JPS622946B2 - - Google Patents
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- JPS622946B2 JPS622946B2 JP481181A JP481181A JPS622946B2 JP S622946 B2 JPS622946 B2 JP S622946B2 JP 481181 A JP481181 A JP 481181A JP 481181 A JP481181 A JP 481181A JP S622946 B2 JPS622946 B2 JP S622946B2
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- Japan
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- bath
- abrasive grains
- glycerin
- diamond
- plating
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/02—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
- B24D3/04—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic
- B24D3/06—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフエライト等のかたくてもろい材料の
切断等のための電着砥石の製造方法に関するもの
で、製作する上で、ニツケルおよび銅の電解メツ
キ浴中にグリセリンを添加して浴比重粘度を高め
ることにより、砥粒を沈降させず、浴中に均一分
散させ、その結果、砥粒が均一かつ定量的に共析
する電着砥石を製作することを目的とする。
切断等のための電着砥石の製造方法に関するもの
で、製作する上で、ニツケルおよび銅の電解メツ
キ浴中にグリセリンを添加して浴比重粘度を高め
ることにより、砥粒を沈降させず、浴中に均一分
散させ、その結果、砥粒が均一かつ定量的に共析
する電着砥石を製作することを目的とする。
従来の電着砥石の製造法として、
砥粒を単に電解メツキ浴中に懸濁させ、メツ
キ浴の下方に置いた台金上に砥粒を沈積させ、
その後に電解メツキで結合させ、余分な砥粒を
払い落す方法があるが、この方法では沈積する
砥粒の量を規制することは困難であり、その結
果、メツキ厚みが不均一となる。
キ浴の下方に置いた台金上に砥粒を沈積させ、
その後に電解メツキで結合させ、余分な砥粒を
払い落す方法があるが、この方法では沈積する
砥粒の量を規制することは困難であり、その結
果、メツキ厚みが不均一となる。
砥粒表面をカチオン系またはノニオン系界面
活性剤により親水基を付加させ、メツキ浴中に
おける分散性を良くすることにより、台金上に
金属と砥粒とを同時に電着・共析させる方法が
あるが、この方法では砥粒は短時間で沈降して
しまい、かつ、メツキ浴に対して界面活性剤が
難溶であるため、低温において分離する欠点が
あつた。
活性剤により親水基を付加させ、メツキ浴中に
おける分散性を良くすることにより、台金上に
金属と砥粒とを同時に電着・共析させる方法が
あるが、この方法では砥粒は短時間で沈降して
しまい、かつ、メツキ浴に対して界面活性剤が
難溶であるため、低温において分離する欠点が
あつた。
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、以
下にその概要ならびに実施例についてのべる。
下にその概要ならびに実施例についてのべる。
電磁砥石を製作する上で重要なことは砥粒がメ
ツキ浴中で沈降せずに均一に分散し、かつ、台金
に対してメツキ相が強固に密着していることであ
る。以上の条件を満たすために本発明ではグリセ
リンを用いた。平均粒径１〜30μｍの砥粒５ｇを
グリセリン340ml中に入れ約１時間撹拌して、砥
粒をグリセリン中に均一に分散させた後、メツキ
浴に添加する。グリセリンを用いるのは、その粘
性の高さを利用するものであり、グリセリンの添
加によつて浴の粘度が高くなり、その結果浴中で
の砥粒の沈降速度を遅くすることができる。
ツキ浴中で沈降せずに均一に分散し、かつ、台金
に対してメツキ相が強固に密着していることであ
る。以上の条件を満たすために本発明ではグリセ
リンを用いた。平均粒径１〜30μｍの砥粒５ｇを
グリセリン340ml中に入れ約１時間撹拌して、砥
粒をグリセリン中に均一に分散させた後、メツキ
浴に添加する。グリセリンを用いるのは、その粘
性の高さを利用するものであり、グリセリンの添
加によつて浴の粘度が高くなり、その結果浴中で
の砥粒の沈降速度を遅くすることができる。
以下実施例について述べる。
実施例 １
台金の材質が鉄、銅、銅合金の場合には通常の
前処理工程を行つた後で下記のメツキ浴でダイヤ
モンド砥石を製作した。
前処理工程を行つた後で下記のメツキ浴でダイヤ
モンド砥石を製作した。
浴組成
スルフアミン酸ニツケル 340〜540ｇ/
塩化ニツケル 10ｇ/
ホウ酸 30ｇ/
ダイヤ（６〜12μｍ） １〜10ｇ/
グリセリン 340ml/
条 件
PH ２〜４
温 度 40〜50℃
電流密度 １〜5A／ｄm2
撹 拌 マグネツトスターラー
台金の材質がステンレスの場合には上記のメツ
キ浴でメツキを行う前に下記の塩化ニツケル浴で
下地メツキを施す。
キ浴でメツキを行う前に下記の塩化ニツケル浴で
下地メツキを施す。
浴組成
塩化ニツケル 240ｇ/
塩 酸 120ｇ/
条 件
PH 2.0
温 度 20〜30℃
電流密度 ３〜5A／ｄm2
時 間 １分
実施例１の結果
浴の粘度、比重はグリセリンを添加しない場合
に比べて、 粘度（at40℃）…60cp（無添加5cp） 比重（at40℃）…1.3（ 〃 1.1） となつた。グリセリンの添加量と、ダイヤの浴中
分散量の時間変化を第１図に示す。粒径６〜12μ
ｍのダイヤを５ｇ/とし、グリセリンを各量添
加した浴を約１時間混合し、その後に静置して、
時間ごとの沈降量を測定し、その値より浴中分散
量を求めた。
に比べて、 粘度（at40℃）…60cp（無添加5cp） 比重（at40℃）…1.3（ 〃 1.1） となつた。グリセリンの添加量と、ダイヤの浴中
分散量の時間変化を第１図に示す。粒径６〜12μ
ｍのダイヤを５ｇ/とし、グリセリンを各量添
加した浴を約１時間混合し、その後に静置して、
時間ごとの沈降量を測定し、その値より浴中分散
量を求めた。
第２図にメツキ中における浴撹拌の有無による
ダイヤ共析量を各電流密度ごとに示す。なおダイ
ヤ共析量は通常、ダイヤモンド砥石の場合、ダイ
ヤ4.4カラツト／メツキ層１cm3の時、集中度100と
示す方法を用いた。
ダイヤ共析量を各電流密度ごとに示す。なおダイ
ヤ共析量は通常、ダイヤモンド砥石の場合、ダイ
ヤ4.4カラツト／メツキ層１cm3の時、集中度100と
示す方法を用いた。
第１図から、グリセリンを340ml/以上添加し
た時、浴中のダイヤは添加量の内約90％以上が90
分間浴中に均一に分散していた。他方、グリセリ
ンを添加しない場合は放置後30分間で全てが沈降
した。第２図から、浴撹拌の有無にあまり影響さ
れることなく、電流密度が10A／ｄm2まではダイ
ヤ共析量は増加し、それ以降は減少した。以上第
１、２図の結果から、グリセリンを添加すること
による効果が非常に大であることが明らかであ
る。
た時、浴中のダイヤは添加量の内約90％以上が90
分間浴中に均一に分散していた。他方、グリセリ
ンを添加しない場合は放置後30分間で全てが沈降
した。第２図から、浴撹拌の有無にあまり影響さ
れることなく、電流密度が10A／ｄm2まではダイ
ヤ共析量は増加し、それ以降は減少した。以上第
１、２図の結果から、グリセリンを添加すること
による効果が非常に大であることが明らかであ
る。
実施例 ２
実施例１ではスルフアミン酸Niを主とした浴
組成であるが、それ以外に硫酸Niを主としたワ
ツト浴がある。
組成であるが、それ以外に硫酸Niを主としたワ
ツト浴がある。
浴組成
硫酸ニツケル 240〜360ｇ/
塩化ニツケル 45〜70ｇ/
ホウ酸 30ｇ/
ダイヤ（６〜12μｍ） １〜10ｇ/
グリセリン 340ml/
条 件
PH ２〜４
温 度 40〜50℃
電流密度 ２〜4A／ｄm2
撹 拌 マグネツトスターラー
上記条件により、メツキを行なつた結果、実施
例１と同様の結果が得られた。
例１と同様の結果が得られた。
実施例 ３
ニツケル以外の金属で銅に関して下記条件にて
同様の実験を行なつた。
同様の実験を行なつた。
浴組成
硫酸銅 200ｇ/
硫 酸 100ｇ/
ダイヤ（６〜12μｍ） １〜10ｇ/
グリセリン 340ml/
条 件
温 度 20〜30℃
電流密度 １〜5A／ｄm2
撹 拌 マグネツトスターラー
結果は実施例１、２と同様であつた。
以上の説明から明らかなように本発明は次のよ
うな顕著な効果を発揮する。
うな顕著な効果を発揮する。
ダイヤモンド等の砥粒の析出量の制御が可能
である。
である。
ダイヤモンド等の砥粒の析出が均一である。
金属イオンとの共析メツキで、密着力が良
い。
い。
種々のタイプの砥石の製作が可能である。
第１図ならびに第２図はグリセリンのダイヤ分
散効果を示すグラフである。
散効果を示すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ グリセリンを添加したニツケルまたは銅の電
解メツキ浴に、硬質な無機質砥粒を均一に分散さ
せ、陰極上の台金に金属と砥粒とを同時に電着し
て製作することを特徴とする電着砥石の製造法。 ２ 砥粒の材質をダイヤモント、アルミナ、炭化
ケイ素、チツ化ケイ素、チツ化ホウ素とすること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の電着
砥石の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56004811A JPS57121469A (en) | 1981-01-13 | 1981-01-13 | Manufacture of electrodeposition grinder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56004811A JPS57121469A (en) | 1981-01-13 | 1981-01-13 | Manufacture of electrodeposition grinder |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57121469A JPS57121469A (en) | 1982-07-28 |
| JPS622946B2 true JPS622946B2 (ja) | 1987-01-22 |
Family
ID=11594124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56004811A Granted JPS57121469A (en) | 1981-01-13 | 1981-01-13 | Manufacture of electrodeposition grinder |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57121469A (ja) |
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| US9676980B2 (en) | 2012-01-10 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles |
| US9676981B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle fractions and method of forming same |
| US9676982B2 (en) | 2012-12-31 | 2017-06-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Particulate materials and methods of forming same |
| US9688893B2 (en) | 2012-05-23 | 2017-06-27 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and methods of forming same |
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| US9771507B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-09-26 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particle including dopant material and method of forming same |
| US9771506B2 (en) | 2012-01-10 | 2017-09-26 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive particles having complex shapes and methods of forming same |
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| US9803119B2 (en) | 2014-04-14 | 2017-10-31 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
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| US9914864B2 (en) | 2014-12-23 | 2018-03-13 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Shaped abrasive particles and method of forming same |
| US9938440B2 (en) | 2015-03-31 | 2018-04-10 | Saint-Gobain Abrasives, Inc./Saint-Gobain Abrasifs | Fixed abrasive articles and methods of forming same |
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| US11091678B2 (en) | 2013-12-31 | 2021-08-17 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Abrasive article including shaped abrasive particles |
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| US11926019B2 (en) | 2019-12-27 | 2024-03-12 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Abrasive articles and methods of forming same |
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| JP6381230B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2018-08-29 | 国立大学法人信州大学 | 銅−ダイヤモンド複合材及びその製造方法 |
| CN105856085B (zh) * | 2016-03-30 | 2018-05-18 | 东北大学 | 用碳化硼制备研磨盘的方法 |
-
1981
- 1981-01-13 JP JP56004811A patent/JPS57121469A/ja active Granted
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