JPS62285251A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
- Publication number
- JPS62285251A JPS62285251A JP61128011A JP12801186A JPS62285251A JP S62285251 A JPS62285251 A JP S62285251A JP 61128011 A JP61128011 A JP 61128011A JP 12801186 A JP12801186 A JP 12801186A JP S62285251 A JPS62285251 A JP S62285251A
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- JP
- Japan
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- protective film
- layer
- ethylene
- acrylic acid
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ビームにより記録、再生を行なうことが可
能な光学的記録媒体に関する。特に、記ｊｉ層の保存安
定性の向上を目的として記録層上に形成される保護膜に
関するものである。
能な光学的記録媒体に関する。特に、記ｊｉ層の保存安
定性の向上を目的として記録層上に形成される保護膜に
関するものである。
（従来の技術）
従来より、光ディスクに用いられる光メモリー材料とし
ては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている。例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としてては、ＭｎＢ
１．Ｍｎ（：ｕＢｉなどの多結晶薄膜、ＧｄＣｏ、Ｇｄ
Ｆｅ、ＴｂＦｅ、ＤｙＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ。
ては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている。例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としてては、ＭｎＢ
１．Ｍｎ（：ｕＢｉなどの多結晶薄膜、ＧｄＣｏ、Ｇｄ
Ｆｅ、ＴｂＦｅ、ＤｙＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ。
’ｒｂ（ｌｙＦｅ、ＧｄＦｅ（：ｏ、ＴｂＦｅＧｏ、Ｇ
ｄＴｂ（：ｏなどの非晶質源１１！；！、 ｃｄｒｃな
どの単結晶薄膜などが知られている。
ｄＴｂ（：ｏなどの非晶質源１１！；！、 ｃｄｒｃな
どの単結晶薄膜などが知られている。
これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で
製作する際の製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書
き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号を
Ｓ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率を勘案して、
最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れて
いると考えられている。特に、ＧｄＴｂＦｅはカー回転
角も大きく、１５０℃前後のキューリ一点を持つので光
磁気記録媒体として最適である。
製作する際の製膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書
き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号を
Ｓ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率を勘案して、
最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体として優れて
いると考えられている。特に、ＧｄＴｂＦｅはカー回転
角も大きく、１５０℃前後のキューリ一点を持つので光
磁気記録媒体として最適である。
しかしながら、一般にＧｄＴｂＦｅ等の光磁気記録媒体
をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶ＭＭｉ性
体は耐食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、
大気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には
完全に酸化されて透明化するに至る。
をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶ＭＭｉ性
体は耐食性が悪いという欠点を持っている。すなわち、
大気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には
完全に酸化されて透明化するに至る。
このような欠点を除くために、従来から光メモリー材料
層の上に５ｉ０２ 、ＳｉＯなどの無機系の保護層を設
けることが提案されている。しかしながら、Ｓｉｎ、
５ｉ０２等の無機物の保護層は蒸着、スパッタ等の真空
装置を使って成膜しなければならず、又その成膜にも時
間がかかる為設備投資及び人件費が膨大なものとなり、
記録媒体のコストを上昇させる原因となっている。また
、これら無機物の保護膜は有機物に比べると熱伝導率が
高く、メモリー材料膜への記録時に、保護膜側に散逸し
てしまうエネルギーが多く、これが書き込み感度を低下
させる原因となっていた。
層の上に５ｉ０２ 、ＳｉＯなどの無機系の保護層を設
けることが提案されている。しかしながら、Ｓｉｎ、
５ｉ０２等の無機物の保護層は蒸着、スパッタ等の真空
装置を使って成膜しなければならず、又その成膜にも時
間がかかる為設備投資及び人件費が膨大なものとなり、
記録媒体のコストを上昇させる原因となっている。また
、これら無機物の保護膜は有機物に比べると熱伝導率が
高く、メモリー材料膜への記録時に、保護膜側に散逸し
てしまうエネルギーが多く、これが書き込み感度を低下
させる原因となっていた。
また有機樹脂を保護膜として記録層上に塗布することも
試みられているが、従来試みられている樹脂には、以下
に記載するような問題があった。
試みられているが、従来試みられている樹脂には、以下
に記載するような問題があった。
まず初めにアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂
等を保護Ｊｌｉとした場合には上記樹脂から記録層を冒
す物質が記録層へ拡散して来て記録層の劣化を促進する
。またアクリル樹脂、シリコーン樹脂、塩化ビニル等を
保護膜にした場合には、保護膜の耐湿性が悪く保護膜と
しての機能をはたすまでに至らない。また、上記樹脂を
使用した場合には塗布後樹脂が硬化するまでに時間がか
かり、製造コストアップの原因になっていた。
等を保護Ｊｌｉとした場合には上記樹脂から記録層を冒
す物質が記録層へ拡散して来て記録層の劣化を促進する
。またアクリル樹脂、シリコーン樹脂、塩化ビニル等を
保護膜にした場合には、保護膜の耐湿性が悪く保護膜と
しての機能をはたすまでに至らない。また、上記樹脂を
使用した場合には塗布後樹脂が硬化するまでに時間がか
かり、製造コストアップの原因になっていた。
（発明が解決しようとする問題点〕
本発明は以上の問題点を解決するためになされたもので
あり短時間でしかも簡単な操作で形成しえて、かつ書き
込み感度の低下が少ない耐食性保護膜を有する光学的記
録媒体を提供することを目的とする。
あり短時間でしかも簡単な操作で形成しえて、かつ書き
込み感度の低下が少ない耐食性保護膜を有する光学的記
録媒体を提供することを目的とする。
本発明は基板上に光学的記録層が設けられている光学的
記録媒体において、該記録層上にエチレン・アクリル酸
共重合体を主成分とする保護膜が形成されていることを
特徴とする光学的記録媒体である。
記録媒体において、該記録層上にエチレン・アクリル酸
共重合体を主成分とする保護膜が形成されていることを
特徴とする光学的記録媒体である。
本発明において、基板としては、ガラス：アクリル樹脂
、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチッ
クが用いられる。
、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチッ
クが用いられる。
本発明において、光学的記録層とは、光メモリー材料層
だけを意味するのではなく、必要に応して光メモリー材
料層の上および／または下に、下地層、反射防止層、反
射層、干渉層、本発明で用いる保護膜以外の材料で構成
される保護層等を適宜設けることによって構成される層
全体をも意味する。
だけを意味するのではなく、必要に応して光メモリー材
料層の上および／または下に、下地層、反射防止層、反
射層、干渉層、本発明で用いる保護膜以外の材料で構成
される保護層等を適宜設けることによって構成される層
全体をも意味する。
基板上に上記光学的記録層を設けるには上記各層を順次
その物性に応じた層形成手段、たとえばスパッタリング
法、真空蒸着法などにより積層してゆく。
その物性に応じた層形成手段、たとえばスパッタリング
法、真空蒸着法などにより積層してゆく。
本発明の光学的記録媒体を形成するには、上述の方法で
記録層を設けたのち、その上にエチレン・アクリル酸共
重合体を主成分とする保護膜を形成するのであるが、エ
チレン・アクリル酸共重合体は熱可塑性樹脂であるので
、それを加熱溶融し、記録層上にロールコータ−、スプ
レー、印刷、スピンコーティングなどの塗布手段で膜状
に塗布すれば、記録層および基板側への熱伝導により塗
布された共重合体は瞬時に冷却固化して塗膜を形成し、
塗布後保護服が形成されるまでに要する時間は従来試み
られてきた有機樹脂保護服の場合の時間に比べてはるか
に短時間である。更に、エチレン・アクリル酸共重合体
膜は、従来試みられできた有機樹脂膜にくらべて透湿性
や気体透過性が低く、従って記録層の酸化劣化防止の銭
点か、らも好ましい。加つるに、熱伝導率がＳｉｎ 、
５ｉ０２等の誘電体、ＡＩＬ、Ｃｕ等の金属に比へて
低いので、記録時の記録エネルギーの散逸も少なく、記
録感度も向上する。
記録層を設けたのち、その上にエチレン・アクリル酸共
重合体を主成分とする保護膜を形成するのであるが、エ
チレン・アクリル酸共重合体は熱可塑性樹脂であるので
、それを加熱溶融し、記録層上にロールコータ−、スプ
レー、印刷、スピンコーティングなどの塗布手段で膜状
に塗布すれば、記録層および基板側への熱伝導により塗
布された共重合体は瞬時に冷却固化して塗膜を形成し、
塗布後保護服が形成されるまでに要する時間は従来試み
られてきた有機樹脂保護服の場合の時間に比べてはるか
に短時間である。更に、エチレン・アクリル酸共重合体
膜は、従来試みられできた有機樹脂膜にくらべて透湿性
や気体透過性が低く、従って記録層の酸化劣化防止の銭
点か、らも好ましい。加つるに、熱伝導率がＳｉｎ 、
５ｉ０２等の誘電体、ＡＩＬ、Ｃｕ等の金属に比へて
低いので、記録時の記録エネルギーの散逸も少なく、記
録感度も向上する。
本発明で用いるエチレン・アクリル酸共重合体は、エチ
レンとアクリル酸を主要構成モノマーとじて得られる共
重合体であり、エチレンとアクリル酸とのモノマー比率
は９：１乃至６：４の範囲のものを用いるのが好ましい
。
レンとアクリル酸を主要構成モノマーとじて得られる共
重合体であり、エチレンとアクリル酸とのモノマー比率
は９：１乃至６：４の範囲のものを用いるのが好ましい
。
上述の如く、エチレン・アクリル酸共重合体単独で保護
膜を形成出来るが、保護膜の透湿率をよりいっそう低下
させるとともに溶融液の粘度を低下させ、塗布を容易に
するためには、該共重合体にパラフィンワックスやマイ
クロクリスタリンワックス等のワックス状炭化水素をブ
レンドするのが好ましく、その最も好ましいブレンド比
率はｆｆ１ｆｆｉ比で共重合体：ワックス状炭化水素が
９：１乃至６：４の範囲のものである。以下、図面を用
いて本発明を説明する。
膜を形成出来るが、保護膜の透湿率をよりいっそう低下
させるとともに溶融液の粘度を低下させ、塗布を容易に
するためには、該共重合体にパラフィンワックスやマイ
クロクリスタリンワックス等のワックス状炭化水素をブ
レンドするのが好ましく、その最も好ましいブレンド比
率はｆｆ１ｆｆｉ比で共重合体：ワックス状炭化水素が
９：１乃至６：４の範囲のものである。以下、図面を用
いて本発明を説明する。
第１乃至第３図は本発明の記録媒体の構造例を説明する
ための側断面図であり、第４図は従来の記録媒体に関す
る同様の図である。各図において、１は基板、２は下地
層、３は光メモリー材料層、４はエチレン・アクリル酸
共重合体を主成分とする保護膜、５は従来技術による保
護膜層、６は接着剤層である。
ための側断面図であり、第４図は従来の記録媒体に関す
る同様の図である。各図において、１は基板、２は下地
層、３は光メモリー材料層、４はエチレン・アクリル酸
共重合体を主成分とする保護膜、５は従来技術による保
護膜層、６は接着剤層である。
第３図にみられる如く、２つの記録層が対向するように
接着剤で貼り合わせた構造のもの、またその際スペーサ
ーを介して貼り合わせた所謂エアーサンドインチ構造の
ものなども、記録層上にエチレン・アクリル酸共重合体
を主成分とする保護膜か形成されている限り、本発明の
光学的記録媒体の実施態様である。
接着剤で貼り合わせた構造のもの、またその際スペーサ
ーを介して貼り合わせた所謂エアーサンドインチ構造の
ものなども、記録層上にエチレン・アクリル酸共重合体
を主成分とする保護膜か形成されている限り、本発明の
光学的記録媒体の実施態様である。
以下に本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
以下に記述した方法でその模式側断面が第１図の構造の
ディスク状光学的記録媒体を作製した。
ディスク状光学的記録媒体を作製した。
インジェクション成形法により、その表面にスパイラル
状の案内溝をもったポリカーボネート樹脂基板１を作製
し、その上に真空蒸着法で９００人の厚さのＳｉＯを下
地層２として成膜し、引き続きＲＦスパッタ法によりＧ
ｄＴｂＦｅ（：ｏの光メモリー材料層３を７００人成膜
した。さらにその上にエチレン・アクリル酸共重合体と
パラフィンワックスを７対３の重量比率で混合した樹脂
を加熱溶融し、ロールコータ−にて３０−の厚さに塗布
した。塗膜は塗布されるとすぐに記録層および基板側へ
熱伝導が起り、瞬時に冷却固化して保護膜４が形成され
、かくて本発明の光学的記録媒体が得られた。
状の案内溝をもったポリカーボネート樹脂基板１を作製
し、その上に真空蒸着法で９００人の厚さのＳｉＯを下
地層２として成膜し、引き続きＲＦスパッタ法によりＧ
ｄＴｂＦｅ（：ｏの光メモリー材料層３を７００人成膜
した。さらにその上にエチレン・アクリル酸共重合体と
パラフィンワックスを７対３の重量比率で混合した樹脂
を加熱溶融し、ロールコータ−にて３０−の厚さに塗布
した。塗膜は塗布されるとすぐに記録層および基板側へ
熱伝導が起り、瞬時に冷却固化して保護膜４が形成され
、かくて本発明の光学的記録媒体が得られた。
実施例２
以下に記述した方法でその模式側断面が第２図の構造の
円形状の光学的記録媒体を作製した。
円形状の光学的記録媒体を作製した。
光メモリー材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行
ない、その上に保護膜５としてＳｉＯを５００人真空蒸
着法で形成した。ついで、実施例１と同様な方法てエチ
レン・アクリル酸共重合体とパラフィンワックスとのｆ
ｆ１ｆｆｉ比が６＝４である厚さ４０−の混合保護膜４
をその丘に形成して本発明の光学的記録媒体を得た。尚
、保護膜の形成に要した時間は約２分であった。
ない、その上に保護膜５としてＳｉＯを５００人真空蒸
着法で形成した。ついで、実施例１と同様な方法てエチ
レン・アクリル酸共重合体とパラフィンワックスとのｆ
ｆ１ｆｆｉ比が６＝４である厚さ４０−の混合保護膜４
をその丘に形成して本発明の光学的記録媒体を得た。尚
、保護膜の形成に要した時間は約２分であった。
比較のために第４図にその模式側断面を示す構造の光学
的記録媒体を作製した。すなわちこの場合は光メモリー
材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行ない、その
上に保護膜５としてＳｉＯを３０００人真空蒸着法で形
成したものである。この場合の保護膜形成の所要時間は
約５分であった。
的記録媒体を作製した。すなわちこの場合は光メモリー
材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行ない、その
上に保護膜５としてＳｉＯを３０００人真空蒸着法で形
成したものである。この場合の保護膜形成の所要時間は
約５分であった。
得られた２つの記録媒体を４５℃、９５％ＲＨの環境試
験器中に１０００時間放置後、記録層の劣化の程度を比
較したが、両者に殆ど差がなかった。
験器中に１０００時間放置後、記録層の劣化の程度を比
較したが、両者に殆ど差がなかった。
同一膜厚の場合は樹脂１漠の方がＳｉＯ膜にくらへて気
体および水分透過量が多いにも拘らず上記の如き結果が
得られたのはエチレン・アクリル酸共重合体−ワックス
の保護膜を厚く成膜したためと思われるが、それにも拘
らず前述の如く保護膜形成のための所要時間を本発明の
場合はかなり短縮出来るので、その経済的効果はきわめ
て大きい。
体および水分透過量が多いにも拘らず上記の如き結果が
得られたのはエチレン・アクリル酸共重合体−ワックス
の保護膜を厚く成膜したためと思われるが、それにも拘
らず前述の如く保護膜形成のための所要時間を本発明の
場合はかなり短縮出来るので、その経済的効果はきわめ
て大きい。
実施例３
実施例２の光学的記録媒体を記録層が対向するようにゴ
ム系のホットメルト接着剤６で貼り合わせて、その模式
側断面か第３図の構造の記録媒体を作製した。このよう
に貼り合わせ構造の記録媒体においても実施例２と同様
の効果がある。
ム系のホットメルト接着剤６で貼り合わせて、その模式
側断面か第３図の構造の記録媒体を作製した。このよう
に貼り合わせ構造の記録媒体においても実施例２と同様
の効果がある。
尚、上記実施例ではいずれも光磁気記録媒体で本発明を
説明したが、記録層の種類はこれに限定されるものでは
ない。
説明したが、記録層の種類はこれに限定されるものでは
ない。
〔発明の効果］
以上説明したようにエチレン・アクリル酸共重合体を保
護膜に使った場合には従来の無機保護膜に比べて記録感
度が向トしコスト的にも有利である。又、従来から使わ
れている有機保護膜に比べても記録層の保護性能が高く
加熱溶融して塗布し、常温にもどると固化するため短時
間で成膜でき、コスト的に有利である。
護膜に使った場合には従来の無機保護膜に比べて記録感
度が向トしコスト的にも有利である。又、従来から使わ
れている有機保護膜に比べても記録層の保護性能が高く
加熱溶融して塗布し、常温にもどると固化するため短時
間で成膜でき、コスト的に有利である。
第１〜３図および第４図は、本発明および従来の光学的
記録媒体の構造を、それぞれ模式的に示した側断面図で
ある。 １・・・・・・基板、 ２・・・・・・下地層、 ３・・・・・・光メモリー材料層、 ４・・・・・・エチレン・アクリル酸共重合体を主成分
とする保護層、 ５・・・・・・従来技術による保護層、６ ・−−−−
−接着剤層。
記録媒体の構造を、それぞれ模式的に示した側断面図で
ある。 １・・・・・・基板、 ２・・・・・・下地層、 ３・・・・・・光メモリー材料層、 ４・・・・・・エチレン・アクリル酸共重合体を主成分
とする保護層、 ５・・・・・・従来技術による保護層、６ ・−−−−
−接着剤層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）基板上に光学的記録層が設けられている光学的記録
媒体において、該記録層状にエチレン・アクリル酸共重
合体を主成分とする保護膜が形成されていることを特徴
とする光学的記録媒体。 ２）前記保護膜がエチレン・アクリル酸共重合体とワッ
クス状炭化水素との混合物である特許請求の範囲第１項
記載の光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61128011A JP2525366B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61128011A JP2525366B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62285251A true JPS62285251A (ja) | 1987-12-11 |
| JP2525366B2 JP2525366B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=14974270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61128011A Expired - Fee Related JP2525366B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2525366B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02177138A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光記録部材 |
| CN102876250A (zh) * | 2012-09-24 | 2013-01-16 | 无锡市科麦特光电材料有限公司 | 一种用于复合金属带的乙烯丙烯酸胶液 |
-
1986
- 1986-06-04 JP JP61128011A patent/JP2525366B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02177138A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光記録部材 |
| CN102876250A (zh) * | 2012-09-24 | 2013-01-16 | 无锡市科麦特光电材料有限公司 | 一种用于复合金属带的乙烯丙烯酸胶液 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2525366B2 (ja) | 1996-08-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |