JPS6228133B2 - - Google Patents
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- JPS6228133B2 JPS6228133B2 JP14471679A JP14471679A JPS6228133B2 JP S6228133 B2 JPS6228133 B2 JP S6228133B2 JP 14471679 A JP14471679 A JP 14471679A JP 14471679 A JP14471679 A JP 14471679A JP S6228133 B2 JPS6228133 B2 JP S6228133B2
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- lower alkyl
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Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は2−インドリノン類の製法、さらに詳
しくは2−ハロゲノフエニル酢酸エステルを銅塩
を触媒とし、アンモニア水溶液中で閉環反応させ
て2−インドリノン類を製造する方法に関する。
しくは2−ハロゲノフエニル酢酸エステルを銅塩
を触媒とし、アンモニア水溶液中で閉環反応させ
て2−インドリノン類を製造する方法に関する。
従来から2−インドリノン類は医薬、農薬、香
料などの原料やこれらの中間体として用いられる
重要な化合物である。
料などの原料やこれらの中間体として用いられる
重要な化合物である。
従来、2−インドリノン類の製造法に関し、種
種の方法が提案されている。例えば、2−ハロゲ
ノフエニル酢酸を銅粉存在下、アンモニヤ水中で
閉環反応させて、2−インドリノンを製造する方
法(アレキサンダー・B.ネイル.ジヤーナル.オ
ブ アメリカン ケミカル ソサエテイ.75巻
1508頁1953年)があるが、これは収率が30〜40%
程度と低い欠点がある。
種の方法が提案されている。例えば、2−ハロゲ
ノフエニル酢酸を銅粉存在下、アンモニヤ水中で
閉環反応させて、2−インドリノンを製造する方
法(アレキサンダー・B.ネイル.ジヤーナル.オ
ブ アメリカン ケミカル ソサエテイ.75巻
1508頁1953年)があるが、これは収率が30〜40%
程度と低い欠点がある。
本発明はこれらの欠点を解決することを目的と
するもので一般式() (式中、R1は水素原子、低級アルキル基又は
低級アルコキシ基を示し、R2は水素原子又は低
級アルコキシ基を示し、R3は水素原子又は低級
アルキル基を示し、R4は低級アルキル基を示
し、Xはハロゲン原子を表わす)で示される2−
ハロゲノフエニル酢酸エステルを銅塩の存在下ア
ンモニア水溶液中で閉環反応させることにより、
下記一般式()で示される2−インドリノン類
を高収率で得られる2−インドリノン類の製法を
提供しようとするものである。
するもので一般式() (式中、R1は水素原子、低級アルキル基又は
低級アルコキシ基を示し、R2は水素原子又は低
級アルコキシ基を示し、R3は水素原子又は低級
アルキル基を示し、R4は低級アルキル基を示
し、Xはハロゲン原子を表わす)で示される2−
ハロゲノフエニル酢酸エステルを銅塩の存在下ア
ンモニア水溶液中で閉環反応させることにより、
下記一般式()で示される2−インドリノン類
を高収率で得られる2−インドリノン類の製法を
提供しようとするものである。
一般式()
(式中、R1は水素原子、低級アルキル基又は
低級アルコキシ基を示し、R2は水素原子又は低
級アルコキシ基を示し、R3は水素原子又は低級
アルキル基を表わす。) 以下さらに本発明について詳しく説明する。
低級アルコキシ基を示し、R2は水素原子又は低
級アルコキシ基を示し、R3は水素原子又は低級
アルキル基を表わす。) 以下さらに本発明について詳しく説明する。
まず本発明法は反応式で示すと次のようにな
る。
る。
本発明の方法で使用する2−ハロゲノフエニル
酢酸エステルは一般式()で示されるが、R1
及びR2はベンゼン環の任意の位置に結合してい
ることを意味し、R1としては、水素原子、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基等の低級アルキ
ル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等の低級
アルコキシ基であり、R2としては水素原子、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、n−ブトキシ基等の低級アルコキ
シ基であり、R3で示される基としては、水素原
子、又はメチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基等
の低級アルキル基であり、R4はメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、イソブチル基等の低級アルキル基であ
り、Xはフツ素、塩素、臭素又はヨウ素である化
合物である。
酢酸エステルは一般式()で示されるが、R1
及びR2はベンゼン環の任意の位置に結合してい
ることを意味し、R1としては、水素原子、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基等の低級アルキ
ル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等の低級
アルコキシ基であり、R2としては水素原子、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、n−ブトキシ基等の低級アルコキ
シ基であり、R3で示される基としては、水素原
子、又はメチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基等
の低級アルキル基であり、R4はメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、イソブチル基等の低級アルキル基であ
り、Xはフツ素、塩素、臭素又はヨウ素である化
合物である。
触媒として使用する銅塩は、1価又は2価の銅
塩又はその錯塩等が使用でき、反応系に於て銅イ
オンとして存在するものであれば良い。例として
は塩化銅、臭化銅、亜硫酸銅、酸化銅、水酸化
銅、シアン化銅、硝酸銅、硫酸銅等の無機銅塩、
シユウ酸銅、酢酸銅等の有機銅塩があげられる。
銅塩の使用量は式()で示される2−ハロゲノ
フエニル酢酸エステルに対し0.1〜50重量%、好
ましくは2.0〜30重量%である。一般式()で
示される2−ハロゲノフエニル酢酸エステルに対
するアンモニヤの使用量は5〜100倍モル、好ま
しくは10〜50倍モルであり、水溶液中で閉環反応
させることから、水溶液中のアンモニヤ濃度は5
〜60重量%、好ましくは20〜40重量%である。
塩又はその錯塩等が使用でき、反応系に於て銅イ
オンとして存在するものであれば良い。例として
は塩化銅、臭化銅、亜硫酸銅、酸化銅、水酸化
銅、シアン化銅、硝酸銅、硫酸銅等の無機銅塩、
シユウ酸銅、酢酸銅等の有機銅塩があげられる。
銅塩の使用量は式()で示される2−ハロゲノ
フエニル酢酸エステルに対し0.1〜50重量%、好
ましくは2.0〜30重量%である。一般式()で
示される2−ハロゲノフエニル酢酸エステルに対
するアンモニヤの使用量は5〜100倍モル、好ま
しくは10〜50倍モルであり、水溶液中で閉環反応
させることから、水溶液中のアンモニヤ濃度は5
〜60重量%、好ましくは20〜40重量%である。
反応温度は150〜300℃で実施するか、180〜250
℃の温度範囲が特に好ましい。反応圧力はアンモ
ニヤの使用量、アンモニヤ水溶液濃度、反応温度
等によつて異なるが、通常5〜70Kg/cm2、で実施
される。反応時間は1〜6時間である。
℃の温度範囲が特に好ましい。反応圧力はアンモ
ニヤの使用量、アンモニヤ水溶液濃度、反応温度
等によつて異なるが、通常5〜70Kg/cm2、で実施
される。反応時間は1〜6時間である。
次に反応終了後、得られた反応液から銅塩と2
−インドリノンを分離し、次いで2−インドリノ
ンを精製する。銅塩の除去はイオン交換樹脂処
理、不溶性の銅塩(硫化銅)として分離するか又
は水不溶性有機溶媒による2−インドリノンの抽
出等の方法で十分である。2−インドリノンの精
製は、再結晶、蒸溜等の常法によつて行うことが
できる。
−インドリノンを分離し、次いで2−インドリノ
ンを精製する。銅塩の除去はイオン交換樹脂処
理、不溶性の銅塩(硫化銅)として分離するか又
は水不溶性有機溶媒による2−インドリノンの抽
出等の方法で十分である。2−インドリノンの精
製は、再結晶、蒸溜等の常法によつて行うことが
できる。
以下、実施例をあげてさらに説明するが、本発
明はこれに限定されるものでない。
明はこれに限定されるものでない。
実施例 1
500c.c.のオートクレーブに2−クロルフエニル
酢酸メチル50g、28重量%のアンモニヤ水溶液
250g及び10gの塩化第一銅無水物を仕込み、密
閉した後、さらにアンモニヤガスを常温でオート
クレーブ内の圧力が10Kg/cm2Gになるまで供給し
た。次いで、内温が190℃になるまで加温し、そ
の温度で約3時間反応させた。反応終了後、反応
液を冷却し、ガスクロマトグラフイーで、2−イ
ンドリノンの生成量を定量した結果、2−クロル
フエニル酢酸に対する2−インドリノンの収率は
78%であつた。
酢酸メチル50g、28重量%のアンモニヤ水溶液
250g及び10gの塩化第一銅無水物を仕込み、密
閉した後、さらにアンモニヤガスを常温でオート
クレーブ内の圧力が10Kg/cm2Gになるまで供給し
た。次いで、内温が190℃になるまで加温し、そ
の温度で約3時間反応させた。反応終了後、反応
液を冷却し、ガスクロマトグラフイーで、2−イ
ンドリノンの生成量を定量した結果、2−クロル
フエニル酢酸に対する2−インドリノンの収率は
78%であつた。
実施例 2
100c.c.のオートクレーブに、2−ブロモ−6−
メトキシフエニル酢酸メチル10g、28重量%のア
ンモニヤ水溶液35g及び1.5gの酢酸第二銅を仕
込み、密閉した後、内温が210℃になるまで加温
し、2時間反応させた。反応終了後、反応液を冷
却し、ガスクロマトグラフイーで4−メトキシ−
2−インドリノンの生成量を定量した結果、2−
ブロモ−6−メトキシフエニル酢酸メチルに対す
る4−メトキシ−2−インドリノンの収率は67%
であつた。
メトキシフエニル酢酸メチル10g、28重量%のア
ンモニヤ水溶液35g及び1.5gの酢酸第二銅を仕
込み、密閉した後、内温が210℃になるまで加温
し、2時間反応させた。反応終了後、反応液を冷
却し、ガスクロマトグラフイーで4−メトキシ−
2−インドリノンの生成量を定量した結果、2−
ブロモ−6−メトキシフエニル酢酸メチルに対す
る4−メトキシ−2−インドリノンの収率は67%
であつた。
比較例
500c.c.オートクレーブに2−クロルフエニル酢
酸27g、28重量%のアンモニヤ水溶液140c.c.およ
び銅粉2.8gを仕込み、密閉した後、内温160〜
165℃で8時間反応させた。反応終了後、反応液
を冷却し、ガスクロマトグラフイーで2−インド
リノンの生成量を定量した結果、2−クロルフエ
ニル酢酸に対する2−インドリノンの収率は39%
であつた。
酸27g、28重量%のアンモニヤ水溶液140c.c.およ
び銅粉2.8gを仕込み、密閉した後、内温160〜
165℃で8時間反応させた。反応終了後、反応液
を冷却し、ガスクロマトグラフイーで2−インド
リノンの生成量を定量した結果、2−クロルフエ
ニル酢酸に対する2−インドリノンの収率は39%
であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式で示される2−ハロゲノフエニル
酢酸エステルを銅塩の存在下、アンモニア水溶液
中で閉環反応させることを特徴とする2−インド
リノン類の製法。 一般式 (但し、式中R1は水素原子、低級アルキル基
又は低級アルコキシ基を示し、R2は水素原子又
は低級アルコキシ基を示し、R3は水素原子又は
低級アルキル基を示し、R4は低級アルキル基を
示し、Xはハロゲン原子を表わす。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14471679A JPS5668668A (en) | 1979-11-08 | 1979-11-08 | Preparation of 2-indolinones |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14471679A JPS5668668A (en) | 1979-11-08 | 1979-11-08 | Preparation of 2-indolinones |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5668668A JPS5668668A (en) | 1981-06-09 |
| JPS6228133B2 true JPS6228133B2 (ja) | 1987-06-18 |
Family
ID=15368630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14471679A Granted JPS5668668A (en) | 1979-11-08 | 1979-11-08 | Preparation of 2-indolinones |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5668668A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012020424A1 (en) | 2010-08-12 | 2012-02-16 | Arch Pharmalabs Limited | A short process for the preparation of ziprasidone and intermediates thereof |
-
1979
- 1979-11-08 JP JP14471679A patent/JPS5668668A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012020424A1 (en) | 2010-08-12 | 2012-02-16 | Arch Pharmalabs Limited | A short process for the preparation of ziprasidone and intermediates thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5668668A (en) | 1981-06-09 |
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