JPS6234130A - 透明導電膜付き基板 - Google Patents
透明導電膜付き基板Info
- Publication number
- JPS6234130A JPS6234130A JP17329585A JP17329585A JPS6234130A JP S6234130 A JPS6234130 A JP S6234130A JP 17329585 A JP17329585 A JP 17329585A JP 17329585 A JP17329585 A JP 17329585A JP S6234130 A JPS6234130 A JP S6234130A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transparent electrode
- film
- conductive film
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
挟挫分髭
本発明は、ドツトマトリクス表示型の液晶表示素子用基
板などの透明導電膜付きポリマーフィルム基板に関する
。
板などの透明導電膜付きポリマーフィルム基板に関する
。
災米ム伎携
ドツトマトリクス型液晶表示装置は、低電力で多くの情
報表示が可能であることがら、ハンドベルトコンピュー
タの表示端末装置などとして注目されている。そして、
近年、この液晶表示装置の基板をポリマーフィルムとし
、小型、軽量化を図るべく鋭意開発が行われている。
報表示が可能であることがら、ハンドベルトコンピュー
タの表示端末装置などとして注目されている。そして、
近年、この液晶表示装置の基板をポリマーフィルムとし
、小型、軽量化を図るべく鋭意開発が行われている。
しかし、ポリマーフィルム基板は耐熱性が低いことから
、透明導電膜の形成条件に制約を受け、透明導電膜の低
抵抗化が困難である。たとえば、ＩＴＯ薄膜は基板温度
を高くして形成したり、形成後に高温でベーキングする
ことにより低抵抗化することができるが、ポリマーフィ
ルムにこのような高温条件を課することは難しい。
、透明導電膜の形成条件に制約を受け、透明導電膜の低
抵抗化が困難である。たとえば、ＩＴＯ薄膜は基板温度
を高くして形成したり、形成後に高温でベーキングする
ことにより低抵抗化することができるが、ポリマーフィ
ルムにこのような高温条件を課することは難しい。
大型ドツトマトリクス表示用の透明電極では配線長が長
くなるため、透明電極の抵抗値が大きいと抵抗分による
電圧降下が生じ、一端のドツトと他端のドツトでは信号
印加電圧に差違が発生して表示ムラが発生する。これは
特に、表示情報密度を上げるために透明電極の幅を狭く
していくと、顕著に現われてくる。
くなるため、透明電極の抵抗値が大きいと抵抗分による
電圧降下が生じ、一端のドツトと他端のドツトでは信号
印加電圧に差違が発生して表示ムラが発生する。これは
特に、表示情報密度を上げるために透明電極の幅を狭く
していくと、顕著に現われてくる。
見匪勿且虱
本発明は、ポリマーフィルム基板上に形成された透明′
？ｆ１極の電気抵抗を下げることを目的とする。
？ｆ１極の電気抵抗を下げることを目的とする。
光ＪＪ１１隨
本発明の透明導電膜付き基板は、ポリマーフィルム基板
上に形成された透明導電膜からなる透明電極の側面に、
該透明電極の厚さの２〜５０倍の幅で金属部が形成され
ていることを特徴とする。
上に形成された透明導電膜からなる透明電極の側面に、
該透明電極の厚さの２〜５０倍の幅で金属部が形成され
ていることを特徴とする。
以下、添付図面に沿って本発明をさらに詳細に説明する
。
。
第１図は、本発明をドツトマトリクス型液晶表示素子用
の基板として応用した実施例を示す断面図である。基板
１１上に、ストライプ状の透明電極１３が形成されてお
り、透明電極１３の両側縁部には金属部１５が形成され
ている。なお、本図および以下の図においては、見易さ
のために透明電極１３の厚さを実際よりも厚く示しであ
る。
の基板として応用した実施例を示す断面図である。基板
１１上に、ストライプ状の透明電極１３が形成されてお
り、透明電極１３の両側縁部には金属部１５が形成され
ている。なお、本図および以下の図においては、見易さ
のために透明電極１３の厚さを実際よりも厚く示しであ
る。
金属部１５の幅ｄは、透明電極の厚さＬの２〜５０倍で
あり、より好ましくは１０〜２０倍である。この幅ｄが
小さすぎると低抵抗効果が十分に得られず、一方、大き
すぎると透明感を損ない好ましくない。
あり、より好ましくは１０〜２０倍である。この幅ｄが
小さすぎると低抵抗効果が十分に得られず、一方、大き
すぎると透明感を損ない好ましくない。
透明電極１３の片方の側縁部のみに金属部を形成しても
よい。
よい。
透明電極１３は、ＩＴＯなどの透明導電膜をパターンニ
ングすることにより形成することができる。
ングすることにより形成することができる。
金属部１５は、低抵抗性の金属材料から形成され、たと
えばＣｒ、Ｎｉなどが用いられる。
えばＣｒ、Ｎｉなどが用いられる。
ポリマーフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレー
トなどに代表される一軸延伸などのポリエステルフィル
ム、ポリカーボネートフィルム、ポリサルフォンフィル
ム、ポリエーテルサルフオンフィルムなどが用いられる
。
トなどに代表される一軸延伸などのポリエステルフィル
ム、ポリカーボネートフィルム、ポリサルフォンフィル
ム、ポリエーテルサルフオンフィルムなどが用いられる
。
ポリサルフオンフィルム、ポリエーテルサルフオンフィ
ルムの場合には、表面にエポキシ系ポリマーを２〜１０
μｍコーティングし、その上に透明電極を形成すること
が望ましい。これらフィルムは耐溶剤性がよくないので
、洗浄や配向処理等を考慮して耐溶剤性を改善するため
である。
ルムの場合には、表面にエポキシ系ポリマーを２〜１０
μｍコーティングし、その上に透明電極を形成すること
が望ましい。これらフィルムは耐溶剤性がよくないので
、洗浄や配向処理等を考慮して耐溶剤性を改善するため
である。
第２Ａ図および第２Ｂ図は、第１図に示したドツトマト
リクス用基板の製造例を示す図である。ポリマーフィル
ム基板１１に透明導電膜を形成し、通常のドツトマトリ
クス用基板の製造法と同様に、表面洗浄−レシストコー
ティング−パターン露光−現像−エッチングを施すこと
により、第２Ａ図に示すようにパターン状のレジスト１
７に対応して、透明電極１３がパターンニングされる。
リクス用基板の製造例を示す図である。ポリマーフィル
ム基板１１に透明導電膜を形成し、通常のドツトマトリ
クス用基板の製造法と同様に、表面洗浄−レシストコー
ティング−パターン露光−現像−エッチングを施すこと
により、第２Ａ図に示すようにパターン状のレジスト１
７に対応して、透明電極１３がパターンニングされる。
第２Ａ図の状態からレジスト１７を除去すれば通常の透
明電極付き基板が得られるのであるが、本発明では、レ
ジストの除去に先立って金属部の形成が行われる。第２
Ａ図に示したようにレジスト１７で被覆されている状態
で電界メッキを施すと、透明電極１３の側面のみに金属
部をメッキすることができる。金属部の幅ｄ、即ちメッ
キ厚は、処理時間、温度等のプロセス条件を制御するこ
とにより調節することができる。ついで、レジスト１７
を除去することにより、第１図に示した透明電極付きポ
リマーフィルム基板が得られる。このように、電界メッ
キ法によって金属部を形成することにより、新たなフォ
トレジストプロセス等を必要とすることなく、簡単な操
作で本発明のポリマーフィルム基板を得ることができる
。
明電極付き基板が得られるのであるが、本発明では、レ
ジストの除去に先立って金属部の形成が行われる。第２
Ａ図に示したようにレジスト１７で被覆されている状態
で電界メッキを施すと、透明電極１３の側面のみに金属
部をメッキすることができる。金属部の幅ｄ、即ちメッ
キ厚は、処理時間、温度等のプロセス条件を制御するこ
とにより調節することができる。ついで、レジスト１７
を除去することにより、第１図に示した透明電極付きポ
リマーフィルム基板が得られる。このように、電界メッ
キ法によって金属部を形成することにより、新たなフォ
トレジストプロセス等を必要とすることなく、簡単な操
作で本発明のポリマーフィルム基板を得ることができる
。
ｌ匪列夏来
本発明によれば、ポリマーフィルム上に形成された透明
電極の側面に低抵抗性の金属部を形成することにより、
電極の抵抗を下げて、表示ムラの発生を防止することが
できる。
電極の側面に低抵抗性の金属部を形成することにより、
電極の抵抗を下げて、表示ムラの発生を防止することが
できる。
第１図は１本発明の実施例を示す断面図である。
八
第２図および第２Ｂ図は、本発明の透明導電膜
膜付き基板を製造する方法を示す断面図である。
Claims (1)
- １、ポリマーフィルム基板上に形成された透明導電膜か
らなる透明電極の側面に、該透明電極の厚さの２〜５０
倍の幅で金属部が形成されていることを特徴とする透明
導電膜付き基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17329585A JPS6234130A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 透明導電膜付き基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17329585A JPS6234130A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 透明導電膜付き基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6234130A true JPS6234130A (ja) | 1987-02-14 |
Family
ID=15957793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17329585A Pending JPS6234130A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 透明導電膜付き基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6234130A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5502583A (en) * | 1993-05-15 | 1996-03-26 | Nec Corporation | Liquid crystal display device capable of compensating for a positioning error between a drain line and a display electrode |
| JPH10106751A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Nec Corp | 有機薄膜エレクトロルミネッセンス表示装置の電極構造 |
| EP0845696A3 (en) * | 1996-11-28 | 1999-01-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display element and method of fabricating electrode substrate for use in the liquid crystal display element |
-
1985
- 1985-08-08 JP JP17329585A patent/JPS6234130A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5502583A (en) * | 1993-05-15 | 1996-03-26 | Nec Corporation | Liquid crystal display device capable of compensating for a positioning error between a drain line and a display electrode |
| JPH10106751A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Nec Corp | 有機薄膜エレクトロルミネッセンス表示装置の電極構造 |
| EP0845696A3 (en) * | 1996-11-28 | 1999-01-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display element and method of fabricating electrode substrate for use in the liquid crystal display element |
| US6008877A (en) * | 1996-11-28 | 1999-12-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display having multilayered electrodes with a layer adhesive to a substrate formed of indium tin oxide |
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