JPS6229596A - レニン及び酸プロテア−ゼを抑制する4置換炭素原子を含有するペプチド アミノ−アルコ−ル誘導体、その取得方法及び治療への使用 - Google Patents
レニン及び酸プロテア−ゼを抑制する4置換炭素原子を含有するペプチド アミノ−アルコ−ル誘導体、その取得方法及び治療への使用Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、レニン及び、特に酸グロテアーゼを抑制す
る新規なペプチドに関する。また、その製造及びその治
療への応用にも関する。 −1970年ウメデつはスト
レプトマイセスの培養からペンタペプチドを単離した。
る新規なペプチドに関する。また、その製造及びその治
療への応用にも関する。 −1970年ウメデつはスト
レプトマイセスの培養からペンタペプチドを単離した。
その後その構造が確立され、次の式に対応する。
インバレリル−L−パリルーL−パリルースタチルーL
−アラニル−スタチン 式中、「スタチン(5tatin ”J Jの名は通常
でないアミノ酸(38,4S)−4−アミノ−3−ヒド
ロキシ−6−メチルへブタン酸を指す。
−アラニル−スタチン 式中、「スタチン(5tatin ”J Jの名は通常
でないアミノ酸(38,4S)−4−アミノ−3−ヒド
ロキシ−6−メチルへブタン酸を指す。
−27″スタチンは酸プロテアーゼを抑制し、特にその
ペプシン、カテグンンD及びレニンに対シて活性である
。特に、レニン、腎臓に由来する酵素は、アンゼオテン
シンダンからアンゼオテンシンへの転換におけるアンギ
オテンシノケ゛ンーアンゼオテンシン■−アンゼオテン
シン■の系列に関与する。
ペプシン、カテグンンD及びレニンに対シて活性である
。特に、レニン、腎臓に由来する酵素は、アンゼオテン
シンダンからアンゼオテンシンへの転換におけるアンギ
オテンシノケ゛ンーアンゼオテンシン■−アンゼオテン
シン■の系列に関与する。
強力な血管収縮剤として、アンゼオテンシン■は動脈圧
を調整する役割を果たす。ヒトの動脈高血圧と闘うため
のペプスタチンの使用の可能性が考慮されてきた。然し
一’!ffスタチンは全ての酸グロテアーゼに作用し、
水性媒体に対する低い溶解性及びレニンに対する低い親
和性を有するため、治療への利用は困難であった。被ブ
スタチン爲導体は科学文献に記載されている。例えばペ
プチド鎖を伸長してベグスタチンを可溶化することが試
みられた( J、Cardiovasc、 Pharm
acol、1980+2+687−698 )。
を調整する役割を果たす。ヒトの動脈高血圧と闘うため
のペプスタチンの使用の可能性が考慮されてきた。然し
一’!ffスタチンは全ての酸グロテアーゼに作用し、
水性媒体に対する低い溶解性及びレニンに対する低い親
和性を有するため、治療への利用は困難であった。被ブ
スタチン爲導体は科学文献に記載されている。例えばペ
プチド鎖を伸長してベグスタチンを可溶化することが試
みられた( J、Cardiovasc、 Pharm
acol、1980+2+687−698 )。
この発明によれば、ペプチド鎖の伸長ではなく一2fス
タチンに類似のペプチドの各種の位置に親水性基を導入
することによって極めて活性な生成物を得ることが可能
であることが分った。これは、先行技術[Merk、米
国特許第4,470,971号〕が親水性基の存在はレ
ニンに対する抑止活性を低下することを教示していたか
ら、極めて驚くべきことである。
タチンに類似のペプチドの各種の位置に親水性基を導入
することによって極めて活性な生成物を得ることが可能
であることが分った。これは、先行技術[Merk、米
国特許第4,470,971号〕が親水性基の存在はレ
ニンに対する抑止活性を低下することを教示していたか
ら、極めて驚くべきことである。
この発明は、レニン及び他の酸グロテアーゼの抑制剤と
して高水準の活性を有するペプチドに関する。
して高水準の活性を有するペプチドに関する。
次の略称をこの明細書及び特許請求の範囲において使用
する。
する。
アミノ酸及び保護及び活性化基
これらの略称は、IUPAC−IUB命名委員会、バイ
オ化学分科会によって示されたものである。最新の報告
(Eur、 J、 Biochem、 +1984+1
38.5−7及び9−37:]がある。
オ化学分科会によって示されたものである。最新の報告
(Eur、 J、 Biochem、 +1984+1
38.5−7及び9−37:]がある。
アミノ酸
Abu :アル7アーアミノらく酸
Ala :アラニン
Agn :アスノ!ラギン
Asp :アスノンルギン酸
Cpg ニジクロペンチルグリシン
Gln :グルタミン
Gl)r :グリ7ン
Hls:ヒスチジン
11eニイソロイシン
Leu :ロイシン
Met:メチオニン
Nle:ノルロイシン
Nva :ノルバリン
Phe :フェニルアラニン
Phg :フェニルグリシン
Ser : セ リ /
Val :バリン
(tauMe)His : (テレ−メチル)ヒスチ・
シン(Pyr −3)Ala : (ビリシン−3−イ
ル)アラニン(ベンズイミダゾール−2−イル) Al
a :これらのアミノ酸はL配置のものである。
シン(Pyr −3)Ala : (ビリシン−3−イ
ル)アラニン(ベンズイミダゾール−2−イル) Al
a :これらのアミノ酸はL配置のものである。
Sta :スタチン:4−アミノー3−ヒドロキシ−6
−メチルへブタン酸 AHPPA : 4−アミノ−3−ヒドロキン−5−フ
ェニルペンタン酸 ACHPA : 4−アミノ−5−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシペンタン酸 特に断わらない限り、S t a 、AHPPA及びA
CHPAは38.48配置である。
−メチルへブタン酸 AHPPA : 4−アミノ−3−ヒドロキン−5−フ
ェニルペンタン酸 ACHPA : 4−アミノ−5−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシペンタン酸 特に断わらない限り、S t a 、AHPPA及びA
CHPAは38.48配置である。
保護基及び活性化基
Acニアセチル
BoC: tart、−プトキシカルホニル(Boa)
20 :ビス(tert−−ブトキシカルボニック)ア
ンハイドライド HONSu : N−ヒドロキシサクシンイミドOEt
:エチルエステル OMe :メチルエステル ONp : p−二トロフェニルエステル0NSu :
N−ヒドロキ7サクシンイミドエステルiVa :イ
ンバレリル 2:ぺ/ノロギシ力ルボニル 次の略称をも用いる。
20 :ビス(tert−−ブトキシカルボニック)ア
ンハイドライド HONSu : N−ヒドロキシサクシンイミドOEt
:エチルエステル OMe :メチルエステル ONp : p−二トロフェニルエステル0NSu :
N−ヒドロキ7サクシンイミドエステルiVa :イ
ンバレリル 2:ぺ/ノロギシ力ルボニル 次の略称をも用いる。
Ac0Et二酢酸エチル
AcOH:酢酸
Bop :ベンジロキシトリス・ゾメチルアミノフォス
フォニクムへキサフルオロフォスフエイトTLC:薄層
クロマトグラフ DCCI :ヅシクロへキシルカル?ヅイミドDCHA
ニジシクロヘキシルアミン DCU :ソシクロヘキシル尿素 DIPEA :ジイソフロビルエチルアミンDMF :
ノメテルフォルムアミド DMSO:ノメチルスル7オキサイド Ether (エーテル〕:エチルエーテルHOBt
: 1−ヒドロキシベンゾトリアゾールMeOH:メタ
ノール NEM : N−エチルモルフォリン NMM : N−メチルモルフォリン RT:室温 TFA : トリフルオロ酢酸 Reduced [還元:)Sta : 4−アミノ−
6−メチルへブタン−1,3〜ジオール 配置を定める不斉炭素原子はC*で示す。
フォニクムへキサフルオロフォスフエイトTLC:薄層
クロマトグラフ DCCI :ヅシクロへキシルカル?ヅイミドDCHA
ニジシクロヘキシルアミン DCU :ソシクロヘキシル尿素 DIPEA :ジイソフロビルエチルアミンDMF :
ノメテルフォルムアミド DMSO:ノメチルスル7オキサイド Ether (エーテル〕:エチルエーテルHOBt
: 1−ヒドロキシベンゾトリアゾールMeOH:メタ
ノール NEM : N−エチルモルフォリン NMM : N−メチルモルフォリン RT:室温 TFA : トリフルオロ酢酸 Reduced [還元:)Sta : 4−アミノ−
6−メチルへブタン−1,3〜ジオール 配置を定める不斉炭素原子はC*で示す。
この発明による化合物は次の一般式に対応する。
82R3CH2h4
及び鉱酸又は有機酸又はアルカリ金属又はアルカリ土類
金属との薬学的受答性塩。
金属との薬学的受答性塩。
−R,は次の基から選んだアシル基を表わす。アルキル
カルボニル、アルコキシカルビニル、了り−ルカルデニ
ル、アリールアルキルカルボニル、アリールアルコキシ
カルボニル、armカルボニル、複素環アルキルカルボ
ニル、ここでアルキル基は場合によシ水酸基で置換され
ている、複素環カル7?ニルアルキルカルがニル、aS
Sアルケニルカルボニル、及ヒシクロアルキル力ルボニ
ルヲ表ワすか、又はアルキルが遊離のアミノ基又は保護
基をもつアミノ基又はフェニル基で置換されているか又
は置換されていない(低級アルキル)スルフォニル基を
表わすか、又はフェニル核が低級アルキルで置換されて
いるか又は置換されていないフェニルスルフォニル基を
表bf。
カルボニル、アルコキシカルビニル、了り−ルカルデニ
ル、アリールアルキルカルボニル、アリールアルコキシ
カルボニル、armカルボニル、複素環アルキルカルボ
ニル、ここでアルキル基は場合によシ水酸基で置換され
ている、複素環カル7?ニルアルキルカルがニル、aS
Sアルケニルカルボニル、及ヒシクロアルキル力ルボニ
ルヲ表ワすか、又はアルキルが遊離のアミノ基又は保護
基をもつアミノ基又はフェニル基で置換されているか又
は置換されていない(低級アルキル)スルフォニル基を
表わすか、又はフェニル核が低級アルキルで置換されて
いるか又は置換されていないフェニルスルフォニル基を
表bf。
−R2はフェニル、ナフチル、シクロヘキシル又はヒI
Jノルで置換されているか又は置換されていない低級ア
ルキル基を表わすか、又はR2はフェニル、ナフチル、
シクロヘキシル、又はピリ・ゾル基を表わす。
Jノルで置換されているか又は置換されていない低級ア
ルキル基を表わすか、又はR2はフェニル、ナフチル、
シクロヘキシル、又はピリ・ゾル基を表わす。
−n3t−1c素、低級アルケニル、フェニル、ナフチ
ル、炭素原子数3−6のシクロアルキル、低級アルキル
又はトリフルオロメチルで置換され又は置換されていな
い5員又は6員単環複素環基、又はその代わりに低級ア
ルキルでありて、遊離アミノ基又は保護基をもつアミノ
基で、ジ(低級アルキル)アミン基で、遊離のカルボキ
シル又は低級アルキル又はベンジルでエステル化された
カルボキシルで、遊離のカルバモイル又は1又は2の低
級アルキル又はフェニルで置換されたカルバモイルで、
ヒドロキシル、低級アルコキシ又はベンジロキシ基で、
ビリージルメトキシ基で、(低級アルキル)チオ、(低
級アルキル)スルフィニル又ハ(低級アルキル)スルフ
ォニル基で、水酸基で置換され又は置換されていないフ
ェニル基で、ナフチルで、炭素原子3−6のシクロアル
キルで、低級アルキル又はトリフルオロメチルで置換さ
れ又は置換されていない5員又は6員の単環複素環基で
、低級アルキル又はトリフルオロメチルで置換され又F
i置換されていナイ2環複素環基で置換され又は置換さ
れていない低級アルキル基を表わす。
ル、炭素原子数3−6のシクロアルキル、低級アルキル
又はトリフルオロメチルで置換され又は置換されていな
い5員又は6員単環複素環基、又はその代わりに低級ア
ルキルでありて、遊離アミノ基又は保護基をもつアミノ
基で、ジ(低級アルキル)アミン基で、遊離のカルボキ
シル又は低級アルキル又はベンジルでエステル化された
カルボキシルで、遊離のカルバモイル又は1又は2の低
級アルキル又はフェニルで置換されたカルバモイルで、
ヒドロキシル、低級アルコキシ又はベンジロキシ基で、
ビリージルメトキシ基で、(低級アルキル)チオ、(低
級アルキル)スルフィニル又ハ(低級アルキル)スルフ
ォニル基で、水酸基で置換され又は置換されていないフ
ェニル基で、ナフチルで、炭素原子3−6のシクロアル
キルで、低級アルキル又はトリフルオロメチルで置換さ
れ又は置換されていない5員又は6員の単環複素環基で
、低級アルキル又はトリフルオロメチルで置換され又F
i置換されていナイ2環複素環基で置換され又は置換さ
れていない低級アルキル基を表わす。
−Qはイソプロピル、フェニル、又はシクロヘキシルを
表わし、それぞれ次の基とアミノ酸Sta 。
表わし、それぞれ次の基とアミノ酸Sta 。
AHPPA又はACHPAの残基を形成する。
−洲−CH−CHoH−CH2−CO−愈
H2
−xiii接結合又はAla 、 Nva 、 Vat
、 Leu 、 Nle 。
、 Leu 、 Nle 。
11e 、 Phg + Abu I又はCpgのよう
なアミノ酸残基である。
なアミノ酸残基である。
−R4は水素、又はインドリル、ピリジル、イミダオゾ
リル又はフェニル基で置換され又は置換されていない低
級アルキル基を表わす。
リル又はフェニル基で置換され又は置換されていない低
級アルキル基を表わす。
−R5はフェニル、ヒドロキシフェニル又はアミン基で
置換され又は置換されていない炭素原子数3−20の脂
肪族又は環状炭化水素基を表わし、該炭化水素基は少な
くとも1の水酸基及びC−H結合を有しない少なくとも
1の炭素原子を同時に含む。
置換され又は置換されていない炭素原子数3−20の脂
肪族又は環状炭化水素基を表わし、該炭化水素基は少な
くとも1の水酸基及びC−H結合を有しない少なくとも
1の炭素原子を同時に含む。
この発明による好ましい生産物はR5が次のものを表わ
す式(1)を有する。
す式(1)を有する。
a)基
HR60H
式中、
−pはO及び5の間の整数を表わし、
−qはO及び5の間の整数を表わし、
−R6は水素又は低級アルキル、かつ、−R,は水素、
水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ピリジル基又はフ
ェニル基で水酸基で置換されているか置換されていない
ものを表わすが、q=Qである場合、R7が水素とは異
なることを条件とする。あるいは、 b)基 −(CH2)、−〒−CH20H R? 式中、 −pは上記の通りであり、 −R8は低級アルキルを表わし、 −R,は遊離のアミノ基又は保護基をもつアミン基で置
換され又は置換されていない低級アルキルを表わすか、
又は − R8及びR,は介入する炭素と共に炭素原子数3−
8のシクロアルキルを形成する。
水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ピリジル基又はフ
ェニル基で水酸基で置換されているか置換されていない
ものを表わすが、q=Qである場合、R7が水素とは異
なることを条件とする。あるいは、 b)基 −(CH2)、−〒−CH20H R? 式中、 −pは上記の通りであり、 −R8は低級アルキルを表わし、 −R,は遊離のアミノ基又は保護基をもつアミン基で置
換され又は置換されていない低級アルキルを表わすか、
又は − R8及びR,は介入する炭素と共に炭素原子数3−
8のシクロアルキルを形成する。
この発明の化合物は好ましくは基R,に1−3の水酸基
を含む。
を含む。
上記式(−I)の特に好ましい生産物はR5が次の基か
ら選ばれた基であるものである。
ら選ばれた基であるものである。
この明細書において、〔アルキル〕の語は、炭素原子を
1−10含む飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を表わし
、好ましいアルキル基は次に定義する低級アルキルであ
る。
1−10含む飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を表わし
、好ましいアルキル基は次に定義する低級アルキルであ
る。
「低級アルキル」及び「低級アルケニル」の表現は炭素
原子6までを含む飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を指
す。
原子6までを含む飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を指
す。
「低級アルコキシ」及び「(低級アルキル)チオ」の表
現は上に定義した低級アルキル基で置換されたヒドロキ
シル及びチオ基を表わす。
現は上に定義した低級アルキル基で置換されたヒドロキ
シル及びチオ基を表わす。
「5員又は6員の単環複素環」の表現はピロリジン、イ
ミダゾール、チアゾール、チオフェン、フラン、ビロー
ル、トリアゾール、オキサゾール、インオキサゾール、
ピリジン、及びチアジアゾールを含む。
ミダゾール、チアゾール、チオフェン、フラン、ビロー
ル、トリアゾール、オキサゾール、インオキサゾール、
ピリジン、及びチアジアゾールを含む。
「2環複素環」の表現はベンズイミダゾール、ベンゾチ
アゾール、ベンゾオキサゾール、インドール、又はその
水素化同族体を含む。
アゾール、ベンゾオキサゾール、インドール、又はその
水素化同族体を含む。
「保護基」の表現は例えばBoa,Z又はiVaのよう
なペプチド化学で通常用いられる保護基を意味するもの
として理解される。
なペプチド化学で通常用いられる保護基を意味するもの
として理解される。
R,の定義に用いl’アシル基Jの表現は脂肪族、脂環
族、芳香族又は複素環カルボン酸の残基な含む。
族、芳香族又は複素環カルボン酸の残基な含む。
好ましいアシル基はエステル化カルボン酸の残基、特に
基Boc及び、2、炭素原子数2−6のアルカン酸の残
基、特に基IVa、シクロへキシルカルデン酸の残基、
フェニル脂肪酸の残基、特にフェニルアセチル、3−フ
ェニルグロピオニル及ヒジペンノルアセテル基、アリー
ルカルボン酸の残基,例えばフェニル核、特にベンゾイ
ル基が置換され又は置換されていないナフトエ酸、ビフ
ェニルカルデン酸及び安息香酸の残基、カルボキシルが
5員又は6員単環複素環、特にビコリノイル、ニコチノ
イル、及びインニコチノイル基に結合したカルボン酸の
残基、及び酢酸、プロピオン酸、らく酸、吉草酸、及び
オメガ位置が上に例示した5員又は6員単環複索環で置
換されたオメガ−ヒドロキシ又はオメガーオギソ誘導体
のようなアルカン酸又はアルケン酸の残基である。
基Boc及び、2、炭素原子数2−6のアルカン酸の残
基、特に基IVa、シクロへキシルカルデン酸の残基、
フェニル脂肪酸の残基、特にフェニルアセチル、3−フ
ェニルグロピオニル及ヒジペンノルアセテル基、アリー
ルカルボン酸の残基,例えばフェニル核、特にベンゾイ
ル基が置換され又は置換されていないナフトエ酸、ビフ
ェニルカルデン酸及び安息香酸の残基、カルボキシルが
5員又は6員単環複素環、特にビコリノイル、ニコチノ
イル、及びインニコチノイル基に結合したカルボン酸の
残基、及び酢酸、プロピオン酸、らく酸、吉草酸、及び
オメガ位置が上に例示した5員又は6員単環複索環で置
換されたオメガ−ヒドロキシ又はオメガーオギソ誘導体
のようなアルカン酸又はアルケン酸の残基である。
特に、この発明は,式Iのペプチドアミノアルコールで
あってR2, R3, Q 、 R4及びR5が上に定
義したものであり、R,が次の基の−であるものに関す
る。
あってR2, R3, Q 、 R4及びR5が上に定
義したものであり、R,が次の基の−であるものに関す
る。
(CH5)、 c−o−c−
0 3、4.5入はb
OHO
及びn=1.2,3,4又は5
式中E =−H又は−CH,及びs=l*i3又は4
C6H,、−C−
NH2CH2CH2−8O□−
BocNHCH2CH2”5O2−
ZNHCH20H2−50□−
A−8O−、式中人は低級アルキル
C6Hs−(CH2)lL−so□−、式中’ =Or
1又は2特に、好ましいものは式Iのペプチドアミノ
アルコールであってR2e R3v Q * R4及び
R5が上に定義したものであり、R1が次の基から選ん
だものである。
1又は2特に、好ましいものは式Iのペプチドアミノ
アルコールであってR2e R3v Q * R4及び
R5が上に定義したものであり、R1が次の基から選ん
だものである。
一イソバレリル。
−4−(ピリノン−2−イル)−4−オキソブチリル、
−4−(ピリノン−2−イル)−4−ヒドロキシブチリ
ル、 −3−(ピリジン−3−イル)fロビオニル、−4−(
ビリノン−3−イル)ブチリル、−二コチノイル、及び 一ベンゾスルフォニル。
ル、 −3−(ピリジン−3−イル)fロビオニル、−4−(
ビリノン−3−イル)ブチリル、−二コチノイル、及び 一ベンゾスルフォニル。
特に好ましいものには、R4* R2+ R4r R5
及びQが上に定義したものであす、R,は残基−NH−
CH(R3)−CO−が残基(tauMa )Hl s
を表わすものである式(1)の化合物がある。
及びQが上に定義したものであす、R,は残基−NH−
CH(R3)−CO−が残基(tauMa )Hl s
を表わすものである式(1)の化合物がある。
この発明の好ましい化合物の他のものには式(1)の化
合物であって次のものがある0−R1は次の基から選ば
れた基を表わす:イソバレリルs tart、−ブト
キシカルブニル、3−(ピリジン−3−イル)プロピオ
ニル、4−(ピリジン−3−イル)ブチリル及ヒニコチ
ニル、−R2はペンノルを表わす、 −R,は、イミダゾール−4−イル、1−メチルイミダ
ゾール−4−イル、2−メチルイミダゾール−4−イル
、ピリジン−3−イル、及ヒペンズイミダゾールー2.
−イルから選ばれた複素環基で置換されたメチル又はn
−ブチルを表わし、−R4は水素であり、 −Xはアミノ酸IIs及びAlaの−の残基全表わし、
かつ、 −Q及びR5は上に定義したものである。
合物であって次のものがある0−R1は次の基から選ば
れた基を表わす:イソバレリルs tart、−ブト
キシカルブニル、3−(ピリジン−3−イル)プロピオ
ニル、4−(ピリジン−3−イル)ブチリル及ヒニコチ
ニル、−R2はペンノルを表わす、 −R,は、イミダゾール−4−イル、1−メチルイミダ
ゾール−4−イル、2−メチルイミダゾール−4−イル
、ピリジン−3−イル、及ヒペンズイミダゾールー2.
−イルから選ばれた複素環基で置換されたメチル又はn
−ブチルを表わし、−R4は水素であり、 −Xはアミノ酸IIs及びAlaの−の残基全表わし、
かつ、 −Q及びR5は上に定義したものである。
この発明の生成物はペプチド化学で通常用いられる方法
によって製造できる。従って他の面では、この発明は、
上の式Iのペゾチドアミノーアルコール誘導体の製造方
法に関する。この方法では式%式% 〔式中Wは保護基又は水素であり、R4及゛びR5は上
に定義した通りであり、水酸基は場合により保護されて
いる〕のアミノアルコールを、式%式% 〔式中、X′&iXについての定義を有するがX′は直
接結合以外のものであり、Qは上に定義した通りである
〕のアミノ酸の低級アルキルエステルで処理し、−にグ
チド鎖を次いで段階的に次の適当に保護されたアミノ酸
又はフラグメントでカップリングして延長し、各操作は
カップリングされるアミノ酸の活性化エステル又はフラ
グメントを用いるか、又はDCCIの存在下N−保護ア
ミノ酸を用いて行ない、かつ、このN−保護基は各カッ
シリングの後に水素化分解又は強酸媒体中で加水分解i
/(よって開裂し、適当な場合には、生成アミノアルコ
ールの水酸基を酸加水分解で脱保護し、必要な場合には
、この工うこ得られた生成物をその薬学的受容性塩の−
に変換する。
によって製造できる。従って他の面では、この発明は、
上の式Iのペゾチドアミノーアルコール誘導体の製造方
法に関する。この方法では式%式% 〔式中Wは保護基又は水素であり、R4及゛びR5は上
に定義した通りであり、水酸基は場合により保護されて
いる〕のアミノアルコールを、式%式% 〔式中、X′&iXについての定義を有するがX′は直
接結合以外のものであり、Qは上に定義した通りである
〕のアミノ酸の低級アルキルエステルで処理し、−にグ
チド鎖を次いで段階的に次の適当に保護されたアミノ酸
又はフラグメントでカップリングして延長し、各操作は
カップリングされるアミノ酸の活性化エステル又はフラ
グメントを用いるか、又はDCCIの存在下N−保護ア
ミノ酸を用いて行ない、かつ、このN−保護基は各カッ
シリングの後に水素化分解又は強酸媒体中で加水分解i
/(よって開裂し、適当な場合には、生成アミノアルコ
ールの水酸基を酸加水分解で脱保護し、必要な場合には
、この工うこ得られた生成物をその薬学的受容性塩の−
に変換する。
この連鎖に導入されるアミノ酸が側鎖に反応性基を有す
る場合、該基は適当な保護基で封鎚し、その後除去する
。
る場合、該基は適当な保護基で封鎚し、その後除去する
。
基R4によるN−末端アミノ酸の保護は、基R1NH−
CH−CO− が次のアミノ酸でカップリングされる前かあるいはカッ
プリングの後に、既知の方法で行われる。
CH−CO− が次のアミノ酸でカップリングされる前かあるいはカッ
プリングの後に、既知の方法で行われる。
化合物(I)が、対応する残基が天然のものでないアミ
ノ酸であるよりなR5を有する場合にはこの天然のもの
でないアミノ酸は既知の方法で製造する。次いで通常の
方法で次のアミノ酸とカップリングする。
ノ酸であるよりなR5を有する場合にはこの天然のもの
でないアミノ酸は既知の方法で製造する。次いで通常の
方法で次のアミノ酸とカップリングする。
アミノアルコール部分は適当に選んだアミノアルコール
を所望のアミノ酸でカップリングして製造する。選んだ
アミノアルコールが市場で入手できない場合、対応アミ
ノ酸エステルの還元で製造できる。
を所望のアミノ酸でカップリングして製造する。選んだ
アミノアルコールが市場で入手できない場合、対応アミ
ノ酸エステルの還元で製造できる。
この発明の化合物は、ペグスタチンのように、蒙プロテ
アーゼに対し著しい抑制作用を有する。
アーゼに対し著しい抑制作用を有する。
特にヒトプラスマレニン活性に対し極めて強い抑制作用
を有し、一般には天然物:ペプスタチンのものよりがな
り大きい。
を有し、一般には天然物:ペプスタチンのものよりがな
り大きい。
この発明による生成物はその治療特性及び特にその酵素
に対する抑止作用を検討した。特に化合物はヒトグラス
マレニン活性[PRA:]に関し「管内」で評価した。
に対する抑止作用を検討した。特に化合物はヒトグラス
マレニン活性[PRA:]に関し「管内」で評価した。
1 評価方法
評価方法はゲニン(GUYENE 、 J 、 CC1
1n。
1n。
Endocrinol、Metab、+ 1976+
43+ 13(31:]のものに基づ<、PRAの抑止
は、pi(7,4のフォスフエイトバッファ中、増加す
る濃度の検討する生成物の存在下、37℃で60分間培
養したレニンに富むヒトプラスマプール〔ミリリットル
当り時間当り解放される15−20〜のアンギオデンシ
ン1〕から評価した。
43+ 13(31:]のものに基づ<、PRAの抑止
は、pi(7,4のフォスフエイトバッファ中、増加す
る濃度の検討する生成物の存在下、37℃で60分間培
養したレニンに富むヒトプラスマプール〔ミリリットル
当り時間当り解放される15−20〜のアンギオデンシ
ン1〕から評価した。
ヒトプラスマは基質及び酵素:レニンを含む。
反応中で解放されたアンギオテンシンIは放射免疫測定
で測定したC Plasrna Ren1n Acti
vity Kitfrom Travsnol : n
o8. CA 533,553 ) o変換酵素(D抑
止剤、フェニルメチルスルフォニル7/l/オライド(
PMSF )は媒養媒本に添加した。全培養容積は55
5マイクロリツトルで次のようにつくった。
で測定したC Plasrna Ren1n Acti
vity Kitfrom Travsnol : n
o8. CA 533,553 ) o変換酵素(D抑
止剤、フェニルメチルスルフォニル7/l/オライド(
PMSF )は媒養媒本に添加した。全培養容積は55
5マイクロリツトルで次のようにつくった。
−420マイクロリツトルのヒトプラスマー11−50
マイクロリツトルの変化させた濃度における検討する生
成物、 −119−80マイクロリツトルのフォスフエイトバッ
ファ。
マイクロリツトルの変化させた濃度における検討する生
成物、 −119−80マイクロリツトルのフォスフエイトバッ
ファ。
一5マイクロリットルのPMSF。
酢駿のINメタノール溶液[19/l容積〕及び水酸化
ナトリウムのINメタノール溶液〔坏容積〕を調製した
。この2溶液の等容量の混合物中で、検討する生成物の
0.001Mストック溶液ヲ調製した。次いでフォスフ
エイトバッファ中で次の希釈を行なった。溶液中に存在
する溶媒の量は結果に影響しない。
ナトリウムのINメタノール溶液〔坏容積〕を調製した
。この2溶液の等容量の混合物中で、検討する生成物の
0.001Mストック溶液ヲ調製した。次いでフォスフ
エイトバッファ中で次の希釈を行なった。溶液中に存在
する溶媒の量は結果に影響しない。
■ 結果
結果は、抑止剤の不在下に観察されるヒトプラスマレニ
ン活性(PRA)の50係抑止(IC5o:)を生じる
、モルで計画した化合物の量で表わす。
ン活性(PRA)の50係抑止(IC5o:)を生じる
、モルで計画した化合物の量で表わす。
この発明の各種の生成物について得られた結果は次の表
1に示す。pH7,4におけるヒトプラスマレニン活性
の抑止に関し各分子の工C5o値を示している。この工
C5o値を定めるために5−10P−ズが必要である。
1に示す。pH7,4におけるヒトプラスマレニン活性
の抑止に関し各分子の工C5o値を示している。この工
C5o値を定めるために5−10P−ズが必要である。
参照物質として用いたペプスタチンは各実験において常
に平行して試験する。結果はその対数値(log IC
50〕で表わす。
に平行して試験する。結果はその対数値(log IC
50〕で表わす。
我 1
a)は、生成物濃度が10””モルである場合、ヒトP
RAの抑止が約90%であることを意味する。
RAの抑止が約90%であることを意味する。
b)は、PRAをパプーンプラスマで測定したことを意
味する。
味する。
この発明による生成物の特に高い抑止活性がこの表から
理解できる。
理解できる。
この発明による生成物の毒性は治療に用いることができ
るものである。
るものである。
従って、この発明による生成物をレニンーアンギオテン
シン酵素系の抑止が正当化される場合、特に動脈高血圧
、胃十二指腸かいよう、及び炎症性痛みの場合に、治療
の分野にこの発明による生成物を用いることを考慮する
ことが可能である。
シン酵素系の抑止が正当化される場合、特に動脈高血圧
、胃十二指腸かいよう、及び炎症性痛みの場合に、治療
の分野にこの発明による生成物を用いることを考慮する
ことが可能である。
また、池の面では、この発明は、式(1)のペプチド又
はその薬学的受容性塩が活性成分として存在する抗高血
圧薬に関する。
はその薬学的受容性塩が活性成分として存在する抗高血
圧薬に関する。
この発明のペプチドアミノアルコールは治療にあたって
静脈内、筋肉内、皮下注射で投与できる。
静脈内、筋肉内、皮下注射で投与できる。
これらは、生理血清〔等浸透圧食塩溶液〕のような溶媒
中で又はフォスフエイトバッファのようなバッファ中で
用いることができる。また、薬学的受容性の水性又は非
水性希釈剤中に懸濁しても用いることができる。各投与
単位は活性成分を1−1−1(100含むことができる
。
中で又はフォスフエイトバッファのようなバッファ中で
用いることができる。また、薬学的受容性の水性又は非
水性希釈剤中に懸濁しても用いることができる。各投与
単位は活性成分を1−1−1(100含むことができる
。
次に、制限的にではなく、この発明を説明するために例
をあげる。
をあげる。
有機溶媒溶液の声は湿潤−指示紙を用いて測定し点検し
た。
た。
指示した融点(m、p、]は粉粉砕体からとった。
これは細管法で測定した。
比回転(〔α〕D)は25℃で測定した。
赤外[IR”]スペクトルを行々うため、生成物をCH
2Ct2に溶解又はKBrと混合しディスクを形成した
。
2Ct2に溶解又はKBrと混合しディスクを形成した
。
最後に、核磁気共鳴〔曳〕スペクトルを、ヘキサメチル
ジシロキサンを内部標準としDMSO溶液中で250
M)izにおいて行なった。
ジシロキサンを内部標準としDMSO溶液中で250
M)izにおいて行なった。
次の略称を用いる。
1ニ一重項
d:二重項
m:多重項又は未解析信号
更に、
・Marは芳香族Hを指し、
・Htmはイミダゾールの1(を指し、・Hpyrはピ
リジンのHを指し、 ・H(reduced 5ta)は3R14S又は3S
、4s配置の4−アミノ−6−メチルへブタン−1,3
−ノオールのHを指す。
リジンのHを指し、 ・H(reduced 5ta)は3R14S又は3S
、4s配置の4−アミノ−6−メチルへブタン−1,3
−ノオールのHを指す。
・approxは大略を意味する。
化学シフト〔デルタ〕はppmで測定した。
例I
H20H
Boa−Pha−Nla−8ta−I 1e−NH−C
−CH。
−CH。
H20H
8R43574
1、) Boa −Nle−8ta−OCH3Boa
−Nle−ONSu(: 900 W )、HOBt〔
4211119〕及びTFA−8ta−OCH3C0,
g当量〕の溶液の…を約7にするに充分のNMMを含む
溶液を、CF2Cl2及びジオキサン[161E/)の
等容量の混合物中で反応させる。18時間後、混合物を
蒸発乾固させ、水を加え、エーテνで抽出を行ない、有
機相をKHSO3の溶液、水、NaHCOsの溶液及び
次いで食塩溶液で順次洗浄する。乾燥1: MgSO4
:]及び蒸発後、油を単離しシリカダル上でクロマトグ
ラフで精製する〔溶出剤:ペンタン/酢酸エチル、1/
1容積〕。
−Nle−ONSu(: 900 W )、HOBt〔
4211119〕及びTFA−8ta−OCH3C0,
g当量〕の溶液の…を約7にするに充分のNMMを含む
溶液を、CF2Cl2及びジオキサン[161E/)の
等容量の混合物中で反応させる。18時間後、混合物を
蒸発乾固させ、水を加え、エーテνで抽出を行ない、有
機相をKHSO3の溶液、水、NaHCOsの溶液及び
次いで食塩溶液で順次洗浄する。乾燥1: MgSO4
:]及び蒸発後、油を単離しシリカダル上でクロマトグ
ラフで精製する〔溶出剤:ペンタン/酢酸エチル、1/
1容積〕。
収率85チ
CH2C42/エーテル混合物中で粉砕後m、p。=7
9−81 ℃。
9−81 ℃。
〔αID = −53,I Cc = l ; MeO
H,12、) Boe−Ph@−Nls−8ta−O
CH5ペプチドBoa−Nl@−8ta−OCH3(8
00Tn9)をTFA C8m E中0℃で10分間処
理し過剰の溶媒を次いでRTで減圧下プッチロタペー/
41 (BuchiRotavapor )中で蒸発さ
せる。Boa−Pha−ONp(924!I#9)、H
OBt(:384W19:l及び冷温〔400■〕のC
F2Cl2〔15ゴ〕中で調製した溶液を0℃でこのよ
うに得られた該塩に加え、反応媒体の−を更に隅侃を加
えて約7にする。約24時間後、混合物を蒸発乾固し、
水を加え、Ac0Etで抽出を行ない、有機相をKH8
04溶液、数回のNa2CO3溶液及び水性塩溶液で洗
浄し、次いで乾燥(MgSO4’:1する。溶媒の蒸発
及びシリカダル上で濃過〔溶出剤:ペンタン/酢酸エチ
ル、4/6容量〕後、期待の化合物を白色粉末の形態で
単離する。収率69チ・ CH2C22/ヘキサン混合物からの再結晶後、m、p
。
H,12、) Boe−Ph@−Nls−8ta−O
CH5ペプチドBoa−Nl@−8ta−OCH3(8
00Tn9)をTFA C8m E中0℃で10分間処
理し過剰の溶媒を次いでRTで減圧下プッチロタペー/
41 (BuchiRotavapor )中で蒸発さ
せる。Boa−Pha−ONp(924!I#9)、H
OBt(:384W19:l及び冷温〔400■〕のC
F2Cl2〔15ゴ〕中で調製した溶液を0℃でこのよ
うに得られた該塩に加え、反応媒体の−を更に隅侃を加
えて約7にする。約24時間後、混合物を蒸発乾固し、
水を加え、Ac0Etで抽出を行ない、有機相をKH8
04溶液、数回のNa2CO3溶液及び水性塩溶液で洗
浄し、次いで乾燥(MgSO4’:1する。溶媒の蒸発
及びシリカダル上で濃過〔溶出剤:ペンタン/酢酸エチ
ル、4/6容量〕後、期待の化合物を白色粉末の形態で
単離する。収率69チ・ CH2C22/ヘキサン混合物からの再結晶後、m、p
。
=126−129 ℃。
〔α)o = 37.2 (c = l ;MeOH
)3、) Boa−Pbe−Nls−8ta−OH前
の固1[: 750■]をRTで水酸化ナトリウム〔1
,3当量〕により水〔5d〕及びソオキサン〔10TL
t〕の混合物中3時間加水分解した。混合物をブッチロ
タベーノJ?中でRTで蒸発乾固し、次いで水を加え、
混合物をKH8O4溶液で酸性化し、3容量のAc O
ETで抽出し、抽出物を水性塩溶液で洗浄し乾燥[Mg
SO4]する。溶媒の蒸発後、固体を単離〔収率95%
〕し、そのまま次の反応に用いた。NMRは3.50
ppmのピークがすべて消賦したことを示す・ 〔αID =37. OCe =1 ; MgOH]4
、) 2− (Boc−イソロイシルアミノ)−2−
メチルプロパン−1,3−ジオール H20H Boc−11@−NH−C−CH。
)3、) Boa−Pbe−Nls−8ta−OH前
の固1[: 750■]をRTで水酸化ナトリウム〔1
,3当量〕により水〔5d〕及びソオキサン〔10TL
t〕の混合物中3時間加水分解した。混合物をブッチロ
タベーノJ?中でRTで蒸発乾固し、次いで水を加え、
混合物をKH8O4溶液で酸性化し、3容量のAc O
ETで抽出し、抽出物を水性塩溶液で洗浄し乾燥[Mg
SO4]する。溶媒の蒸発後、固体を単離〔収率95%
〕し、そのまま次の反応に用いた。NMRは3.50
ppmのピークがすべて消賦したことを示す・ 〔αID =37. OCe =1 ; MgOH]4
、) 2− (Boc−イソロイシルアミノ)−2−
メチルプロパン−1,3−ジオール H20H Boc−11@−NH−C−CH。
■
H20H
320■の2−アミノ−2−メチルプロパン−L3−ジ
オールをDMF及びCH2C/1.2の等容量混合物2
0cm3に溶解し、1gのBoc−I l5()NSu
を加え、攪拌しなからRTで18時間反応を進行させる
。更に320■の2−アミノ−2−メチルプロパン−1
,3−ジオールを加え、攪拌しなからRTで72時間反
応を進行させる。混合物を蒸発乾固し、粗反応生成物全
シリカ上でクロマトグラフし、クロロフォルム/ Ac
0Et混合物、1/9容量、で溶出し期待の生成物61
71F!9を得る。
オールをDMF及びCH2C/1.2の等容量混合物2
0cm3に溶解し、1gのBoc−I l5()NSu
を加え、攪拌しなからRTで18時間反応を進行させる
。更に320■の2−アミノ−2−メチルプロパン−1
,3−ジオールを加え、攪拌しなからRTで72時間反
応を進行させる。混合物を蒸発乾固し、粗反応生成物全
シリカ上でクロマトグラフし、クロロフォルム/ Ac
0Et混合物、1/9容量、で溶出し期待の生成物61
71F!9を得る。
cn、p、=123−126℃。
5、)SR43574
上で得之化合物1251n9を0℃でTFA中15分間
処理する。過剰の溶媒を蒸発後、該塩をエーテルで洗浄
し、この塩の最小量のアセトニトリル中溶液を200I
n9のにプチドBoC−Phi−Nle−8ta−OH
の1OrILlアセトニトリル中溶液に加え、pHk必
要量のNMMヲ加えて約7−8 K保つ・173■のB
Opを次いで加え反応を24時時間桁させる。溶媒の蒸
発後、粗反応生成物を水でとり、Ac0Etで抽出する
。抽出物をNaHCOs 溶液、KH$04済液及び塩
溶液で洗浄し乾燥し、次いで溶媒を蒸発させる。
処理する。過剰の溶媒を蒸発後、該塩をエーテルで洗浄
し、この塩の最小量のアセトニトリル中溶液を200I
n9のにプチドBoC−Phi−Nle−8ta−OH
の1OrILlアセトニトリル中溶液に加え、pHk必
要量のNMMヲ加えて約7−8 K保つ・173■のB
Opを次いで加え反応を24時時間桁させる。溶媒の蒸
発後、粗反応生成物を水でとり、Ac0Etで抽出する
。抽出物をNaHCOs 溶液、KH$04済液及び塩
溶液で洗浄し乾燥し、次いで溶媒を蒸発させる。
乾燥及び溶媒の蒸発後、生成物はAc0Et /ヘキサ
ン混合物から結晶させ、次いでシリカ上でクロマトグラ
フし、C1(zct2/イソプロピルエーテル混合物か
ら再結晶させる。
ン混合物から結晶させ、次いでシリカ上でクロマトグラ
フし、C1(zct2/イソプロピルエーテル混合物か
ら再結晶させる。
重量=171ダ
m、p、=107−110℃。
例2
CH3OK
Boc−Phs−Nls−AHPPA−I 1 e−N
H−C−CH20HCH20H 8R43576 1、) Boa−Nls−AHPPA−OCH。
H−C−CH20HCH20H 8R43576 1、) Boa−Nls−AHPPA−OCH。
Boa−AHPPA−OCH5C3,Og]を通常の方
法でTFA (20ゴ〕中に溶解し、得られた塩をCH
2C22に溶解し、次いでぬ傷で0℃で中和する。Bo
e−Nls−ONSu (3,31! ]及びuoBt
[1,611]を続いて反応媒体に加え、RTで18時
間攪拌する。溶液の一一更にNMMを加えて約7−8に
保つ。通常の処理後、残留物をシリカダル上でクロマト
グラフ〔溶出剤:CH2Cl2/Ac0Et、1/1容
量〕する。ペプチドは冷時プツチロタペーパ中で溶媒の
蒸発により結晶する〔収率80%〕。
法でTFA (20ゴ〕中に溶解し、得られた塩をCH
2C22に溶解し、次いでぬ傷で0℃で中和する。Bo
e−Nls−ONSu (3,31! ]及びuoBt
[1,611]を続いて反応媒体に加え、RTで18時
間攪拌する。溶液の一一更にNMMを加えて約7−8に
保つ。通常の処理後、残留物をシリカダル上でクロマト
グラフ〔溶出剤:CH2Cl2/Ac0Et、1/1容
量〕する。ペプチドは冷時プツチロタペーパ中で溶媒の
蒸発により結晶する〔収率80%〕。
M、P、= 89−90℃
IR[CH2Cl2:l:3420−1715−167
5m−’〔α)、=−61,5(C=l :MeOH)
2、) Boa−Pha−Nla−AHPPA−OC
H。
5m−’〔α)、=−61,5(C=l :MeOH)
2、) Boa−Pha−Nla−AHPPA−OC
H。
前の化合物(3,5g) fTFA (30ゴ〕中0℃
で溶解する。通常の方法で過剰の反応体を蒸発させて得
られた塩をCH2Cl2中に溶解し、冷侃で0℃で中和
し1次いで0℃で前に調製したl3oc−PHe−ON
p (3,39)、Hont[:1.33 g]及び冷
毘〔808■〕のCH2Cl□溶液に加える。混合物を
RTで18時間攪拌し、有機相を次いで水、Nl12C
03溶液、KH8O4溶液及び水で洗浄し、その後乾燥
(: MgSO4:)する、溶媒の蒸発−により、固体
が単離しエーテル中で粉砕した後漏別する。TLC中で
均質である二双率75%。
で溶解する。通常の方法で過剰の反応体を蒸発させて得
られた塩をCH2Cl2中に溶解し、冷侃で0℃で中和
し1次いで0℃で前に調製したl3oc−PHe−ON
p (3,39)、Hont[:1.33 g]及び冷
毘〔808■〕のCH2Cl□溶液に加える。混合物を
RTで18時間攪拌し、有機相を次いで水、Nl12C
03溶液、KH8O4溶液及び水で洗浄し、その後乾燥
(: MgSO4:)する、溶媒の蒸発−により、固体
が単離しエーテル中で粉砕した後漏別する。TLC中で
均質である二双率75%。
M、P、182−183℃
〔α]、 = −50,7(c = 1 ;MeOH)
3、) Boc−Phe−Nle−AHPPA−OH
前の工程VC記載したエステル〔21〕のジオヤサン〔
10θvLl〕溶液をRTで4時間水酸化ナトリウム〔
178■〕の水[lomA′3溶液で加水分解する。例
1工程3に従った後処理で酸を得、イソプロピルエーテ
ル中で粉砕し、1別し減圧乾燥する〔収率95%〕。
3、) Boc−Phe−Nle−AHPPA−OH
前の工程VC記載したエステル〔21〕のジオヤサン〔
10θvLl〕溶液をRTで4時間水酸化ナトリウム〔
178■〕の水[lomA′3溶液で加水分解する。例
1工程3に従った後処理で酸を得、イソプロピルエーテ
ル中で粉砕し、1別し減圧乾燥する〔収率95%〕。
M、P、 = 161−162℃
4、) 2− (Boc−インロイシルアミノ)−2
−ヒドロキシメチルプロ/ぐノー1,3−ジオールH2
0H ■ Boc−I 1e−NH−C−CH20HCH20H トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンC1,321
7〕の4 o m1tv DMF 中tiltlHtB
oc−11e −0NSuのDMF溶液[10rrl
]に加える。18時間攪拌後、混合物を減圧で濃縮し、
濃縮物を水でとり、抽出をAc0Etで行ない、抽出物
を乾燥し濃縮する。濃縮物をAc0Et /M@OH混
合物、9/1容量、で溶出しなからシリカ上でクロマト
グラフする。期待の生成物を回収する。
−ヒドロキシメチルプロ/ぐノー1,3−ジオールH2
0H ■ Boc−I 1e−NH−C−CH20HCH20H トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンC1,321
7〕の4 o m1tv DMF 中tiltlHtB
oc−11e −0NSuのDMF溶液[10rrl
]に加える。18時間攪拌後、混合物を減圧で濃縮し、
濃縮物を水でとり、抽出をAc0Etで行ない、抽出物
を乾燥し濃縮する。濃縮物をAc0Et /M@OH混
合物、9/1容量、で溶出しなからシリカ上でクロマト
グラフする。期待の生成物を回収する。
CH2Ct2/イソグロビルエーテル混合物から結晶さ
せる。
せる。
重量=274!n9
m、p、=122−124℃
〔α:lD = −24,0(c −0,41: Me
OH)5、) SR4357,6 上で得られた化合物2181n9がらTFAで通常のや
り方でBoc基を除く、得られる固体をcH−2ct2
でとり、4dのDMFを加え、溶液を冷時充分−の量の
DIPEA t−加えて中和し、(プチドBoe−Ph
@−Nle−AHPPA−0)I (369w )及び
Bop C287”+9]を次いで加え、混合物をR’
rで18時間攪拌し、PHを約7に保つ。混合物を減圧
で〔圧カニ 5 mHg、]で濃縮し、濃縮物をCH2
Cl2で取り、混合物を水、N&2CO5溶液、KH8
04溶液で洗浄し、次いで乾燥し濃縮する。得られる固
体をクロロフォルム/メタノール混合物、9515容量
、で溶出しながらシリカ上でクロマトグラフする。期待
の生成物をヘキサン/エーテル混合物から再結晶させる
。
OH)5、) SR4357,6 上で得られた化合物2181n9がらTFAで通常のや
り方でBoc基を除く、得られる固体をcH−2ct2
でとり、4dのDMFを加え、溶液を冷時充分−の量の
DIPEA t−加えて中和し、(プチドBoe−Ph
@−Nle−AHPPA−0)I (369w )及び
Bop C287”+9]を次いで加え、混合物をR’
rで18時間攪拌し、PHを約7に保つ。混合物を減圧
で〔圧カニ 5 mHg、]で濃縮し、濃縮物をCH2
Cl2で取り、混合物を水、N&2CO5溶液、KH8
04溶液で洗浄し、次いで乾燥し濃縮する。得られる固
体をクロロフォルム/メタノール混合物、9515容量
、で溶出しながらシリカ上でクロマトグラフする。期待
の生成物をヘキサン/エーテル混合物から再結晶させる
。
重量=265〜
m、ρ、=94−95 ℃
例3
3−(ピリノン−3−イル)プロピオニル−CH20H
Phe−Nl e−AHPPA−I 1 e−NH−C
−CH20HCH20H 8R43603 前の例で調製した5R43576の240m9からTF
Aで通常のやり方でBop基を除く。過剰の溶媒を減圧
で蒸発させた後、得られる残留物をCH2Cl2で取り
、5ゴのDMFを加え、混合物を冷時充分の量のDIP
EAを加えて中和し、68M9の3−(ピリノン−3−
イル)プロピオン酸及び84■のBopを次いで加える
。混合物をRTで18時間攪拌し、−をDIPEAの添
加で約7に保つ。減圧〔圧力=5mHg:)で濃縮し、
濃縮物をAc0Etでとり、混合物を水性炭酸塩溶液及
び水で洗浄し、次いで乾燥し濃縮する。 CHCl3/
MeOH混合物、9/1容量、で溶出しなからシリカ上
のクロマトグラフ後、期待の生成物を回収する。ヘキサ
ン/エーテル混合物から固体化する。
−CH20HCH20H 8R43603 前の例で調製した5R43576の240m9からTF
Aで通常のやり方でBop基を除く。過剰の溶媒を減圧
で蒸発させた後、得られる残留物をCH2Cl2で取り
、5ゴのDMFを加え、混合物を冷時充分の量のDIP
EAを加えて中和し、68M9の3−(ピリノン−3−
イル)プロピオン酸及び84■のBopを次いで加える
。混合物をRTで18時間攪拌し、−をDIPEAの添
加で約7に保つ。減圧〔圧力=5mHg:)で濃縮し、
濃縮物をAc0Etでとり、混合物を水性炭酸塩溶液及
び水で洗浄し、次いで乾燥し濃縮する。 CHCl3/
MeOH混合物、9/1容量、で溶出しなからシリカ上
のクロマトグラフ後、期待の生成物を回収する。ヘキサ
ン/エーテル混合物から固体化する。
重量=135■
m、p、 =90−92℃
例4
3−(k’リジン−3−イル)プロピオニル−CH20
H Pha−Hls−8La−11s−NH−C−CH3噛 CH20H 8R43737 1、) 3− (ビリシン−3−イル)フロピオニル
−Ph s −Hi s −S t a −0CHs5
00〜のHoe−Phe−Hls−8ta−QC)(3
を0℃で5分間51LlのTFAで処理する。混合物を
蒸発乾固し、塩を次いでエーテル中に沈澱させる。該塩
を15−のアセトニトリルでとり、132rn9の3−
(ピリジン−3−イル)ゾロピオン酸及び385〜のB
opを加え、混合物をDIPEAの添加により約PH7
に中和する。24時間後、蒸発乾固し、水性炭酸塩溶液
を加えてAeOEtで抽出を行なう。有機相を数回Na
2CO3溶液、水及び次いで水性塩溶液で洗浄し、乾燥
し〔MgSO4〕、次いで蒸発乾固する。残留物をKH
SO3の3M溶液KB解し、不純物をエーテルで抽出す
る。水性相をN aHCOs溶液で中和する。
H Pha−Hls−8La−11s−NH−C−CH3噛 CH20H 8R43737 1、) 3− (ビリシン−3−イル)フロピオニル
−Ph s −Hi s −S t a −0CHs5
00〜のHoe−Phe−Hls−8ta−QC)(3
を0℃で5分間51LlのTFAで処理する。混合物を
蒸発乾固し、塩を次いでエーテル中に沈澱させる。該塩
を15−のアセトニトリルでとり、132rn9の3−
(ピリジン−3−イル)ゾロピオン酸及び385〜のB
opを加え、混合物をDIPEAの添加により約PH7
に中和する。24時間後、蒸発乾固し、水性炭酸塩溶液
を加えてAeOEtで抽出を行なう。有機相を数回Na
2CO3溶液、水及び次いで水性塩溶液で洗浄し、乾燥
し〔MgSO4〕、次いで蒸発乾固する。残留物をKH
SO3の3M溶液KB解し、不純物をエーテルで抽出す
る。水性相をN aHCOs溶液で中和する。
沈澱を数容量のAc0Etで抽出し、有機相をNa 2
CO3浴液及び水性塩溶液で洗浄した後、乾燥し〔M
gSO4〕蒸発する。白色固体を単離しメタノール/イ
ソプロビルエーテル混合物から再結晶させる。
CO3浴液及び水性塩溶液で洗浄した後、乾燥し〔M
gSO4〕蒸発する。白色固体を単離しメタノール/イ
ソプロビルエーテル混合物から再結晶させる。
重量=97〜
m、p、 = 168−170℃
〔α:] o =30−6 (c =1 : MeOH
)2、) 2− (Boa−インロイシルアミノ)−
2−メチルゾロノやノー1.3−ジオール この化合物は例1、工程4で得られる。
)2、) 2− (Boa−インロイシルアミノ)−
2−メチルゾロノやノー1.3−ジオール この化合物は例1、工程4で得られる。
3、)SR43737
76,5rn9の工程lで得られた化合物を64のメタ
ノール/水混合物〔5/1容量〕に溶解し、5滴の30
%水酸化す) +1ウム溶液を加え、混合物を冷蔵庫中
で一夜放置する。K11SO4溶液を添加して声約3に
酸性化し、蒸発乾固する。乾燥残留物の4 r!LlD
MF中懸濁液を0℃で611n9のBop及び工程2で
得られた化合物44〜のTFA塩を含む5dのCH2C
42に一度に加える。混合物をDIPgAの添加で中和
し24時間攪拌する。RTで減圧下蒸発し水性炭酸塩溶
液を次いで加える。沈澱をCH2Cl2で抽、 出する
。抽出物を数回水性塩溶液で洗浄する。乾燥しくMgS
O4’J、次いで溶媒を蒸発させる。得られる固体を増
加量のメタノールを含むメタノール/クロロフォルム混
合物で溶出しながらシリカゲル上でクロマトグラフする
。
ノール/水混合物〔5/1容量〕に溶解し、5滴の30
%水酸化す) +1ウム溶液を加え、混合物を冷蔵庫中
で一夜放置する。K11SO4溶液を添加して声約3に
酸性化し、蒸発乾固する。乾燥残留物の4 r!LlD
MF中懸濁液を0℃で611n9のBop及び工程2で
得られた化合物44〜のTFA塩を含む5dのCH2C
42に一度に加える。混合物をDIPgAの添加で中和
し24時間攪拌する。RTで減圧下蒸発し水性炭酸塩溶
液を次いで加える。沈澱をCH2Cl2で抽、 出する
。抽出物を数回水性塩溶液で洗浄する。乾燥しくMgS
O4’J、次いで溶媒を蒸発させる。得られる固体を増
加量のメタノールを含むメタノール/クロロフォルム混
合物で溶出しながらシリカゲル上でクロマトグラフする
。
ff1.p、= 108−110℃
3−(ビリジノー3−イル)プロピオニル−CH20H
Phe−Nls−8ta−11s−NH−C−CH。
H2OH
8R43707
この化合物は5R43574[138■〕から例3の方
法に従って調製する。
法に従って調製する。
重量60〜
m、p、=86−87℃
例6
7H3
Boc−Phe−Nla−8ta−I 1e−NH−C
−CH20HH3 SR43686 CH。
−CH20HH3 SR43686 CH。
1、) Boa−11e−NH−C−CH20HCH。
0.534gの2−アミノ−2−メチルプロパツールの
51のCH2Ct2中溶液を】yのBoC−11e −
0NSuの101のCH2C62中溶液に加える。20
分間攪拌後、不溶性物質を漏別し漏液を次いで濃縮する
。
51のCH2Ct2中溶液を】yのBoC−11e −
0NSuの101のCH2C62中溶液に加える。20
分間攪拌後、不溶性物質を漏別し漏液を次いで濃縮する
。
2、)SR43686
BoC基を、約2℃で20分間3dのTFAで、302
fnI?の前の工程で得た粗生成物から除く。残留物上
10ゴのCH2Ct2I/C溶解し、溶液を轟澗の添加
でP!(7に調整し、次いで535〃)9のBoc−P
he−N 1 e −8ta−OH及び44:>19の
Bopを加える。48時間攪拌後、混合物を水性塩溶液
、)a(S04溶液、NaHCO3溶液及び水で洗浄し
、次いで乾燥し、濃縮する。残留物を酢酸エチルで溶出
しなからシリカ上でクロマトグラフする。期待の生成物
がエーテルから冷時結晶する。
fnI?の前の工程で得た粗生成物から除く。残留物上
10ゴのCH2Ct2I/C溶解し、溶液を轟澗の添加
でP!(7に調整し、次いで535〃)9のBoc−P
he−N 1 e −8ta−OH及び44:>19の
Bopを加える。48時間攪拌後、混合物を水性塩溶液
、)a(S04溶液、NaHCO3溶液及び水で洗浄し
、次いで乾燥し、濃縮する。残留物を酢酸エチルで溶出
しなからシリカ上でクロマトグラフする。期待の生成物
がエーテルから冷時結晶する。
1、)エチル(R,S) −2−アセトアミド−2−エ
トキシカルボニル−3−(ビリノン−3−イル)fロビ
オネイト 48、Fのジエチルアセトアミドマロネイトを11Nの
ナトリウムの3001のEtOH中溶液に加え、次いで
混合物を還流温度に加熱し、36gの3−クロロメチル
ビリジンヒドロクロライドを加え、還流を5時間維持す
る。EtOHを蒸発させ、残留物を水でとり、混合物を
抽出し、抽出物を乾燥し、濃縮し、シリカ上でクロマト
グラフする。
トキシカルボニル−3−(ビリノン−3−イル)fロビ
オネイト 48、Fのジエチルアセトアミドマロネイトを11Nの
ナトリウムの3001のEtOH中溶液に加え、次いで
混合物を還流温度に加熱し、36gの3−クロロメチル
ビリジンヒドロクロライドを加え、還流を5時間維持す
る。EtOHを蒸発させ、残留物を水でとり、混合物を
抽出し、抽出物を乾燥し、濃縮し、シリカ上でクロマト
グラフする。
CH2CZ2/Ac OEt混合物、6V40容債、は
23.!i+の期待の化合物を溶出する。
23.!i+の期待の化合物を溶出する。
2−) (R,S)−(Pyr−3)Alg、2HC
t19の前のジエステル1200mの5NHC1中で5
時間還流加熱する。混合物を濃縮乾燥し、EtOHを加
え、混合物を蒸発する。この方法をジノ・イドロクロリ
ドが再結晶するまで繰返す。1511゜3、) (R
,5)−Boc−(Pyr−3)Alal、fの前のジ
ハイドロクロライドを水及びノオキサンの等容量混合物
に溶解する。350〜の水酸化す) IIウム及びI!
iの(Baa)20を加え、混合物を次いでRTで一夜
攪拌する。ジオキサンを蒸発し、水を加え、混合物を8
9のAmbsrlite CG120L「酸型」で中和
しRTで1時間攪拌し、媒体を次いで8gの同一樹脂を
含むカラムに移す。溶出を声が5に達するまで蒸溜水で
行ない次いでアンモニアの4チ蒸溜水溶液で行なう。溶
出液を濃縮する。0.69gの期待の生成物を回収する
。
t19の前のジエステル1200mの5NHC1中で5
時間還流加熱する。混合物を濃縮乾燥し、EtOHを加
え、混合物を蒸発する。この方法をジノ・イドロクロリ
ドが再結晶するまで繰返す。1511゜3、) (R
,5)−Boc−(Pyr−3)Alal、fの前のジ
ハイドロクロライドを水及びノオキサンの等容量混合物
に溶解する。350〜の水酸化す) IIウム及びI!
iの(Baa)20を加え、混合物を次いでRTで一夜
攪拌する。ジオキサンを蒸発し、水を加え、混合物を8
9のAmbsrlite CG120L「酸型」で中和
しRTで1時間攪拌し、媒体を次いで8gの同一樹脂を
含むカラムに移す。溶出を声が5に達するまで蒸溜水で
行ない次いでアンモニアの4チ蒸溜水溶液で行なう。溶
出液を濃縮する。0.69gの期待の生成物を回収する
。
4、) Boa−(Pyr−3)Alt−8tm−O
Ma465〜のS t a −OMe −TFA及び5
0079のBoa −(Pyr−3)Altの混合物を
RTで3日間10m/のアセトニトリル中で780〜の
Bopの存在下で攪拌し、媒体をDIPEAの添加で一
約7に保つ。次いで混合物を蒸発乾固し、Ac0Etで
抽出を行ない、抽出物をNIL2C03溶液、水、及び
水性塩溶液で洗浄した後、MgSO4上で乾燥し蒸発乾
固する。残留物−i C)L2Ct2/Ac0Et I
W出出合合物1/9容積、でシリカゲル上でクロマトグ
ラフすると、次のものが続いて溶出する。
Ma465〜のS t a −OMe −TFA及び5
0079のBoa −(Pyr−3)Altの混合物を
RTで3日間10m/のアセトニトリル中で780〜の
Bopの存在下で攪拌し、媒体をDIPEAの添加で一
約7に保つ。次いで混合物を蒸発乾固し、Ac0Etで
抽出を行ない、抽出物をNIL2C03溶液、水、及び
水性塩溶液で洗浄した後、MgSO4上で乾燥し蒸発乾
固する。残留物−i C)L2Ct2/Ac0Et I
W出出合合物1/9容積、でシリカゲル上でクロマトグ
ラフすると、次のものが続いて溶出する。
一極性のより低い異性体A:150■
−極性のより高い異性体B:180〜
品
前の工程で得た極性のより高い異性体(600rn9〕
をメタノール/ジオキサン/水混合物C10,/10/
10 。
をメタノール/ジオキサン/水混合物C10,/10/
10 。
v/v/v〕中で加水分解し、70〜の水酸化ナトIJ
ウムを加える。25分後、原料が消失する。混合物を濃
縮乾燥し、残留物をジオキサンでと9、塩化水素の酢酸
エチル溶液を加えてPk4を4にする。
ウムを加える。25分後、原料が消失する。混合物を濃
縮乾燥し、残留物をジオキサンでと9、塩化水素の酢酸
エチル溶液を加えてPk4を4にする。
媒体を再び濃縮し、濃縮物を251R1のアセトニトリ
ル中に溶解し、DIPEAを加えてpi−17とする。
ル中に溶解し、DIPEAを加えてpi−17とする。
前にアセトニトリル中でDIPEAで中和した500m
9の2−インロイシルアミノ−2−メチルプロノ!ンー
1,3−ジオールトリフルオロアセチイトを加え、続い
て650〜のBop f加え、pHk8及び9の間に調
整し、鳴合物を室温で一夜攪拌する。媒体を濃縮【21
、濃縮物を水性炭酸塩溶液で次いで酢酸エチルでとる。
9の2−インロイシルアミノ−2−メチルプロノ!ンー
1,3−ジオールトリフルオロアセチイトを加え、続い
て650〜のBop f加え、pHk8及び9の間に調
整し、鳴合物を室温で一夜攪拌する。媒体を濃縮【21
、濃縮物を水性炭酸塩溶液で次いで酢酸エチルでとる。
有機相を重硫酸カリウム溶液で洗浄し、次いで乾燥し濃
縮する。粗生成物をシリカ上でクロマトグラフする。酢
酸エチル/メタノール混合物C9515、v/v ]は
生成物を溶出し、メタノール/エーテル混合物から結晶
する。420■を回収する。
縮する。粗生成物をシリカ上でクロマトグラフする。酢
酸エチル/メタノール混合物C9515、v/v ]は
生成物を溶出し、メタノール/エーテル混合物から結晶
する。420■を回収する。
6、)8R43763
この工程は390■の前の化合物及び250〜のBoa
−Phe−ONpから出発して通常の方法で行なう。
−Phe−ONpから出発して通常の方法で行なう。
シリカ上のクロマトグラフ後、酢酸エチル/メタノール
混合物(90/10 、 v/v 〕で溶出し、325
■の期待の生成物が得られる。
混合物(90/10 、 v/v 〕で溶出し、325
■の期待の生成物が得られる。
例8
SR43799
1、) 1−N−Boc−イソロイシルアミノ−1−
メトキシカルボニルシクロヘキサン Boc−IIs −OH[: 3.81 !! 〕、〕
1−アミノー1−メトキシ力ル〆ニルシク口ヘキサン2
.6.till&びBop (7,29Ji’、)の塩
化メチレン中混合物を48時間攪拌する。有機相を水、
重硫酸カリウム及び炭酸ナトリウムで洗浄し、乾燥し濃
縮する。
メトキシカルボニルシクロヘキサン Boc−IIs −OH[: 3.81 !! 〕、〕
1−アミノー1−メトキシ力ル〆ニルシク口ヘキサン2
.6.till&びBop (7,29Ji’、)の塩
化メチレン中混合物を48時間攪拌する。有機相を水、
重硫酸カリウム及び炭酸ナトリウムで洗浄し、乾燥し濃
縮する。
濃縮物をシリカ上でクロマトグラフし、酢酸エチル/塩
化メチレン混合物[50150v/v )で溶出し、期
待の化合物を回収する。溶媒の蒸発で結晶する。
化メチレン混合物[50150v/v )で溶出し、期
待の化合物を回収する。溶媒の蒸発で結晶する。
ff1f=4.4F:
m−p−=152−155℃;
〔α)、=−39°(c == 1 : MeOH)2
、) 1−N−Boc−イソロイシルアミノ−1−ヒ
ドロキシメチルシクロ−\キサン 303〜のナトリウムアルミニウムハイドライドを少量
ずつ前の生成物[1,5,9]のエーテル溶液に加え、
混合物をRTで4時間攪拌する。反応媒体を氷冷した重
硫酸カリウム溶液中に注ぎ、エーテル相をデカンテーシ
ョンし、乾燥し減圧下で濃縮すると白色固体が得られ、
シリカ上でクロマトグラフする。酢酸エチル/ヘキサン
混合物C50150v/v ]は期待の化合物を浴出さ
せ、溶媒の蒸発で結晶する。
、) 1−N−Boc−イソロイシルアミノ−1−ヒ
ドロキシメチルシクロ−\キサン 303〜のナトリウムアルミニウムハイドライドを少量
ずつ前の生成物[1,5,9]のエーテル溶液に加え、
混合物をRTで4時間攪拌する。反応媒体を氷冷した重
硫酸カリウム溶液中に注ぎ、エーテル相をデカンテーシ
ョンし、乾燥し減圧下で濃縮すると白色固体が得られ、
シリカ上でクロマトグラフする。酢酸エチル/ヘキサン
混合物C50150v/v ]は期待の化合物を浴出さ
せ、溶媒の蒸発で結晶する。
重量=19;
m−p、= 160−162℃:
〔α)p =28.2 (c =1 : MeOH)3
、)SR43799 この生成物は通常のカップリング法で得られる。
、)SR43799 この生成物は通常のカップリング法で得られる。
例9
3−(ピリジン−3−イル)プロピオニル−Phe −
H20H (tauMe )His−ACHPA−11e−NH−
C−CH。
H20H (tauMe )His−ACHPA−11e−NH−
C−CH。
CH20)I
SR43842
1°) (tauMe)Hls−OMe、2HC2(
tauMa )Hl mは文献(J、R,Neth、
Cham、 Soc、。
tauMa )Hl mは文献(J、R,Neth、
Cham、 Soc、。
1978.97,293−295]記載の方法で製造す
る。
る。
この生成物のゾハイドロクロライl’4.5.!i’を
50dのM@OHK溶解する。溶液は10−15℃にお
いてHCtガスで飽和させた後、RTで72時間攪拌す
る。濃縮して乾燥し、残留物を2回エーテルに次いでア
セトンにとり、結晶させると濃過後に4gが得られる。
50dのM@OHK溶解する。溶液は10−15℃にお
いてHCtガスで飽和させた後、RTで72時間攪拌す
る。濃縮して乾燥し、残留物を2回エーテルに次いでア
セトンにとり、結晶させると濃過後に4gが得られる。
2°) Boc−Phe−(tauMe)Hls−OM
e508 n19の前の生成物を25m1のCH2C2
2に入れ、DIPEAを添加して−7にする。772m
9のBoc−Phe−ONp及び306 m9のHOB
tを加える。RTで2日間攪拌後、混合物を氷冷した水
で洗浄し次いで乾燥し濃縮する。シリカ上クロマトグラ
フ、Ac0Et/MeOH混合物、9/1容量、による
溶出で849〜の期待の生成物を回収する。
e508 n19の前の生成物を25m1のCH2C2
2に入れ、DIPEAを添加して−7にする。772m
9のBoc−Phe−ONp及び306 m9のHOB
tを加える。RTで2日間攪拌後、混合物を氷冷した水
で洗浄し次いで乾燥し濃縮する。シリカ上クロマトグラ
フ、Ac0Et/MeOH混合物、9/1容量、による
溶出で849〜の期待の生成物を回収する。
3°) Boc−Phe−(tauMe)Hls−A
CHPA−OCH380011’fのBo c −Ph
e −(t a uMa )Hl s−OMeを10’
Cで8dのメタノール及びジオキサン混合物〔1/3v
ol/vol〕に溶解し、2Mの水中90′lvの水酸
化ナトリウムを次いで加える。温度を10℃に1時間、
次いでRTに1時間30分保つ。混合物を−=3に重硫
酸カリウムで酸性化した後、蒸発乾固する。
CHPA−OCH380011’fのBo c −Ph
e −(t a uMa )Hl s−OMeを10’
Cで8dのメタノール及びジオキサン混合物〔1/3v
ol/vol〕に溶解し、2Mの水中90′lvの水酸
化ナトリウムを次いで加える。温度を10℃に1時間、
次いでRTに1時間30分保つ。混合物を−=3に重硫
酸カリウムで酸性化した後、蒸発乾固する。
得られる固体を20m/のDMFに0℃で820qのB
opの存在下で懸濁し、7 rILtDMF中の、62
0/’IpのBo c−ACHPA−OCH,から得ら
れた塩TFA、 ACHPA−OCH、を次いで加える
。最後に500 m9 (7) DIPEAを加える。
opの存在下で懸濁し、7 rILtDMF中の、62
0/’IpのBo c−ACHPA−OCH,から得ら
れた塩TFA、 ACHPA−OCH、を次いで加える
。最後に500 m9 (7) DIPEAを加える。
−1を6−7に保ち、温度を0℃及び10℃の間に2時
間保ち、次いで別置のDIPEAを加えて−を7にし、
混合物を一夜放置してRTに戻す。溶媒を蒸発し、水性
炭酸塩溶液を加え、抽出を3回酢酸エチルで行ない、抽
出物を数回水性炭酸塩溶液、水及び水性塩溶液で洗浄し
、乾燥し減圧で蒸発する。固体をメタノール/インプロ
ピルエーテル混合物から結晶させた後、冷時最小量のメ
タノールで再結晶させて415m9を得る。
間保ち、次いで別置のDIPEAを加えて−を7にし、
混合物を一夜放置してRTに戻す。溶媒を蒸発し、水性
炭酸塩溶液を加え、抽出を3回酢酸エチルで行ない、抽
出物を数回水性炭酸塩溶液、水及び水性塩溶液で洗浄し
、乾燥し減圧で蒸発する。固体をメタノール/インプロ
ピルエーテル混合物から結晶させた後、冷時最小量のメ
タノールで再結晶させて415m9を得る。
m、p、=164−166℃;
〔α)、 =−34,3(c =0.61 ;MeOH
)4°)3−(ピリジン−3−イル)7°ロピオニルー
Phe −(t a uMe )Hi s −ACHP
A−OCH3前の工程で得た364ηの生成物のトリフ
ルオロ酢酸塩を調製する。この塩を10dのアセトニト
リルに入れ、114Inqの3−(ピリジン−3−イル
)プロピオン酸及び336m9のBopを加え、混合物
をDIPEAの添加で中和する。媒体は均質になり、次
いで沈澱が現われる。固体を次の日漏別し、水及びエー
テルで洗浄する〔固体1〕。水性炭酸ナトリウム’tb
液に加えてアセトニトリルを蒸発し、酢酸エチルで抽出
を行なう。有機相に現われる不溶性物質を1別する。漏
液を重硫酸カリウム溶液に溶解した後、重炭酸ナトリウ
ムを加えて再沈澱させる。〔固体2〕。固体l及び2は
同一で期待の生成物に対応する。
)4°)3−(ピリジン−3−イル)7°ロピオニルー
Phe −(t a uMe )Hi s −ACHP
A−OCH3前の工程で得た364ηの生成物のトリフ
ルオロ酢酸塩を調製する。この塩を10dのアセトニト
リルに入れ、114Inqの3−(ピリジン−3−イル
)プロピオン酸及び336m9のBopを加え、混合物
をDIPEAの添加で中和する。媒体は均質になり、次
いで沈澱が現われる。固体を次の日漏別し、水及びエー
テルで洗浄する〔固体1〕。水性炭酸ナトリウム’tb
液に加えてアセトニトリルを蒸発し、酢酸エチルで抽出
を行なう。有機相に現われる不溶性物質を1別する。漏
液を重硫酸カリウム溶液に溶解した後、重炭酸ナトリウ
ムを加えて再沈澱させる。〔固体2〕。固体l及び2は
同一で期待の生成物に対応する。
重量=215〜。
m、p、=211−215 ℃ ;
〔α’)D = 36.7 (c = 0.27
:MsOH)5°)SR43842 上記で得られた化合物〔206■〕を次の方法で酸性化
する。水(4ml 〕及びメタノール[10m1 〕の
混合物中に懸濁させ、その後5滴の30%水酸化す)
IJウム溶液、4ゴのDMF及び更に5滴の30%水酸
化ナトリウム溶液を加える。2時間攪拌後、はとんど完
全な溶液が生成したことが分る。不溶性物質を1別し、
メタノールを蒸発させ、混合物を重硫酸カリウム浴液で
約F1)14−5に酸性化し、蒸発乾固する。残留物を
0℃で2 mlのTFA及び86m9の H20H B o c −I l s −NH−C−CHs
’H20H で処理する。蒸発後、残留物を3 mlのDMFに溶解
し、DIPEAで中和する。生成するTFA塩、前の酸
及び124ダのBopを5rILeのDMF中で混合す
る。
:MsOH)5°)SR43842 上記で得られた化合物〔206■〕を次の方法で酸性化
する。水(4ml 〕及びメタノール[10m1 〕の
混合物中に懸濁させ、その後5滴の30%水酸化す)
IJウム溶液、4ゴのDMF及び更に5滴の30%水酸
化ナトリウム溶液を加える。2時間攪拌後、はとんど完
全な溶液が生成したことが分る。不溶性物質を1別し、
メタノールを蒸発させ、混合物を重硫酸カリウム浴液で
約F1)14−5に酸性化し、蒸発乾固する。残留物を
0℃で2 mlのTFA及び86m9の H20H B o c −I l s −NH−C−CHs
’H20H で処理する。蒸発後、残留物を3 mlのDMFに溶解
し、DIPEAで中和する。生成するTFA塩、前の酸
及び124ダのBopを5rILeのDMF中で混合す
る。
混合物を0℃に冷却し、DIPEAを充分な量加えて−
を約7−8にし、混合物を放置してRTに戻す。
を約7−8にし、混合物を放置してRTに戻す。
3日後、DMFを蒸発し、水性炭酸塩溶液を加え、抽出
を3容量の水性炭酸塩浴液、水、及び水性塩溶液で行な
う。蒸発後、白色固体が得られ〔75m1 :l 、M
eOH/Ac0Et混合物〔27〜〕から再結晶する。
を3容量の水性炭酸塩浴液、水、及び水性塩溶液で行な
う。蒸発後、白色固体が得られ〔75m1 :l 、M
eOH/Ac0Et混合物〔27〜〕から再結晶する。
m、p、 =119−124℃。
結晶からの母液はシリカ上でクロマトグラフする。
次の化合物(表2)を同一の方法で調製した。
そのNMRスRクトルで特徴付けられる。
RR3−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)次の一般式を有するペプチドアミノ−アルコール
誘導体及び該ペプチドアミノ−アルコールの鉱酸又は有
機酸又はアルカリ金属又はアルカリ土類金属との薬学的
受容性塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 −R_1は次の基から選んだアシル基を表わす。アルキ
ルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボ
ニル、アリールアルキルカルボニル、アリールアルコキ
シカルボニル、複素環カルボニル、複素環アルキルカル
ボニル、ここでアルキル基は場合により水酸基で置換さ
れている、複素環カルボニルアルキルカルボニル、複素
環アルケニルカルボニル、及びシクロアルキルカルボニ
ルを表わすか、又はアルキルが遊離のアミノ基又は保護
基をもつアミノ基又はフェニル基で置換されているか又
は置換されていない(低級アルキル)スルフォニル基を
表わすか、又はフェニル核が低級アルキルで置換されて
いるか又は置換されていないフェニルスルフォニル基を
表わす。 −R_2はフェニル、ナフチル、シクロヘキシル又はピ
リジルで置換されているか又は置換されていない低級ア
ルキル基を表わす。又はR_2はフェニル、ナフチル、
シクロヘキシル、又はピリジル基を表わす。 −R_3は水素、低級アルケニル、フェニル、ナフチル
、炭素原子数3−6のシクロアルキル、低級アルキル又
はトリフルオロメチルで置換され又は置換されていない
5員又は6員単環複素環基、又はその代わりに低級アル
キルであって、遊離アミノ基又は保護基をもつアミノ基
で、ジ(低級アルキル)アミノ基で、遊離のカルボキシ
ル又は低級アルキル又はベンジルでエステル化されたカ
ルボキシルで、遊離のカルバモイル又は1又は2の低級
アルキル又はフェニルで置換されたカルバモイルで、ヒ
ドロキシル、低級アルコキシ又はベンジロキシ基で、ピ
リジルメトキシ基で、(低級アルキル)チオ、(低級ア
ルキル)スルフィニル又は(低級アルキル)スルフォニ
ル基で、水酸基で置換され又は置換されていないフェニ
ル基で、ナフチルで、炭素原子3−6のシクロアルキル
で、低級アルキル又はトリフルオロメチルで置換され又
は置換されていない5員又は6員の単環複素環基で、低
級アルキル又はトリフルオロメチルで置換され又は置換
されていない2環複素環基で置換され又は置換されてい
ない低級アルキル基を表わす。 −R_4は水素、又はインドリル、ピリジル、イミダオ
ゾリル又はフェニル基で置換され又は置換されていない
低級アルキル基を表わす。 −R_5はフェニル、ヒドロキシフェニル又はアミノ基
で置換され又は置換されていない炭素原子数3−20の
脂肪族又は環状炭化水素基を表わし、該炭化水素基は少
なくとも1の水酸基及びC−H結合を有しない少なくと
も1の炭素原子を同時に含む。 −Qはイソプロピル、フェニル、又はシクロヘキシルを
表わし、それぞれ次の基とアミノ酸Sta、AHPPA
又はACHPAの残基を形成する。 ▲数式、化学式、表等があります▼ −Xは直接結合又はAla、Nva、Val、Leu、
Nle、Ile、Phg、Abu、又はCpgのような
アミノ酸残基である。 (2)次の式を有する特許請求の範囲第1項記載のペプ
チドアミノ−アルコール誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1、R_2、R_3、Q、X及びR_4は特
許請求の範囲第1項に定義した通りであり、 −pは0及び5の間の整数を表わし、 −qは0及び5の間の整数を表わし、 −R_6は水素又は低級アルキル、かつ、 −R_7は水素、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、
ピリジル基又はフェニル基で水酸基で置換されているか
置換されていないものを表わすが、q=0である場合、
R_7が水素とは異なることを条件とする。 (3)次の式を有する特許請求の範囲第1項記載のペプ
チドアミノ−アルコール誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1、R_2、R_3、Q、X、及びR_4は
特許請求の範囲第1項に定義した通りであり、 −pは0及び5の間の整数を表わし、 −R_8は低級アルキルを表わし、 −R_9は遊離のアミノ基又は保護基をもつアミノ基で
置換され又は置換されていない低級アルキル基を表わす
か、又は −R_8及びR_9は介入する炭素原子と共に炭素原子
数3−8のシクロアルキルを形成する。 (4)R_1が次の基のいずれかである特許請求の範囲
第1−3項のいずれかに記載のペプチドアミノ−アルコ
ール誘導体及び該ペプチドアミノ−アルコールの鉱酸又
は有機酸との薬学的受容性塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、式中、a=0、1
又は2 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、式中b=0、1、
2、3、4、 5又は6 ▲数式、化学式、表等があります▼、式中D=▲数式、
化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等が
あります▼ 及びn=1、2、3、4 又は5 ▲数式、化学式、表等があります▼、式中E=−H又は −CH_3及び s=1、2、3又は4 ▲数式、化学式、表等があります▼、式中b=0、1、
2、3、4、5 又は6 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ NH_2CH_2CH_2−SO_2− BocNHCH_2CH_2−SO_2− ZNHCH_2CH_2−SO_2− A−SO_2−、式中Aは低級アルキル C_6H_5−(CH_2)_a−SO_2−、式中a
=0、1又は2(5)R_1が次の基のい、ずれかであ
る特許請求の範囲第1−3項のいずれかに記載のペプチ
ドアミノ−アルコール誘導体。 −イソバレリル、 −4−(ピリジン−2−イル)−4−オキソブチリル、 −4−(ピリジン−2−イル)−4−ヒドロキシブチリ
ル、 −3−(ピリジン−3−イル)プロピオニル、−4−(
ピリジン−3−イル)ブチリル、 −ニコチノイル、及び −ベンゾスルフォニル。 (6)R_5が1−3の水酸基を含む特許請求の範囲第
1−5項のいずれかに記載のペプチドアミノアルコール
誘導体。 (7)R_3は残基−NH−CH(R_3)−CO−が
残基(tauMe)Hisを表わすものである特許請求
の範囲第1−6項のいずれかに記載のペプチドアミノア
ルコール誘導体。 (8)次の式のペプチドアミノアルコール誘導体及び該
ペプチドアミノ−アルコールの鉱酸又は有機酸又はアル
カリ金属又はアルカリ土類金属との薬学的受容性塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 −R_1は次の基から選ばれた基を表わす:イソバレリ
ル、tert.−ブトキシカルボニル、3−(ピリジン
−3−イル)プロピオニル、4−(ピリジン−3−イル
)ブチリル及びニコチニル、 −R_2はベンジルを表わす、 −R_3は、イミダゾール−4−イル、1−メチルイミ
ダゾール−4−イル、2−メチルイミダゾール−4−イ
ル、ピリジン−3−イル、及びベンズイミダゾール−2
−イルから選ばれた複素環基で置換されたメチル又はn
−ブチルを表わし、 −R_4は水素であり、 −Qはイソプロピル、フェニル、又はシクロヘキシルを
表わし、それぞれ次の基とアミノ酸Sta、AHPPA
又はACHPAの残基を形成する。 ▲数式、化学式、表等があります▼ −Xはアミノ酸Ile及びAlaの一の残基を表わし、
かつ、 −R_5はフェニル、ヒドロキシフェニル又はアミノ基
で置換され又は置換されていない炭素原子数3−20の
脂肪族又は環状炭化水素基を表わし、該炭化水素基は少
なくとも1の水酸基及びC−H結合を有しない少なくと
も1の炭素原子を同時に含む。 (9)R_5が次のものから選ばれた基を表わす特許請
求の範囲第8項記載のペプチドアミノアルコール誘導体
。 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (10)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Wは保護基又は水素であり、R_4及びR_5
は上に定義した通りであり、水酸基は場合により保護さ
れている〕のアミノアルコールを、式保護した▲数式、
化学式、表等があります▼又はH−X′−OH 〔式中、X′は上でXについての定義を有するが、X′
は直接結合以外のものであり、Qは上に定義した通りで
ある〕のアミノ酸の低級アルキルエステルで処理し、次
いでペプチド鎖を次の適当な保護アミノ酸又はフラグメ
ントで段階的にカップリングして延長し、各操作はカッ
プリングするアミノ酸又はフラグメントの活性化エステ
ル又はN−保護アミノ酸でDCCIの存在下で行ない、
N−保護基は、水素化分解又は強酸媒体中での加水分解
により、各カップリング後に開裂し、適当な場合には、
生成アミノアルコールの水酸基は酸加水分解によって脱
保護し、かつ、適当な場合には得られる生成物をその薬
学的受容性塩の一に変換する、特許請求の範囲第1項記
載のペプチドアミノアルコール誘導体の製造方法。 (11)活性成分として特許請求の範囲第1−9項のい
ずれかに記載の生成物を含む薬学的組成物。 (12)薬学的付形剤と混合して、投与単位当り1−1
000mgの特許請求の範囲第1−9項のいずれかに記
載の生成物を含む特許請求の範囲第11項記載の薬学的
組成物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8511728 | 1985-07-31 | ||
| FR8511728A FR2585708B1 (fr) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | Derives aminoalcools peptidiques inhibiteurs de la resine et des proteases acides, leur procede de preparation et leur application en therapeutique |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6229596A true JPS6229596A (ja) | 1987-02-07 |
| JP2505164B2 JP2505164B2 (ja) | 1996-06-05 |
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ID=9321828
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|---|---|---|---|
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