JPH0557655B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0557655B2 JPH0557655B2 JP62012083A JP1208387A JPH0557655B2 JP H0557655 B2 JPH0557655 B2 JP H0557655B2 JP 62012083 A JP62012083 A JP 62012083A JP 1208387 A JP1208387 A JP 1208387A JP H0557655 B2 JPH0557655 B2 JP H0557655B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- pattern
- photoresist
- diffraction grating
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は読み出し専用の光学的記録媒体の製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
（従来技術）
光学的記録は磁気的記録と比較して記録媒体と
再生ヘツドが非接触であり、且つ高密度な記録が
可能であるなどの利点がある。この光学的記録媒
体としては読みだし専用のものと追加書き込み可
能なもの、消去再書き込み可能なものが知られて
おり、本発明にかかる読みだし専用の光学的記録
媒体としてはまず既に実用化されたコンパクトデ
イスク（CD）や光学式のビデオデイスク等が挙
げられる。これらの光学的記録媒体で採用されて
いる方式は媒体中に形成された凹凸構造に情報が
記録され、情報の記録密度を挙げるため記録ピツ
ト（凹部又は凸部の最小単位）は1μｍ前後の大
きさにし、かつレーザ等の光源を用いて再生光を
該ピツトと同程度の大きさにし、かつレーザ等の
光源を用いて再生光を該ピツトと同程度の大きさ
に絞つて情報を読み出すことが行われているが、
読みだし光のビームが微少なことは再生の為にオ
ートフオカス、オートトラツキングのための技
術、更に高価なレーザ光線を使わねばならないと
いう問題が生じる。
再生ヘツドが非接触であり、且つ高密度な記録が
可能であるなどの利点がある。この光学的記録媒
体としては読みだし専用のものと追加書き込み可
能なもの、消去再書き込み可能なものが知られて
おり、本発明にかかる読みだし専用の光学的記録
媒体としてはまず既に実用化されたコンパクトデ
イスク（CD）や光学式のビデオデイスク等が挙
げられる。これらの光学的記録媒体で採用されて
いる方式は媒体中に形成された凹凸構造に情報が
記録され、情報の記録密度を挙げるため記録ピツ
ト（凹部又は凸部の最小単位）は1μｍ前後の大
きさにし、かつレーザ等の光源を用いて再生光を
該ピツトと同程度の大きさにし、かつレーザ等の
光源を用いて再生光を該ピツトと同程度の大きさ
に絞つて情報を読み出すことが行われているが、
読みだし光のビームが微少なことは再生の為にオ
ートフオカス、オートトラツキングのための技
術、更に高価なレーザ光線を使わねばならないと
いう問題が生じる。
一方他の方式の光学的記録媒体として光学的に
高い反射率を有する部分と低い部分とをそれぞれ
別の材料によつて構成し、この濃淡パターンを形
成しデジタル情報を記録する光学的記録媒体が知
られている。この方式による濃淡パターンの形成
方法は例えば特開昭60−66346号公報に開示され
ているように、基板上に光学的低反射層と光学的
高反射層をこの順に積層し、表面にフオトレジス
トを塗布し、そこへ微細な濃淡パターンをもつマ
スクを介して露光し、その後フオトレジストを現
像してレジストパターンを形成させ、しかる後レ
ジストパターンを利用してパターン状にエツチン
グを行つて光学的高反射層を除去させ光学的低反
射層を露出せしめることにより行つている。この
方式は高価なレーザ光線を使用しなくてもよい
が、上述の様に製造工程の数が多く、各工程も容
易に行えるものではない。
高い反射率を有する部分と低い部分とをそれぞれ
別の材料によつて構成し、この濃淡パターンを形
成しデジタル情報を記録する光学的記録媒体が知
られている。この方式による濃淡パターンの形成
方法は例えば特開昭60−66346号公報に開示され
ているように、基板上に光学的低反射層と光学的
高反射層をこの順に積層し、表面にフオトレジス
トを塗布し、そこへ微細な濃淡パターンをもつマ
スクを介して露光し、その後フオトレジストを現
像してレジストパターンを形成させ、しかる後レ
ジストパターンを利用してパターン状にエツチン
グを行つて光学的高反射層を除去させ光学的低反
射層を露出せしめることにより行つている。この
方式は高価なレーザ光線を使用しなくてもよい
が、上述の様に製造工程の数が多く、各工程も容
易に行えるものではない。
レーザ光線を使用しない別方式として情報の最
小単位である記録ピツトを回折格子で構成する光
学的記録媒体が考えられるが、数十μｍ、オーダ
ーの回折格子部と平滑部を選択し、回折格子部に
回折格子を形成させるのは容易なことではない。
小単位である記録ピツトを回折格子で構成する光
学的記録媒体が考えられるが、数十μｍ、オーダ
ーの回折格子部と平滑部を選択し、回折格子部に
回折格子を形成させるのは容易なことではない。
（発明の目的）
本発明は上記従来技術の問題点に鑑みなされた
ものであり、読み取り用の高価なレーザ光線を使
用せずに、しかも簡便な方法により大量複製が行
われる読みだし専用の光学的記録媒体の製造方法
を提供することにある。
ものであり、読み取り用の高価なレーザ光線を使
用せずに、しかも簡便な方法により大量複製が行
われる読みだし専用の光学的記録媒体の製造方法
を提供することにある。
（発明の概要）
本発明は基材上にフオトレジストを塗布し、形
成されたフオトレジスト層にミリメートル当り数
百〜数千本の線数を有するスタンパにより回折格
子が形成させた後、微細なパターン状に情報が記
録されたマスクを用いて露光を行ない、その後フ
オトレジストを現像し、得られた記録パターンの
スタンパを起こし、該スタンパにより微細なパタ
ーン状に回折格子が設けられた光学的記録媒体を
複製させる光学的記録媒体の製造方法。
成されたフオトレジスト層にミリメートル当り数
百〜数千本の線数を有するスタンパにより回折格
子が形成させた後、微細なパターン状に情報が記
録されたマスクを用いて露光を行ない、その後フ
オトレジストを現像し、得られた記録パターンの
スタンパを起こし、該スタンパにより微細なパタ
ーン状に回折格子が設けられた光学的記録媒体を
複製させる光学的記録媒体の製造方法。
（発見の詳述）
以下本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第１図から第５図までは記録パターンスタンパ
母型製造の段階を順に示したもので、第１図は光
学記録材料１の構成を説明するもので基材２上に
フオトレジスト層３が積層されている。フオトレ
ジストはポジ型、ネガ型とも使用可能であるが、
塗布がむらなく容易に行なえ、しかも高解像力で
露光の際の微細な情報記録パターンを充分に解像
しうるものを選び使用する。フオトレジストの例
としては、Shipley社製AZ−1350、東京応化(株)社
製OFPR−２、OFPR−5000、などその他多数挙
げられる。基材２は用途に適した特性、例えば表
面の平滑性、耐性、などを有し、後工程、フオト
レジストの現像やスタンパ成形工程において劣化
や変形などの影響を受けないものを選び使用す
る。
母型製造の段階を順に示したもので、第１図は光
学記録材料１の構成を説明するもので基材２上に
フオトレジスト層３が積層されている。フオトレ
ジストはポジ型、ネガ型とも使用可能であるが、
塗布がむらなく容易に行なえ、しかも高解像力で
露光の際の微細な情報記録パターンを充分に解像
しうるものを選び使用する。フオトレジストの例
としては、Shipley社製AZ−1350、東京応化(株)社
製OFPR−２、OFPR−5000、などその他多数挙
げられる。基材２は用途に適した特性、例えば表
面の平滑性、耐性、などを有し、後工程、フオト
レジストの現像やスタンパ成形工程において劣化
や変形などの影響を受けないものを選び使用す
る。
ミリメートル当り数百から数千本の線数を有す
るスタンパ４をフオトレジスト層３に合せて加圧
し回折格子を形成されているスタンパを使用すれ
ば形成できる。回折格子が形成されたこれらのス
タンパは回折格子の格子定数等が決定されれば情
報パターンが異なつても再利用可能なため生産効
率上有利となる。その後回折格子が形成されたフ
オトレジスト層３上に微細なパターン状に情報が
記録されているマスク５を介して露光を行ない
（第３図）、その次にフオトレジストを現像し回折
格子が形成されたレジストパターンを形成させ
（第４図）、しかる後フオトレジスト層３及び基材
２の表面に金属層６を形成させる（第５図）。金
属層６は後工程の第４図の形態（母型）のスタン
パを起こす技術方法（例えば電鋳法）を適用する
際に不都合でない金属を選び、それを真空蒸着又
はスパツタリングを行なうことで形成される。そ
れがさらに光学的に高い反射率を有する金属の場
合には、この状態に読み出し光を照射すると再生
も可能となり記録状態の確認を行なうことができ
る。金属層６の例としてはAu、Ag、Cr、Cuな
どが挙げられる。電鋳法などの技術により得られ
た母型からスタンパを起こし、そして得られた記
録転写スタンパ７により光学的記録媒体の大量複
製を行なう（第６図）。複製方法としては射出成
形法、圧縮成形法、紫外線硬化樹脂を使つた方法
などが挙げられるが、複製品が良質で効率よく製
造できる方法を選んでから行なう。複製された基
材８の表面には光学的に高い反射率を有する金属
を選び、真空蒸着又はスパツタリングにより金属
層９を形成させ（第７図）、その上部には光学的
に透明な材料１０で保護層を形成させる（第８
図）。この場合読み取り光は材料１０の側から照
射するが、逆に基材８を光学的に透明な性質をも
備えた材料を使い基材８の側から読み出し光を照
射する方式も可能である。また、その表面に光学
的に高い反射率を有する金属薄膜を設けた熱可塑
性樹脂にスタンパ７で圧縮成形を行ない光学的記
録情報を転写させる方法も可能である。このよう
にして得られた光学的記録媒体において、回折格
子の形状が正弦波形でその深さが0.16μｍの場合、
He−Neレーザー（632.8nｍ）を入射角0°で照射
した時の回折効率は33％であり、反射率は平滑部
１００に対し回折格子部３４となり約60％のコン
トラストが確認される。読み取り光は前記レーザ
ー光に限定されるものではなく、例えば、発光ダ
イオード等、特別な光源を選ばずとも読み取りを
可能とするものを提供するものである。
るスタンパ４をフオトレジスト層３に合せて加圧
し回折格子を形成されているスタンパを使用すれ
ば形成できる。回折格子が形成されたこれらのス
タンパは回折格子の格子定数等が決定されれば情
報パターンが異なつても再利用可能なため生産効
率上有利となる。その後回折格子が形成されたフ
オトレジスト層３上に微細なパターン状に情報が
記録されているマスク５を介して露光を行ない
（第３図）、その次にフオトレジストを現像し回折
格子が形成されたレジストパターンを形成させ
（第４図）、しかる後フオトレジスト層３及び基材
２の表面に金属層６を形成させる（第５図）。金
属層６は後工程の第４図の形態（母型）のスタン
パを起こす技術方法（例えば電鋳法）を適用する
際に不都合でない金属を選び、それを真空蒸着又
はスパツタリングを行なうことで形成される。そ
れがさらに光学的に高い反射率を有する金属の場
合には、この状態に読み出し光を照射すると再生
も可能となり記録状態の確認を行なうことができ
る。金属層６の例としてはAu、Ag、Cr、Cuな
どが挙げられる。電鋳法などの技術により得られ
た母型からスタンパを起こし、そして得られた記
録転写スタンパ７により光学的記録媒体の大量複
製を行なう（第６図）。複製方法としては射出成
形法、圧縮成形法、紫外線硬化樹脂を使つた方法
などが挙げられるが、複製品が良質で効率よく製
造できる方法を選んでから行なう。複製された基
材８の表面には光学的に高い反射率を有する金属
を選び、真空蒸着又はスパツタリングにより金属
層９を形成させ（第７図）、その上部には光学的
に透明な材料１０で保護層を形成させる（第８
図）。この場合読み取り光は材料１０の側から照
射するが、逆に基材８を光学的に透明な性質をも
備えた材料を使い基材８の側から読み出し光を照
射する方式も可能である。また、その表面に光学
的に高い反射率を有する金属薄膜を設けた熱可塑
性樹脂にスタンパ７で圧縮成形を行ない光学的記
録情報を転写させる方法も可能である。このよう
にして得られた光学的記録媒体において、回折格
子の形状が正弦波形でその深さが0.16μｍの場合、
He−Neレーザー（632.8nｍ）を入射角0°で照射
した時の回折効率は33％であり、反射率は平滑部
１００に対し回折格子部３４となり約60％のコン
トラストが確認される。読み取り光は前記レーザ
ー光に限定されるものではなく、例えば、発光ダ
イオード等、特別な光源を選ばずとも読み取りを
可能とするものを提供するものである。
この光学的記録媒体の製造方法は、格子部と平
滑部を選択的に形成が行なえ、しかも大量複製も
効率よく行なうことができる。
滑部を選択的に形成が行なえ、しかも大量複製も
効率よく行なうことができる。
（実施例）
以下本発明を実施例により説明するが、本発明
は実施例だけに限定されるものではない。
は実施例だけに限定されるものではない。
縦６〜７cm、横５〜６cmの表面が平滑なガラス
板上にフオトレジスト（AZ−1350）をスピナー
塗布し、乾燥後（90℃）、フオトレジスト層上に
ミリメートル当り700本の線数を有する金属板を
合わせ加圧し、しかる後微細なパターンを有する
マスクを介して露光を行ない、その後フオトレジ
ストを現像し、レジストパターンを形成させた
後、レジストパターン上に金蒸着を行ない導電性
薄膜を形成させた後、これをスルフアミン酸ニツ
ケル浴を用いたニツケル電鋳でニツケルスタンパ
を作成し、厚さ0.5mmのポリ塩化ビニルシート上
にニツケルスタンパの形状を圧縮成形で転写さ
せ、得られた転写表面にアルミニウム蒸着を行な
い、回折格子の設けられている部分と設けられて
いない部分、つまり平滑な部分とを顕微鏡で観察
したところ両者がはつきりと区別され、また、発
光ダイオードを読み取り光としてCCDラインセ
ンサーで読み取つたところ実用に充分なＳ／Ｎ比
が得られた。
板上にフオトレジスト（AZ−1350）をスピナー
塗布し、乾燥後（90℃）、フオトレジスト層上に
ミリメートル当り700本の線数を有する金属板を
合わせ加圧し、しかる後微細なパターンを有する
マスクを介して露光を行ない、その後フオトレジ
ストを現像し、レジストパターンを形成させた
後、レジストパターン上に金蒸着を行ない導電性
薄膜を形成させた後、これをスルフアミン酸ニツ
ケル浴を用いたニツケル電鋳でニツケルスタンパ
を作成し、厚さ0.5mmのポリ塩化ビニルシート上
にニツケルスタンパの形状を圧縮成形で転写さ
せ、得られた転写表面にアルミニウム蒸着を行な
い、回折格子の設けられている部分と設けられて
いない部分、つまり平滑な部分とを顕微鏡で観察
したところ両者がはつきりと区別され、また、発
光ダイオードを読み取り光としてCCDラインセ
ンサーで読み取つたところ実用に充分なＳ／Ｎ比
が得られた。
（本発明の効果）
本発明により回折格子部と平滑部を選択的に形
成が行なえ、スタンパの溝状態を選べば種々の回
折格子の形成も可能となり、しかも効率よく光学
的記録媒体の大量複製も行なうことができる。
成が行なえ、スタンパの溝状態を選べば種々の回
折格子の形成も可能となり、しかも効率よく光学
的記録媒体の大量複製も行なうことができる。
第１図から第７図は本発明の各工程に於ける断
面図の拡大図である。 １：光学的記録材料、２：基材、３：フオトレ
ジスト層、４：スタンパ、５：マスク、６：金属
層、７：記録転写スタンパ、８：複製された基
材、９：金属層、１０：光学的に透明な材料。
面図の拡大図である。 １：光学的記録材料、２：基材、３：フオトレ
ジスト層、４：スタンパ、５：マスク、６：金属
層、７：記録転写スタンパ、８：複製された基
材、９：金属層、１０：光学的に透明な材料。
Claims (1)
- １ 光学的に高い反射率を有する材料で凹凸パタ
ーンが形成され該凹凸パターンの凹部又は凸部の
少なくとも一方に回折格子が形成されている光学
的記録媒体の製造方法に於て、基材上にフオトレ
ジストを塗布し、形成されたフオトレジスト層に
ミリメートル当り数百から数千本の線数を有する
スタンパにより回折格子が形成させた後、微細な
濃淡パターン状に情報が記録されたマスクを用い
て露光を行い、その後フオトレジストを塗布し、
形成されたフオトレジストを現像し、得られた記
録パターンのスタンパを起こし該スタンパにより
微細なパターン状に回折格子が設けられた光学的
記録媒体を複製することを特徴とする光学的記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62012083A JPS63181141A (ja) | 1987-01-21 | 1987-01-21 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62012083A JPS63181141A (ja) | 1987-01-21 | 1987-01-21 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63181141A JPS63181141A (ja) | 1988-07-26 |
| JPH0557655B2 true JPH0557655B2 (ja) | 1993-08-24 |
Family
ID=11795690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62012083A Granted JPS63181141A (ja) | 1987-01-21 | 1987-01-21 | 光学的記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63181141A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0291833A (ja) * | 1988-09-27 | 1990-03-30 | Toppan Printing Co Ltd | 光学的記録媒体及びその製造方法 |
| US11137603B2 (en) * | 2019-06-20 | 2021-10-05 | Facebook Technologies, Llc | Surface-relief grating with patterned refractive index modulation |
-
1987
- 1987-01-21 JP JP62012083A patent/JPS63181141A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63181141A (ja) | 1988-07-26 |
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