JPS62277641A - 光学式レコ−ド - Google Patents
光学式レコ−ドInfo
- Publication number
- JPS62277641A JPS62277641A JP61121817A JP12181786A JPS62277641A JP S62277641 A JPS62277641 A JP S62277641A JP 61121817 A JP61121817 A JP 61121817A JP 12181786 A JP12181786 A JP 12181786A JP S62277641 A JPS62277641 A JP S62277641A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- disk
- polyacetylene
- substrate
- plastic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 9
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 abstract description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 abstract description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910017048 AsF6 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 244000145841 kine Species 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000033458 reproduction Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 230000005236 sound signal Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
＆発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は高密度の光学式記録媒体に関するものである。
光学式レコードは、プラスチック円板面に作られた孔隙
の痩Ｑ、Ｆ斧の位相差を検出［７、記録された情報を取
り出す方式が従来用いられた。この様な従来の方式は、
製造上の過程が複雑であり、プレス原盤の寿命がある、
安価に製造できないという欠点があった。また大量の複
製を作るためには、多量のプレス原盤が必要であった。
の痩Ｑ、Ｆ斧の位相差を検出［７、記録された情報を取
り出す方式が従来用いられた。この様な従来の方式は、
製造上の過程が複雑であり、プレス原盤の寿命がある、
安価に製造できないという欠点があった。また大量の複
製を作るためには、多量のプレス原盤が必要であった。
プレス原盤は大型にすることにより高価となり、成形材
として用いることのできるプラスチックを特定されてし
まうため、大をレコードの大量複製は非常に高価な工程
となっていた。
として用いることのできるプラスチックを特定されてし
まうため、大をレコードの大量複製は非常に高価な工程
となっていた。
本発明は、プレス原盤を用いず大証複製を作ることを目
的とした。
的とした。
本発明になる光学式レコードは、円板形に製造した基板
上にポリアセチレン薄膜を生成させ、あるいはポリアセ
チレンを円板形に成形し、その表面に部分的に不純物を
ドープした際に生じる反射率の変化を、レーザーピック
アップ等で検出することにより、情報の読み出しを可能
とすることを特徴とする。
上にポリアセチレン薄膜を生成させ、あるいはポリアセ
チレンを円板形に成形し、その表面に部分的に不純物を
ドープした際に生じる反射率の変化を、レーザーピック
アップ等で検出することにより、情報の読み出しを可能
とすることを特徴とする。
音声信号１画像信号等のアナログ信号は、これをデジタ
ル信号に置き換え可能である。この様にデジタル信号の
２値化情報に従い、論理正の部分と論理負の部分とを、
反射率の異差によって表現する。本発明になる光学式レ
コードは、不純物がドープされることにより、ポリアセ
チレン膜に反射率の差異を生じている。これをレーザー
ピックアップを用いて読み取ることで、書き込まれた情
報を取り出すものである。
ル信号に置き換え可能である。この様にデジタル信号の
２値化情報に従い、論理正の部分と論理負の部分とを、
反射率の異差によって表現する。本発明になる光学式レ
コードは、不純物がドープされることにより、ポリアセ
チレン膜に反射率の差異を生じている。これをレーザー
ピックアップを用いて読み取ることで、書き込まれた情
報を取り出すものである。
第２図に本発明の光学式レコード、例えばＣＤレコード
等実施例の１つを示す。第２図に示すレコードの微小部
分１０の拡大図を第３図に示す。
等実施例の１つを示す。第２図に示すレコードの微小部
分１０の拡大図を第３図に示す。
第３図の斜線部セ０は、反射率の高い部分である。ここ
でｔｌは例えば１．５μｓ、ｔｌはα５μｍである。こ
のようにして円板上に成形したポリアセチレン基板（表
面のみにポリアセチレン膜が形成されていてもよい）に
部分的に不純物がドープされ反射率の異なる部分（２０
）を形成している。そして、レーザー光等を照射し、そ
の反射率が異なるのをＣＯＤ 、フォトセンサー等で検
出する第１図は本発明の光学式レコードの１つの製造過
程を示すものである。第１図（（Ｚ）に示すガラス基板
表面にチーグラーナツタ触媒を塗布する。
でｔｌは例えば１．５μｓ、ｔｌはα５μｍである。こ
のようにして円板上に成形したポリアセチレン基板（表
面のみにポリアセチレン膜が形成されていてもよい）に
部分的に不純物がドープされ反射率の異なる部分（２０
）を形成している。そして、レーザー光等を照射し、そ
の反射率が異なるのをＣＯＤ 、フォトセンサー等で検
出する第１図は本発明の光学式レコードの１つの製造過
程を示すものである。第１図（（Ｚ）に示すガラス基板
表面にチーグラーナツタ触媒を塗布する。
第１図（α）のＡ−Ａ’断面図を第１図（ｂ）に示す。
２はガラス基板、１はチーグラーナツタ触媒である。こ
の基板を密閉容器中に置き、アセチレンガスを流し込む
と、ガラス基板上に１〜数μｍの厚さのポリアセチレン
族が生成する。３は生成されたポリアセチレン膜である
。次にポリアセチレン膜にヘキサフ、ルオロ砒素酸塩の
１つであるＰｈ３．３”ＡａＦ、−を塗付する。４は塗
付されたＰｈ５Ｓ＋Ａａ？６− を示す。次に石英ガラ
スを基板としたクロムマスクを用い紫外線を照射する。
の基板を密閉容器中に置き、アセチレンガスを流し込む
と、ガラス基板上に１〜数μｍの厚さのポリアセチレン
族が生成する。３は生成されたポリアセチレン膜である
。次にポリアセチレン膜にヘキサフ、ルオロ砒素酸塩の
１つであるＰｈ３．３”ＡａＦ、−を塗付する。４は塗
付されたＰｈ５Ｓ＋Ａａ？６− を示す。次に石英ガラ
スを基板としたクロムマスクを用い紫外線を照射する。
クロムマスクは２進数表現された情報に従いマスク部位
が作られているものである。この結果、紫外線が照射さ
れた部分からはＨＡｓ１６が発生し、ポリアセチレン膜
にドープされる。５に示すポリアセチレン膜の斜線部が
ドープされた部分である。これを第１図（１）に示す様
に剥離し、これをプラスチック円板に接着する。第１図
（？）中の７はグラスチック円板である。８はポリアセ
チレン膜保護用のプラスチック膜である。
が作られているものである。この結果、紫外線が照射さ
れた部分からはＨＡｓ１６が発生し、ポリアセチレン膜
にドープされる。５に示すポリアセチレン膜の斜線部が
ドープされた部分である。これを第１図（１）に示す様
に剥離し、これをプラスチック円板に接着する。第１図
（？）中の７はグラスチック円板である。８はポリアセ
チレン膜保護用のプラスチック膜である。
以上の様にして作られたプラスチ・ツク円板は、書き込
まれた２進数情報に従い、反射率の差異を示しているた
め、読み取り回路は従来のものと同程度のもので良く、
高Ｓ ／ Ｎ可成ができた。
まれた２進数情報に従い、反射率の差異を示しているた
め、読み取り回路は従来のものと同程度のもので良く、
高Ｓ ／ Ｎ可成ができた。
以上に述べた実施例から明らかな様に、本発明は容易な
製造工程により作られ、従来と同等以上の特性が得られ
ろ。また従来の光学式レコードの様にプレス原盤を作る
必要がなく、大ｆｉｔｈ複製が容具でふ六 ＋刑のレコ
ーＬ０か佐六協春り寸−プレス原盤の場合と比べ、はる
かに安価に、きわめて平面精度の良いクロムマスク゛を
製造でき、クロムマスクの寿命が非常に長いため、半導
体工程と同様に、大量に作るほど製品単価を下げろこと
ができる。また基板材料に用いているプラスチックは、
従来のレコードと異なり、材質に対する制約は少なくて
済む。
製造工程により作られ、従来と同等以上の特性が得られ
ろ。また従来の光学式レコードの様にプレス原盤を作る
必要がなく、大ｆｉｔｈ複製が容具でふ六 ＋刑のレコ
ーＬ０か佐六協春り寸−プレス原盤の場合と比べ、はる
かに安価に、きわめて平面精度の良いクロムマスク゛を
製造でき、クロムマスクの寿命が非常に長いため、半導
体工程と同様に、大量に作るほど製品単価を下げろこと
ができる。また基板材料に用いているプラスチックは、
従来のレコードと異なり、材質に対する制約は少なくて
済む。
第１図は本発明の製造過程の説明図。
１はチーグラーナツタ触媒、２はガラス基板、３はポリ
アセチレン膜、４はＰｈ、Ｓ＋ＡｓＦ６−１５はドープ
されたポリアセチレン膜、７はプラスチック基板、８は
プラスチック膜。 第２図は本発明の実施例の１つの全体図。 第３図は第２図の微小部分の拡大図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士最上務（他１名） 、６土・４＼ ！＋−プラーク、グ′Ａ東煤
アセチレン膜、４はＰｈ、Ｓ＋ＡｓＦ６−１５はドープ
されたポリアセチレン膜、７はプラスチック基板、８は
プラスチック膜。 第２図は本発明の実施例の１つの全体図。 第３図は第２図の微小部分の拡大図。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士最上務（他１名） 、６土・４＼ ！＋−プラーク、グ′Ａ東煤
Claims (1)
- 円板形に成形したポリアセチレン膜、または円板形に成
形した基板上に生成したポリアセチレン膜の表面に、部
分的に不純物をドープし、その反射率の変化により情報
を記録することを特徴とした光学式レコード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61121817A JPS62277641A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 光学式レコ−ド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61121817A JPS62277641A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 光学式レコ−ド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62277641A true JPS62277641A (ja) | 1987-12-02 |
Family
ID=14820664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61121817A Pending JPS62277641A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 光学式レコ−ド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62277641A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6159650A (en) * | 1994-12-27 | 2000-12-12 | Kokuyo Co., Ltd. | Printing method |
| JP2018190484A (ja) * | 2018-08-03 | 2018-11-29 | 大日本印刷株式会社 | 情報記録媒体 |
| US10706885B2 (en) | 2015-09-18 | 2020-07-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for manufacturing information recording medium |
-
1986
- 1986-05-27 JP JP61121817A patent/JPS62277641A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6159650A (en) * | 1994-12-27 | 2000-12-12 | Kokuyo Co., Ltd. | Printing method |
| US6238828B1 (en) | 1994-12-27 | 2001-05-29 | Kokuyo Co., Ltd. | Printing method |
| US10706885B2 (en) | 2015-09-18 | 2020-07-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for manufacturing information recording medium |
| JP2018190484A (ja) * | 2018-08-03 | 2018-11-29 | 大日本印刷株式会社 | 情報記録媒体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5538773A (en) | Optical recording medium and the reproducing apparatus for the optical recording medium | |
| US4619804A (en) | Fabricating optical record media | |
| JPS62277641A (ja) | 光学式レコ−ド | |
| JP2002288892A (ja) | 光学的ディスクの消去不能な透かし | |
| JPS6360450B2 (ja) | ||
| US4802160A (en) | Optical disk substrate | |
| JPS5625243A (en) | Optical memory medium | |
| JPS6079540A (ja) | 光学式記録媒体 | |
| JPS54139702A (en) | Information recoeding medium and production of the same | |
| JPS6171487A (ja) | 記録媒体用ガラス基板 | |
| EP0720160B1 (en) | Optical disk with pits formed by stamper and method for fabricating the same | |
| JPS63285733A (ja) | 光学的に読取り可能なディスク形状の情報担体の製造方法 | |
| JP2522681B2 (ja) | 情報記録担体 | |
| JP3499755B2 (ja) | 記録媒体およびその作製方法 | |
| JPH0411221Y2 (ja) | ||
| JPS6417234A (en) | Optical information recording method and information recording medium | |
| JPS6055534A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
| JPS60217544A (ja) | ディジタル信号再生用テストディスクの製造方法 | |
| JPS63138541A (ja) | 光学的記録媒体の製造方法 | |
| JPS6151634A (ja) | 光学式情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH0557655B2 (ja) | ||
| JPS58112791A (ja) | 光情報記録部材 | |
| JPH0642224U (ja) | 情報入り名刺 | |
| JPH04103048A (ja) | 光メモリー素子の複製製造方法 | |
| JPS6212572B2 (ja) |