JPS62289915A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPS62289915A JPS62289915A JP61134082A JP13408286A JPS62289915A JP S62289915 A JPS62289915 A JP S62289915A JP 61134082 A JP61134082 A JP 61134082A JP 13408286 A JP13408286 A JP 13408286A JP S62289915 A JPS62289915 A JP S62289915A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic disk
- magnetic
- magnetic recording
- density
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
産業上の利用分野
本発明は、コンピュータや画像記録等の分野での高密度
磁気記録用の磁気ディスクに関する。
磁気記録用の磁気ディスクに関する。
従来の技術
高分子フィルムを基板とする磁気ディスクは、簡単なフ
ァイルメモリとして主流をなし、通常フロッピーディス
クと呼ばれ、１９７２年ＩＢＭ社の発表以来、競って高
密度化を進めてきており、現状では、３．６インチ両面
アクセス型で１メガバイトの記録密度が達成されている
。
ァイルメモリとして主流をなし、通常フロッピーディス
クと呼ばれ、１９７２年ＩＢＭ社の発表以来、競って高
密度化を進めてきており、現状では、３．６インチ両面
アクセス型で１メガバイトの記録密度が達成されている
。
これまでの磁気記録層は酸化物磁性粉をパイン２、、７
ダで基板上に固定したもので、最近では、代表的なＣｏ
−γ−Ｆθ２０３の代りにバリウムフェライトを垂直磁
気記録用として、利用する動きもあるが、最も有望な今
後の高密度記録用は、強磁性金属薄膜を磁気記録層とす
るものである。
−γ−Ｆθ２０３の代りにバリウムフェライトを垂直磁
気記録用として、利用する動きもあるが、最も有望な今
後の高密度記録用は、強磁性金属薄膜を磁気記録層とす
るものである。
第２図は、垂直記録用の媒体の一例で、ポリイミド等の
高分子フィルム１上に、Ｑｅ等の下地層２を配し、その
上にＣｏ−Ｃｒ等の垂直磁化膜３゜保持膜４を積層して
成るもので、線記録密度で１００ＫＢＰ Ｉ （インチ
当りのビット数）以上が可能である。〔外国論文誌：ア
イイーイルイートランザクション オン マグネティク
ス（ＩＥＥＥＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇ
ｎｅｔｉｃｓ ） ｖｏｅ、 ＭＡＧ −２１、ｇ５、
Ｐ、Ｐ、１３６５〜１３６７ （１９８５））又、ハー
ドディスクでは、Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐのメ。
高分子フィルム１上に、Ｑｅ等の下地層２を配し、その
上にＣｏ−Ｃｒ等の垂直磁化膜３゜保持膜４を積層して
成るもので、線記録密度で１００ＫＢＰ Ｉ （インチ
当りのビット数）以上が可能である。〔外国論文誌：ア
イイーイルイートランザクション オン マグネティク
ス（ＩＥＥＥＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇ
ｎｅｔｉｃｓ ） ｖｏｅ、 ＭＡＧ −２１、ｇ５、
Ｐ、Ｐ、１３６５〜１３６７ （１９８５））又、ハー
ドディスクでは、Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐのメ。
キ膜、Ｇｏ−Ｎｉのスパッタ膜等が検討されているが、
いずれも耐久性の良好な保護膜の開発が実用化の鍵をに
ぎるものとして重点課題として取組１れ、フッ素系潤滑
剤の塗布や、プラズマ重合膜やダイアモンド状炭素膜等
が有望とされている。
いずれも耐久性の良好な保護膜の開発が実用化の鍵をに
ぎるものとして重点課題として取組１れ、フッ素系潤滑
剤の塗布や、プラズマ重合膜やダイアモンド状炭素膜等
が有望とされている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記した構成では、強磁性金属薄膜の耐久
性が必ずしも十分でないため、保護膜の完全性が要求さ
れるため、厚みが１００八以上、好１しくは２５０Å以
上が必要で、今後更に高密度化が進み、１ｏｏＫＢＰＩ
以上になると、保護膜でのスペーシング損失が無視でき
なくなるため、改良が望まれていた。本発明は上記した
事情に鑑み、なされたもので、保護膜と強磁性金属薄膜
の最適化により、スペーシング損失の小さい耐久性の改
良された磁気ディスクを提供することを目的とする。
性が必ずしも十分でないため、保護膜の完全性が要求さ
れるため、厚みが１００八以上、好１しくは２５０Å以
上が必要で、今後更に高密度化が進み、１ｏｏＫＢＰＩ
以上になると、保護膜でのスペーシング損失が無視でき
なくなるため、改良が望まれていた。本発明は上記した
事情に鑑み、なされたもので、保護膜と強磁性金属薄膜
の最適化により、スペーシング損失の小さい耐久性の改
良された磁気ディスクを提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため、本発明の磁気ディスクは粒
状突起を有する下塗り層を配した円板状フィルムの周方
向に斜め蒸着した部分酸化強磁性金属薄膜から成る磁気
記録層を配したものである。
状突起を有する下塗り層を配した円板状フィルムの周方
向に斜め蒸着した部分酸化強磁性金属薄膜から成る磁気
記録層を配したものである。
作 用
本発明の磁気ディスクは上記した構成により、粒状突起
によるシャドウィング効果で、形状効果が強調され、磁
気ヘッドのトレース方向に凹凸が強調されるため、膜自
身の耐久性が増すため保護膜は薄くできるのと、斜め蒸
着の柱状粒子による研磨効果でヘッドなじみが良好とな
り、エンベロープが良好となり、高出力が短波長に於て
も維持されるものである。
によるシャドウィング効果で、形状効果が強調され、磁
気ヘッドのトレース方向に凹凸が強調されるため、膜自
身の耐久性が増すため保護膜は薄くできるのと、斜め蒸
着の柱状粒子による研磨効果でヘッドなじみが良好とな
り、エンベロープが良好となり、高出力が短波長に於て
も維持されるものである。
実施例
以下、図面を参照にして、本発明の実施例について説明
する。
する。
第１図は本発明の磁気記録媒体の断面図で、第１図で６
１″ｉ厚みが２６μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムからなる高分子フィルムで、６は粒状突起を有す
る下塗り層で、粒子はカーボンで平均粒子径３００人９
粒子密度は３ ｘ １ｏ ＠／ｃｕｔ。
１″ｉ厚みが２６μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムからなる高分子フィルムで、６は粒状突起を有す
る下塗り層で、粒子はカーボンで平均粒子径３００人９
粒子密度は３ ｘ １ｏ ＠／ｃｕｔ。
塗膜はポリエステル樹脂である。７は周方向に斜め蒸着
したＣｏ −Ｎｉ −０膜、 ０．１ ａｍで、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏの構成は原子チ比で７０：１４：１８で、層
厚は６０人である。
したＣｏ −Ｎｉ −０膜、 ０．１ ａｍで、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏの構成は原子チ比で７０：１４：１８で、層
厚は６０人である。
６へ−７
３，６インチフロッピーディスクとして、比較例と比較
検討した。比較例は、厚み２６μｍの平滑なポリイミド
フィルム上に高周波スパッタ法で形成した。Ｃｏ −Ｎ
ｉ （Ｎｉ ２１ 、５ ｗｔ％）膜０．１μｍを配し
た土に保護膜として、実施例と同じプラズマ重合膜を６
０人配したものを比較例Ａ、３００人配したものを比較
例Ｂとして準備した。Ｃｏ−Ｎｉ膜の保磁力は８３０（
Ｏｅ）である。
検討した。比較例は、厚み２６μｍの平滑なポリイミド
フィルム上に高周波スパッタ法で形成した。Ｃｏ −Ｎ
ｉ （Ｎｉ ２１ 、５ ｗｔ％）膜０．１μｍを配し
た土に保護膜として、実施例と同じプラズマ重合膜を６
０人配したものを比較例Ａ、３００人配したものを比較
例Ｂとして準備した。Ｃｏ−Ｎｉ膜の保磁力は８３０（
Ｏｅ）である。
実施例はセンダストスパッタ膜を複合化したリング型磁
気ヘッドに対して、１，５００万パス異常がなかったの
に比し、比較例Ａは、１２，０００パス、 比較例Ｂは
、６６万パスで、エラー率が急増した。尚線記録密度は
１２２ＫＢＰＩである。
気ヘッドに対して、１，５００万パス異常がなかったの
に比し、比較例Ａは、１２，０００パス、 比較例Ｂは
、６６万パスで、エラー率が急増した。尚線記録密度は
１２２ＫＢＰＩである。
本実施例では、高分子フィルムとしてポリエチレンテレ
フタレートフィルムを用いたが、他にポリエチレンナフ
タレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネ
ート、ポリアミドイミド。
フタレートフィルムを用いたが、他にポリエチレンナフ
タレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネ
ート、ポリアミドイミド。
ポリイミド等としてもよい。
下塗り層の粒子は、ポリエステル珠等の樹脂粒子、シリ
カ、アルミナ、炭酸カルシウム、カルシア等の無機粒子
のいずれでもよい。
カ、アルミナ、炭酸カルシウム、カルシア等の無機粒子
のいずれでもよい。
斜め蒸着膜はＣｏ −Ｎ ｉ −０膜１：）他に、Ｃｏ
−０。
−０。
Ｃｏ−Ｆｅ−０，Ｇｏ−Ｃｒ−０，Ｇｏ−Ｖ−０，Ｃｏ
−Ｍｏ−０，Ｃｏ −Ｐｒ−０，Ｃｏ−Ａｇ−０，Ｆ
ｅ−Ａｇ −０、Ｅｅ −Ｎｉ −Ｐｒ −０等でもよ
い。
−Ｍｏ−０，Ｃｏ −Ｐｒ−０，Ｃｏ−Ａｇ−０，Ｆ
ｅ−Ａｇ −０、Ｅｅ −Ｎｉ −Ｐｒ −０等でもよ
い。
発明の効果
以上のように本発明によれば、強磁性金属薄膜の耐久性
が改良されるのと、等方向な磁気特性と異なり、異方性
が周方向についているため、高出力化が図れるので、保
護膜による出力域も小さいので、高出力を長時間維持で
きるといったすぐれた効果がある。
が改良されるのと、等方向な磁気特性と異なり、異方性
が周方向についているため、高出力化が図れるので、保
護膜による出力域も小さいので、高出力を長時間維持で
きるといったすぐれた効果がある。
第１図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大断
面図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である
。 ６・・・・・・高分子フィルム、６・・・・・・下塗り
層、７・・・・・周方向斜め蒸着膜。
面図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である
。 ６・・・・・・高分子フィルム、６・・・・・・下塗り
層、７・・・・・周方向斜め蒸着膜。
Claims (1)
- 粒状突起を有する下塗り層を配した円板状高分子フィル
ムの周方向に斜め蒸着した部分酸化強磁性金属薄膜から
成る磁気記録層を配したことを特徴とする磁気ディスク
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61134082A JPS62289915A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61134082A JPS62289915A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62289915A true JPS62289915A (ja) | 1987-12-16 |
Family
ID=15119979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61134082A Pending JPS62289915A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62289915A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57164419A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
-
1986
- 1986-06-10 JP JP61134082A patent/JPS62289915A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57164419A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
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