JPS62289945A - 光記録素子 - Google Patents
光記録素子Info
- Publication number
- JPS62289945A JPS62289945A JP13183586A JP13183586A JPS62289945A JP S62289945 A JPS62289945 A JP S62289945A JP 13183586 A JP13183586 A JP 13183586A JP 13183586 A JP13183586 A JP 13183586A JP S62289945 A JPS62289945 A JP S62289945A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- optical recording
- protective film
- recording element
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスクに係り、特に、光記録媒体の保護
膜に関する。
膜に関する。
(従来の技wり
近年、情報量の急激な増加に伴い、これらの情報の処理
技術として、光デイスク装置の研究開発が活発に行なわ
れている。光ディスクは、現在、主流となっている磁気
ディスクに比べ、記録密度が数十倍から数百倍と高く、
しかも高速に記録・再生・消去等の情報処理ができる。
技術として、光デイスク装置の研究開発が活発に行なわ
れている。光ディスクは、現在、主流となっている磁気
ディスクに比べ、記録密度が数十倍から数百倍と高く、
しかも高速に記録・再生・消去等の情報処理ができる。
また、情報処理の際は、記録素子へ非接触的に行なうた
め、磁気ディスクで生じるヘッドクラッシュのような機
械的損傷がない。
め、磁気ディスクで生じるヘッドクラッシュのような機
械的損傷がない。
従来の光ディスクに用いる記録素子には、記録媒体の磁
化反転を利用した光磁気記録素子と、記録媒体のアモル
ファス−結晶、結晶−結晶の相転移を利用した記録素子
がある。光磁気記録素子の記録媒体は、希土類−遷移金
属合金薄膜、相転移型記録媒体は、カルゴゲン化合物薄
膜が用いらている。これらの記録媒体は、大気、水蒸気
、レーザ熱等により酸化しゃいとと、及び、記録感度を
向上させるために保護膜を設けている。この保護膜には
耐食性及び高屈折率等の特性をもつ材料が用いられる。
化反転を利用した光磁気記録素子と、記録媒体のアモル
ファス−結晶、結晶−結晶の相転移を利用した記録素子
がある。光磁気記録素子の記録媒体は、希土類−遷移金
属合金薄膜、相転移型記録媒体は、カルゴゲン化合物薄
膜が用いらている。これらの記録媒体は、大気、水蒸気
、レーザ熱等により酸化しゃいとと、及び、記録感度を
向上させるために保護膜を設けている。この保護膜には
耐食性及び高屈折率等の特性をもつ材料が用いられる。
この特性をもつ保護膜を、記録媒体のレーザ光入射側に
設けることで、レーザ光が保護膜の内部で反射を繰り返
して干渉を生じる。この干渉効果が大きいほど記録媒体
へのレーザ光吸収が高められ、光磁気記録媒体のカー回
転角増幅効果が増し、また、相転移型記録媒体では、相
転移速度が早くなり、従って、記録感度が向上する。
設けることで、レーザ光が保護膜の内部で反射を繰り返
して干渉を生じる。この干渉効果が大きいほど記録媒体
へのレーザ光吸収が高められ、光磁気記録媒体のカー回
転角増幅効果が増し、また、相転移型記録媒体では、相
転移速度が早くなり、従って、記録感度が向上する。
レーザの干渉効果を増大させるには屈折率が高いものほ
ど有利であり、従来は、Sin、5iftsTies
、5iaNa、SiN、AUN、Si等が用いられてい
る。
ど有利であり、従来は、Sin、5iftsTies
、5iaNa、SiN、AUN、Si等が用いられてい
る。
上記従来の保護膜は、屈折率が1.5〜2.5程度であ
り、記録感度を上げるには限界があった。
り、記録感度を上げるには限界があった。
本発明の目的は、耐食性に優れ、従来より屈折率が高い
材料を光記録媒体の保護膜として用いることで、記録・
再生・消去等の情報処理をより高速化し、かつ、記録デ
ータの長期保存を可能とすることにある。
材料を光記録媒体の保護膜として用いることで、記録・
再生・消去等の情報処理をより高速化し、かつ、記録デ
ータの長期保存を可能とすることにある。
上記目的は、光記録媒体の保護膜にアモルファスS 1
t−x Cx (0< x < 1 )を用いること
により達成される。
t−x Cx (0< x < 1 )を用いること
により達成される。
〔作用〕
アモ)Llフ7ス5ix−xCx (0<x<1)は
、耐食性に優れ、かつ、レーザ波長830 n m t
’屈折率3.5 と非常に高い値を示す。アモルファス
5ix−xCxを光記録媒体の保護膜として用いること
により、レーザ光の干渉効果が増大し、記録媒体へのレ
ーザ光吸収を高められる。従って、光磁気記録媒体のカ
ー回転角増幅効果が大きくなる。
、耐食性に優れ、かつ、レーザ波長830 n m t
’屈折率3.5 と非常に高い値を示す。アモルファス
5ix−xCxを光記録媒体の保護膜として用いること
により、レーザ光の干渉効果が増大し、記録媒体へのレ
ーザ光吸収を高められる。従って、光磁気記録媒体のカ
ー回転角増幅効果が大きくなる。
また、相転移型記録媒体の相転移速度を速くできる。さ
らに、保護膜は非酸化物であるため、記録媒体への酸素
の混入を防ぎ、酸化による記録媒体の特性劣化を防止で
きる。
らに、保護膜は非酸化物であるため、記録媒体への酸素
の混入を防ぎ、酸化による記録媒体の特性劣化を防止で
きる。
以下、本発明の実施例を示す。
図は、光記#A素子の断面図であり、透明基板4の上に
保護膜2、さらに、光記録媒体35次いで、保護膜2、
反射膜1を順次設けた構造となっている。透明基板4は
、ガラス・ポリカーボネイト。
保護膜2、さらに、光記録媒体35次いで、保護膜2、
反射膜1を順次設けた構造となっている。透明基板4は
、ガラス・ポリカーボネイト。
アクリル等を用いる。保護膜2は、耐食性に優れ高屈折
率をもつアモルファスS 1x−x Cx (0< x
<1)を用いる。アモルファス5ii−xCxはSi
C焼結体をターゲット基材として、スパッタリング法に
より作製する。光記録媒体8は、M n B 1 eM
nCuBl、GdCo、GdTbFe等の希土類−遷移
金属合金薄111[(光磁気記録媒体)、Ge−To。
率をもつアモルファスS 1x−x Cx (0< x
<1)を用いる。アモルファス5ii−xCxはSi
C焼結体をターゲット基材として、スパッタリング法に
より作製する。光記録媒体8は、M n B 1 eM
nCuBl、GdCo、GdTbFe等の希土類−遷移
金属合金薄111[(光磁気記録媒体)、Ge−To。
Sθ−Te、As−Te−Ge系等のアモルファス力ル
ゴゲナイド薄膜、 Cu −A (1−N i 、 A
g−Zn系等の金属薄膜(相転移型光記録媒体)を用
いる。反射膜1は、AQ、Ag、Cu、Pt等の金属薄
膜を用いる。
ゴゲナイド薄膜、 Cu −A (1−N i 、 A
g−Zn系等の金属薄膜(相転移型光記録媒体)を用
いる。反射膜1は、AQ、Ag、Cu、Pt等の金属薄
膜を用いる。
レーザ光5は、透明基板4側から入射して保護膜2の内
部で反射が繰り返されて干渉を生じ光記録媒体3に到達
する。記録媒体3は、膜厚が薄いほど記録感度を上げら
れるが、逆にレーザ光5の透過率が増えてしまい記録に
及ぼすレーザ・エネ5ルギの効率が低減してしまう。こ
のため、光記録ゴ素子のレーザ光5の入射裏面に保護膜
2と反射膜1を設け、記録媒体3を透過したレーザ光5
を反射によって再び記録媒体3に戻すことでレーザ・エ
ネルギ効率を向上させる。
部で反射が繰り返されて干渉を生じ光記録媒体3に到達
する。記録媒体3は、膜厚が薄いほど記録感度を上げら
れるが、逆にレーザ光5の透過率が増えてしまい記録に
及ぼすレーザ・エネ5ルギの効率が低減してしまう。こ
のため、光記録ゴ素子のレーザ光5の入射裏面に保護膜
2と反射膜1を設け、記録媒体3を透過したレーザ光5
を反射によって再び記録媒体3に戻すことでレーザ・エ
ネルギ効率を向上させる。
本実施例によれば、保護膜の屈折率が非常に高いため、
レーザ光の干渉効果が増大し、記録感度を大幅に上げら
れる。また、光記録媒体が保護膜でサンドイッチされて
いるため、外気に直接触されることがなく、さらに、保
護膜は非酸化物であるため、光記録媒体の酸素混入によ
る特性劣化を防ぐことができる。
レーザ光の干渉効果が増大し、記録感度を大幅に上げら
れる。また、光記録媒体が保護膜でサンドイッチされて
いるため、外気に直接触されることがなく、さらに、保
護膜は非酸化物であるため、光記録媒体の酸素混入によ
る特性劣化を防ぐことができる。
[発明の効果]
本発明によれば、光記録媒体の保護膜にアモルファス5
i1−xCxを用いることで、記録・再生・消去等の情
報処理を高速化し、かつ、記録データの長期保存が可能
となる。
i1−xCxを用いることで、記録・再生・消去等の情
報処理を高速化し、かつ、記録データの長期保存が可能
となる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例の光記録素子の断面図である。
2・・・保護膜。
Claims (1)
- 1、光記録素子において、光記録媒体の保護膜として、
耐食性に優れ、かつ、高屈折率のアモルファスSi_1
_−_xC_x(0<x<1)を用いることを特徴とす
る光記録素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13183586A JPS62289945A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光記録素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13183586A JPS62289945A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光記録素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62289945A true JPS62289945A (ja) | 1987-12-16 |
Family
ID=15067212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13183586A Pending JPS62289945A (ja) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | 光記録素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62289945A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01251358A (ja) * | 1988-02-01 | 1989-10-06 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 炭化ケイ素誘電体を有する光磁気記録媒体 |
| JPH038148A (ja) * | 1989-06-05 | 1991-01-16 | Hitachi Ltd | 光磁気記録媒体 |
| US5158834A (en) * | 1988-02-01 | 1992-10-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magneto optic recording medium with silicon carbide dielectric |
-
1986
- 1986-06-09 JP JP13183586A patent/JPS62289945A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01251358A (ja) * | 1988-02-01 | 1989-10-06 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 炭化ケイ素誘電体を有する光磁気記録媒体 |
| US5158834A (en) * | 1988-02-01 | 1992-10-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magneto optic recording medium with silicon carbide dielectric |
| JPH038148A (ja) * | 1989-06-05 | 1991-01-16 | Hitachi Ltd | 光磁気記録媒体 |
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