに対向する前記共通型MC、Cのシ
ャッタ成極12・・・、12・・・と、前記液晶LCと
で多数のシャッタ部入・・・、&・・・が構成されて配
列されている。
、7・・・と、これに対向する前記共通型MC、Cのシ
ャッタ成極12・・・、12・・・と、前記液晶LCと
で多数のシャッタ部入・・・、&・・・が構成されて配
列されている。
次に前記基板1に設は九信号電極S・・・と前記基板2
に設けた共通型taic 、 C&Cついて説明を加え
る。
に設けた共通型taic 、 C&Cついて説明を加え
る。
まず信号成極St−81図について説明する。透明電極
5は酸化インジワム(I n、Os)に錫fjc添加し
た材料からなるもので、スパッタリングなどによって基
板1の表面に厚さ200〜300人で形成されている。
5は酸化インジワム(I n、Os)に錫fjc添加し
た材料からなるもので、スパッタリングなどによって基
板1の表面に厚さ200〜300人で形成されている。
金属膜6は、透明電極5の表面に還元反応による化学メ
ッキにより形成されたニッケル層6Nと、このニッケル
層6人の表面に置換反応による化学メッキすなわちil
lllツメツキり形成した金層6Bとからなるものであ
る。ニッケル層6Aの厚さは約1100え、金層6Bの
厚さは約900λとし、金属膜6全体の厚さは2000
λとした。この金属膜6の厚さは、2500大を越えな
いものとするのが好ましいが、その理由は薄いと金属膜
6が低抵抗とならず、厚いと金属膜6のエツジで液晶L
Cの配向が乱れるのでシャッタ部入のエツジが不明瞭に
なるためである。
ッキにより形成されたニッケル層6Nと、このニッケル
層6人の表面に置換反応による化学メッキすなわちil
lllツメツキり形成した金層6Bとからなるものであ
る。ニッケル層6Aの厚さは約1100え、金層6Bの
厚さは約900λとし、金属膜6全体の厚さは2000
λとした。この金属膜6の厚さは、2500大を越えな
いものとするのが好ましいが、その理由は薄いと金属膜
6が低抵抗とならず、厚いと金属膜6のエツジで液晶L
Cの配向が乱れるのでシャッタ部入のエツジが不明瞭に
なるためである。
信号型isは次の方法によフ形成する。まず、基板1の
表面に透明電極5を所定の信号を橋形状にパターニング
して形成する。久に透明’It%5の表面を塩化パラジ
ウムおよび還元剤を用いて活性化させて前処理を行なう
。その後、基板1t−メッキ浴のメッキ液中に浸漬し、
透明電gI5の還元反応vcよる化学メッキにより表面
にニッケル層6人を形成する。メッキ液は、金属塩(メ
ッキに必要な金属イオンを供給する。)、還元剤(金属
イオンを金属として還元析出させる。)、緩衝剤(金属
イオンの析出、還元剤の酸化によるP)(の変化を抑制
する。)とからなっている。この場合、基板1表面と透
明電極5との酸化還元電位の違いによシ透明′t&5表
面のみにニッケルが析出する。
表面に透明電極5を所定の信号を橋形状にパターニング
して形成する。久に透明’It%5の表面を塩化パラジ
ウムおよび還元剤を用いて活性化させて前処理を行なう
。その後、基板1t−メッキ浴のメッキ液中に浸漬し、
透明電gI5の還元反応vcよる化学メッキにより表面
にニッケル層6人を形成する。メッキ液は、金属塩(メ
ッキに必要な金属イオンを供給する。)、還元剤(金属
イオンを金属として還元析出させる。)、緩衝剤(金属
イオンの析出、還元剤の酸化によるP)(の変化を抑制
する。)とからなっている。この場合、基板1表面と透
明電極5との酸化還元電位の違いによシ透明′t&5表
面のみにニッケルが析出する。
次に、基板を置換メッキ用のメッキ浴のメッキ液中に浸
漬し置換メッキを行なう。この場せ、メッキ液中の金属
塩はシアン化カリとシアン化ニッケルを含むものであフ
、イオン化傾向の違いによりニッケル層6Nの表面が金
と置換して金層6Bが形成される。このようにパターニ
ングを施した透明電極5の表面に金W/4膜6を形成す
る方法によれば、基板1全面に透明&捲および金属膜を
面状に形成した麦にパターニングを行なう方法に比して
、金属膜6を構成する高価な金属を無駄に使用すること
がなく経済的である。
漬し置換メッキを行なう。この場せ、メッキ液中の金属
塩はシアン化カリとシアン化ニッケルを含むものであフ
、イオン化傾向の違いによりニッケル層6Nの表面が金
と置換して金層6Bが形成される。このようにパターニ
ングを施した透明電極5の表面に金W/4膜6を形成す
る方法によれば、基板1全面に透明&捲および金属膜を
面状に形成した麦にパターニングを行なう方法に比して
、金属膜6を構成する高価な金属を無駄に使用すること
がなく経済的である。
このように構成した信号υ■・・・において、金属膜6
は透明成極5の表面に還元メッキにより金層6Bt−形
成するので、表面層である。金1−6B金強固に形成で
きる。なお、金属膜6の下地にニッケルIn’を用いる
のは、透明成極に対して接合性が艮いためであり、表面
層に金を用いるのは、1a +CG叶−A? IrC/
RリM 叡9 B ’* f −W +で#中であ
るためである。ま九、金属膜6はニッケルと金との2層
構造で、シート抵抗が0.7Ω/8gである。
は透明成極5の表面に還元メッキにより金層6Bt−形
成するので、表面層である。金1−6B金強固に形成で
きる。なお、金属膜6の下地にニッケルIn’を用いる
のは、透明成極に対して接合性が艮いためであり、表面
層に金を用いるのは、1a +CG叶−A? IrC/
RリM 叡9 B ’* f −W +で#中であ
るためである。ま九、金属膜6はニッケルと金との2層
構造で、シート抵抗が0.7Ω/8gである。
このシート抵抗は従来の液晶表示装置における信号成極
のクロムからなる金属膜のシート抵抗3Q/!l1g(
膜厚200 OK)に比して大変小さい。このため、信
号型As・・・の数が増大した場合でも、信号電極S・
・・全体の抵抗を低く抑え、抵抗の増大による発熱や駆
動波形のなまりを防止できる効果がある。
のクロムからなる金属膜のシート抵抗3Q/!l1g(
膜厚200 OK)に比して大変小さい。このため、信
号型As・・・の数が増大した場合でも、信号電極S・
・・全体の抵抗を低く抑え、抵抗の増大による発熱や駆
動波形のなまりを防止できる効果がある。
また、共通域icも信号成極Sと同等の構成をなしてい
る。すなわち、第2図で示すように金、捕膜11は、透
明[& 10の表面に還元反応全利用した化学メッキに
より形成したニッケル1JJAと、このニッケル層11
Aの表面に置換メッキにより形成した金層11Bとから
なるものである。従って、信号成極S・・・の場合と同
様な効果を得ることができる。
る。すなわち、第2図で示すように金、捕膜11は、透
明[& 10の表面に還元反応全利用した化学メッキに
より形成したニッケル1JJAと、このニッケル層11
Aの表面に置換メッキにより形成した金層11Bとから
なるものである。従って、信号成極S・・・の場合と同
様な効果を得ることができる。
しかして、このように構成した液晶表示装置では、信号
シAs・・・2よび共通電極C,Cにおいて透明電極の
表面に設ける金属膜を化学メソキナなわち無電解メッキ
により形成するので、金属膜を蒸着法や電解メッキによ
り形成する場合に比して、金属膜を形成するための設備
が簡素である。また、化学メッキ?iA放雰囲気で処理
するために被メッキ物を大量にメッキ処理することがで
き、金属膜の形成を大量に能率良く行なうことができる
。さらに、化学メッキを採用することにより膜厚が一定
で、ピンホールのない金属膜を形成することができる。
シAs・・・2よび共通電極C,Cにおいて透明電極の
表面に設ける金属膜を化学メソキナなわち無電解メッキ
により形成するので、金属膜を蒸着法や電解メッキによ
り形成する場合に比して、金属膜を形成するための設備
が簡素である。また、化学メッキ?iA放雰囲気で処理
するために被メッキ物を大量にメッキ処理することがで
き、金属膜の形成を大量に能率良く行なうことができる
。さらに、化学メッキを採用することにより膜厚が一定
で、ピンホールのない金属膜を形成することができる。
なお、液晶表示装置に用いる基板に設ける電極の金pA
mを形成するために、化学メッキを採用するのは矢の
理由によるものである。信号電極及び共通at>が個々
に分離されており、特に信号電極は極めて多数の電極か
らなっているので電気的な接続が困難であるため電解メ
ッキができない。透明成極の抵抗が大きいために、電解
メッキでは充分な電流を几すことができず、また透明電
極の各部位ごとの電流恒が異なり、均一な膜厚のメッキ
が行なえない。
mを形成するために、化学メッキを採用するのは矢の
理由によるものである。信号電極及び共通at>が個々
に分離されており、特に信号電極は極めて多数の電極か
らなっているので電気的な接続が困難であるため電解メ
ッキができない。透明成極の抵抗が大きいために、電解
メッキでは充分な電流を几すことができず、また透明電
極の各部位ごとの電流恒が異なり、均一な膜厚のメッキ
が行なえない。
また、金属膜は還元メッキにより形成した金属層の表面
に置換メッキにより表面金属層を形成するので、表面金
属層を強固に形成することができ、金属膜の耐久性を向
上できる。
に置換メッキにより表面金属層を形成するので、表面金
属層を強固に形成することができ、金属膜の耐久性を向
上できる。
なお、基板上に成4f形成する場合、透明成極をパター
ニングした後に金属膜を形成する場合に限定されず、基
板の全面に透明電極を形成し、その後に透明成極の表面
全体に金属膜を形成し、最後に金属膜および透明成極を
電極形状にパターニングする方法を採用することも可能
である。
ニングした後に金属膜を形成する場合に限定されず、基
板の全面に透明電極を形成し、その後に透明成極の表面
全体に金属膜を形成し、最後に金属膜および透明成極を
電極形状にパターニングする方法を採用することも可能
である。
また、本発明の電極構造は、一対の基板のうち少なくと
もいずれか一方の基板に設けるt極に適用するものであ
れば良い。
もいずれか一方の基板に設けるt極に適用するものであ
れば良い。
以上説明したように本発明の液晶装置に1几ば、基板に
設ける電極を、基板表面に形成する透明4権と、この透
明電極の表面に化学メッキによシ形成した複数の金属ノ
1からなる金属膜とで構成したので、金属膜を形成する
ための設備を簡素化し、金属膜の形成を大量生産的に能
率良く行なうことができる。また、金属膜は表面金属r
i f: tlL倶ノツノツキり強固に形成して耐久性
を向上させることができる。
設ける電極を、基板表面に形成する透明4権と、この透
明電極の表面に化学メッキによシ形成した複数の金属ノ
1からなる金属膜とで構成したので、金属膜を形成する
ための設備を簡素化し、金属膜の形成を大量生産的に能
率良く行なうことができる。また、金属膜は表面金属r
i f: tlL倶ノツノツキり強固に形成して耐久性
を向上させることができる。
図面は本発明の液晶装置の一実施例を示し、第1図およ
び第2図は基板に設けるt極を拡大して示す断面図、第
3図は液晶装置を示す第4図■−■礫に沿う拡大断面図
、第4図は信号電極用基板の内面を示す平面図、第5図
は共通電極用基板の内面を示す平面図、第6図はシャッ
タ部を拡大して示す平面図である。 1・・・基板、2・・・基板、5・・・透明電極、6・
・・金属膜、10・・・透明成極、1ノ・・・金属膜、
LC・・・液晶、S・・・信号電極、C・・・共通電極
。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦5
′−−− 第 1 図 第2図
び第2図は基板に設けるt極を拡大して示す断面図、第
3図は液晶装置を示す第4図■−■礫に沿う拡大断面図
、第4図は信号電極用基板の内面を示す平面図、第5図
は共通電極用基板の内面を示す平面図、第6図はシャッ
タ部を拡大して示す平面図である。 1・・・基板、2・・・基板、5・・・透明電極、6・
・・金属膜、10・・・透明成極、1ノ・・・金属膜、
LC・・・液晶、S・・・信号電極、C・・・共通電極
。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦5
′−−− 第 1 図 第2図
Claims (3)
- (1)電極を設けた透明な一方の基板と、前記電極と対
向して電極を設けた透明な他方の基板とを電極形成向を
内側にし液晶を介して対向配置し、前記両方の基板の電
極と前記液晶とにより光の透過を制御するシャッタ部を
構成したものにおいて、前記両基板の電極のうち少なく
ともいずれか一方の電極は、前記基板の表面に形成され
た透明電極と、この透明電極の表向上に化学メッキによ
り形成された複数の金属層からなり且つ少なくとも表面
層が置換反応による化学メッキにより形成された金属層
である金属膜とで構成されていることを特徴とする液晶
装置。 - (2)金属膜は、透明電極の表面に還元反応による化学
メッキにより形成したニッケル層と、このニッケル層の
表面を置換反応による化学メッキにより置換して形成し
た金属層とからなるものである特許請求の範囲第1項に
記載の液晶装置。 - (3)金属膜はパターニングした透明電極の表面に形成
したものである特許請求の範囲第1項または第2項に記
載の液晶装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61115571A JP2507998B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | 液晶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61115571A JP2507998B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | 液晶装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62270921A true JPS62270921A (ja) | 1987-11-25 |
| JP2507998B2 JP2507998B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=14665859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61115571A Expired - Lifetime JP2507998B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | 液晶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2507998B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11330652A (ja) * | 1997-06-10 | 1999-11-30 | Canon Inc | 基板及びその製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60143315A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Hitachi Ltd | 液晶光スイツチアレイ |
| JPS60245781A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 透明導電膜パタ−ン上へのめつき方法 |
| JPS60245782A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 透明導電膜パタ−ン上へのめつき方法 |
-
1986
- 1986-05-20 JP JP61115571A patent/JP2507998B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60143315A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Hitachi Ltd | 液晶光スイツチアレイ |
| JPS60245781A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 透明導電膜パタ−ン上へのめつき方法 |
| JPS60245782A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 透明導電膜パタ−ン上へのめつき方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11330652A (ja) * | 1997-06-10 | 1999-11-30 | Canon Inc | 基板及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2507998B2 (ja) | 1996-06-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6525799B1 (en) | Liquid crystal display device having spacers with two sizes and metal films and protrusions | |
| KR100372839B1 (ko) | 금속 배선의 제조 방법 및 그 금속 배선을 구비한 배선 기판 | |
| JPH1048670A (ja) | アクティブマトリクス基板とその製法および液晶表示装置 | |
| KR970066679A (ko) | 전극판, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 액정 소자, 및 상기 소자의 제조 방법 | |
| JPS62180989A (ja) | 薄膜elデバイスにおいて電極構造体をパタ−ン形成する為のマスク | |
| JP2001244466A (ja) | 金属配線およびその製造方法およびその金属配線を用いた薄膜トランジスタおよび表示装置 | |
| CN100516986C (zh) | 导电结构及其形成方法、阵列基板以及液晶显示面板 | |
| CN109979946B (zh) | 一种阵列基板及其制造方法和显示面板 | |
| JPS62270921A (ja) | 液晶装置 | |
| JPH01195285A (ja) | メタライズガラス基板の製造方法 | |
| JPS614094A (ja) | 電気光学的機能素子及びその製造方法 | |
| KR100431361B1 (ko) | 무전해 도금법을 이용한 액정표시장치 | |
| JPH0194320A (ja) | 液晶表示パネル | |
| JPS61260224A (ja) | カラ−表示装置用電極板 | |
| JPH0619497B2 (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 | |
| JP3047183B2 (ja) | 液晶装置の製造方法 | |
| JPS58194083A (ja) | 表示パネルの製造方法 | |
| JPH08271869A (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 | |
| JPH01113725A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH11295767A (ja) | 光学装置 | |
| JPH0230385B2 (ja) | Mudenkaimetsukiho | |
| JPH04166916A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JPS57118217A (en) | Production of electrode for liquid crystal display panel | |
| JPS6234130A (ja) | 透明導電膜付き基板 | |
| JPH0266519A (ja) | 液晶表示パネル |