JPS62298023A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS62298023A JPS62298023A JP14089486A JP14089486A JPS62298023A JP S62298023 A JPS62298023 A JP S62298023A JP 14089486 A JP14089486 A JP 14089486A JP 14089486 A JP14089486 A JP 14089486A JP S62298023 A JPS62298023 A JP S62298023A
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- JP
- Japan
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- film
- protective film
- thermosetting resin
- resin film
- magnetic
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔概要〕
この発明は連続磁性膜上に保護膜を形成するに際し、該
磁性膜上に熱硬化性樹脂を含む溶剤と易熱蒸発性または
易熱分解性の物質の混合液を塗布後、易熱分解性または
易熱蒸発性の物質を熱硬化性樹脂が硬化しない温度で分
解、蒸発させ、さらに未硬化の熱硬化性樹脂を表面研磨
後加熱硬化させることにより、その熱硬化性樹脂膜から
成る保護膜に突起を発生させないようにして磁気記録媒
体の機械的耐久強度の向上および磁気へラドの摩耗量の
低減を可能としたものである。
磁性膜上に熱硬化性樹脂を含む溶剤と易熱蒸発性または
易熱分解性の物質の混合液を塗布後、易熱分解性または
易熱蒸発性の物質を熱硬化性樹脂が硬化しない温度で分
解、蒸発させ、さらに未硬化の熱硬化性樹脂を表面研磨
後加熱硬化させることにより、その熱硬化性樹脂膜から
成る保護膜に突起を発生させないようにして磁気記録媒
体の機械的耐久強度の向上および磁気へラドの摩耗量の
低減を可能としたものである。
この発明は、磁気ディスク装置等に使用される磁気記録
媒体の製造方法、特に連続磁性膜の表面に保護膜を形成
するための方法に関するものである。
媒体の製造方法、特に連続磁性膜の表面に保護膜を形成
するための方法に関するものである。
情報量の増大に伴い磁気ディスクの容量は、年々上昇の
一途をたどり、ますます高密度化を図ることが要望され
ている。記録密度の高密度化に当たっては、記録層の石
1気特性を向上させることの他に、磁気ヘッドと磁気デ
ィスク間の間隙を小さくすることが必要である。しかし
、ヘッドとディスクとの間隙を小さくすると、それらが
接触する確率が増え、その接触度合によってはディスク
に記録された情報が破壊されるという大きな問題を生じ
る。
一途をたどり、ますます高密度化を図ることが要望され
ている。記録密度の高密度化に当たっては、記録層の石
1気特性を向上させることの他に、磁気ヘッドと磁気デ
ィスク間の間隙を小さくすることが必要である。しかし
、ヘッドとディスクとの間隙を小さくすると、それらが
接触する確率が増え、その接触度合によってはディスク
に記録された情報が破壊されるという大きな問題を生じ
る。
これを避けるためにディスクの連Miff性膜の表面に
は、通常耐久性に優れた保護膜が設けられている。
は、通常耐久性に優れた保護膜が設けられている。
このような保護膜とその形成方法として、特開昭60−
5423号の発明が知られている。第3図はその保護膜
を備えた磁気ディスクの断面構造を示し、この図におい
て11はディスク基板、12は連続磁性膜、14は熱硬
化性樹脂から成る保護膜、15は該保護膜に設けられた
孔、16はその孔の周辺部に存在する突起、17は表面
潤滑膜である。
5423号の発明が知られている。第3図はその保護膜
を備えた磁気ディスクの断面構造を示し、この図におい
て11はディスク基板、12は連続磁性膜、14は熱硬
化性樹脂から成る保護膜、15は該保護膜に設けられた
孔、16はその孔の周辺部に存在する突起、17は表面
潤滑膜である。
この磁気ディスクは、第4図(a)〜(c)に示す工程
順で製造される。まず第4図(a)の工程において、基
板11上にスパッタ法でγ−Fe20aの連続磁性膜1
2を形成する。次の第4図(′b)の工程において、熱
硬化性樹脂を含む溶剤と射熱蒸発性物質(または易熱分
解性物質)の混合液13を塗布する。次の第4図(c)
の工程において、この混合液を加熱することにより熱硬
化性樹脂の硬化と射熱蒸発性物質の蒸発を同時に行う。
順で製造される。まず第4図(a)の工程において、基
板11上にスパッタ法でγ−Fe20aの連続磁性膜1
2を形成する。次の第4図(′b)の工程において、熱
硬化性樹脂を含む溶剤と射熱蒸発性物質(または易熱分
解性物質)の混合液13を塗布する。次の第4図(c)
の工程において、この混合液を加熱することにより熱硬
化性樹脂の硬化と射熱蒸発性物質の蒸発を同時に行う。
これによって、連続磁性膜12上には多数の孔15を有
する熱硬化性樹脂膜すなわち保護膜14が形成される。
する熱硬化性樹脂膜すなわち保護膜14が形成される。
このとき答礼15の周辺部には、射熱蒸発性物質の蒸発
に伴う突起16が形成される。この後、潤滑剤を塗布し
て表面潤滑[16を形成し磁気ディスク(第3図参照)
を完成する。
に伴う突起16が形成される。この後、潤滑剤を塗布し
て表面潤滑[16を形成し磁気ディスク(第3図参照)
を完成する。
なお、前記保護膜14に多数の孔15および突起16を
設ける理由は、その表面を粗すことによりcsS (c
otact 5tart 5top)時の磁気ヘッドの
吸着を防止することにある。
設ける理由は、その表面を粗すことによりcsS (c
otact 5tart 5top)時の磁気ヘッドの
吸着を防止することにある。
ところが、上記従来の保護膜形成方法では、保護膜14
の突起16の先端が高くかつ鋭くなるため、磁気ヘッド
との接触により該突起の欠けが生じやすくなり、その欠
けによってディスク表面に傷がついたり、あるいはヘッ
ドが摩耗されるという欠点を有していた。
の突起16の先端が高くかつ鋭くなるため、磁気ヘッド
との接触により該突起の欠けが生じやすくなり、その欠
けによってディスク表面に傷がついたり、あるいはヘッ
ドが摩耗されるという欠点を有していた。
そこで第4図[d)に示すように、突起16の先端を丸
めるため表面を研磨することが考えられる。が、保護膜
14は既に硬化しているため十分な研磨効果が得られな
いばかりでなく、保護膜自身に局部的な欠けAが生じる
という問題がある。ここで十分な研磨効果が得られない
ということは、比較的高い突起16aが残存することに
なり、その結果ヘッド接触時の衝撃が強くなり、ディス
クの耐久性の低下およびヘッドの摩耗の増大につながる
。また保護膜14に局部的な欠けが生じるということは
、その欠はへ周辺部において鋭い突起16bが新たに発
生することにつながり、これもディスクの耐久性の低下
およびヘッドの摩耗の増大を引き起こすことになる。
めるため表面を研磨することが考えられる。が、保護膜
14は既に硬化しているため十分な研磨効果が得られな
いばかりでなく、保護膜自身に局部的な欠けAが生じる
という問題がある。ここで十分な研磨効果が得られない
ということは、比較的高い突起16aが残存することに
なり、その結果ヘッド接触時の衝撃が強くなり、ディス
クの耐久性の低下およびヘッドの摩耗の増大につながる
。また保護膜14に局部的な欠けが生じるということは
、その欠はへ周辺部において鋭い突起16bが新たに発
生することにつながり、これもディスクの耐久性の低下
およびヘッドの摩耗の増大を引き起こすことになる。
この発明は、以上のような従来の状況から、孔の周辺部
に鋭い突起が無い熱硬化性樹脂膜より成る保護膜を形成
できる磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とするもの
である。
に鋭い突起が無い熱硬化性樹脂膜より成る保護膜を形成
できる磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とするもの
である。
この発明は上記目的を達成するために、連続磁性膜上に
塗布した熱硬化性樹脂を含む溶剤と易熱分解性あるいは
易熱蒸発性の物質の混合液を、熱硬化性樹脂が硬化しな
い温度で加熱することにより易熱分解性あるいは易熱蒸
発性の物質を分解、蒸発させ、その後未硬化状態の熱硬
化性樹脂を表面研磨し、さらに加熱硬化させる方法を採
っている。この硬化した熱硬化性樹脂膜膜によって保護
膜〔第2図(d)参照〕が形成される。
塗布した熱硬化性樹脂を含む溶剤と易熱分解性あるいは
易熱蒸発性の物質の混合液を、熱硬化性樹脂が硬化しな
い温度で加熱することにより易熱分解性あるいは易熱蒸
発性の物質を分解、蒸発させ、その後未硬化状態の熱硬
化性樹脂を表面研磨し、さらに加熱硬化させる方法を採
っている。この硬化した熱硬化性樹脂膜膜によって保護
膜〔第2図(d)参照〕が形成される。
この発明は、第1図に示すように熱硬化性樹脂が低温で
は未硬化のため軟らかく摩耗率が大きいことを利用して
いる。したがって、易熱分解性あるいは射熱蒸発性物質
の分解、蒸発によって多数の孔と突起が形成された未硬
化状態の熱硬化性樹脂の表面は、研磨すれば良好な研磨
効果が得られる。そのためこの研磨と加熱硬化処理を施
された熱硬化性樹脂膜より成る保護膜には、第2図(d
)に示すように高い突起が残存することがなく、また孔
の周辺部で欠けが生じることもない。
は未硬化のため軟らかく摩耗率が大きいことを利用して
いる。したがって、易熱分解性あるいは射熱蒸発性物質
の分解、蒸発によって多数の孔と突起が形成された未硬
化状態の熱硬化性樹脂の表面は、研磨すれば良好な研磨
効果が得られる。そのためこの研磨と加熱硬化処理を施
された熱硬化性樹脂膜より成る保護膜には、第2図(d
)に示すように高い突起が残存することがなく、また孔
の周辺部で欠けが生じることもない。
以下、この発明の好ましい実施例につき第2図の製造工
程順に沿ったディスク断面図を参照して説明する。なお
、前記第3図と第4図と同一部分には同一符号を記して
いる。
程順に沿ったディスク断面図を参照して説明する。なお
、前記第3図と第4図と同一部分には同一符号を記して
いる。
第2図(a)に示す工程において、表面をアルマイト処
理したアルミ基板11の上に例えば特許第102436
4号に示される方法でγ−Fe2O3の連続磁性膜12
を膜厚0.2μmに形成する。
理したアルミ基板11の上に例えば特許第102436
4号に示される方法でγ−Fe2O3の連続磁性膜12
を膜厚0.2μmに形成する。
第2図(b)に示す工程において、連続磁性膜12の上
に熱硬化性樹脂の一種であるガラスレジン(加熱効果さ
せることにより5i02になるもので、オーエンスイリ
ノイ社の商品名)を溶剤で溶かしたものと、射熱蒸発性
物質である流動パラフィンとを混合した混合液21を平
均膜厚0.05μmに塗布する。
に熱硬化性樹脂の一種であるガラスレジン(加熱効果さ
せることにより5i02になるもので、オーエンスイリ
ノイ社の商品名)を溶剤で溶かしたものと、射熱蒸発性
物質である流動パラフィンとを混合した混合液21を平
均膜厚0.05μmに塗布する。
第2図(c)に示す工程において、前記磁性膜12上に
混合液21が塗布されたアルミ基板11を100〜20
0°Cで加熱する。この加熱によって混合液中の流動パ
ラフィンと溶剤が蒸発する結果、残ったガラスレジン膜
22には多数の孔15とその孔周辺部に流動パラフィン
の蒸発に伴う突起16が形成されるが、ガラスレジン膜
22自体は未硬化である。したがって、この突起16は
まだ軟らかく摩耗率も高い。
混合液21が塗布されたアルミ基板11を100〜20
0°Cで加熱する。この加熱によって混合液中の流動パ
ラフィンと溶剤が蒸発する結果、残ったガラスレジン膜
22には多数の孔15とその孔周辺部に流動パラフィン
の蒸発に伴う突起16が形成されるが、ガラスレジン膜
22自体は未硬化である。したがって、この突起16は
まだ軟らかく摩耗率も高い。
第2図(d)に示す工程において、未硬化状態のガラス
レジン膜22の表面を研磨する。この研磨によりガラス
レジン膜上の突起は、摩耗率が高い状態にあるためその
周辺部に欠けを生じることなく容易に除去される。この
後、アルミ基板11を300〜350℃で加熱する。こ
れによりガラスレジン膜が硬化し、耐摩耗性を有するS
i O2の保護膜23が形成される。
レジン膜22の表面を研磨する。この研磨によりガラス
レジン膜上の突起は、摩耗率が高い状態にあるためその
周辺部に欠けを生じることなく容易に除去される。この
後、アルミ基板11を300〜350℃で加熱する。こ
れによりガラスレジン膜が硬化し、耐摩耗性を有するS
i O2の保護膜23が形成される。
そして最後に、従来例同様に第2図(e)に示す工程に
おいて保護膜23上に潤滑剤17を塗布し、磁気ディス
クを完成する。
おいて保護膜23上に潤滑剤17を塗布し、磁気ディス
クを完成する。
なお、以上の実施例においては連続磁性膜としてスパッ
タγ−Fe203を用いたが、Co−NiやCo−Ni
−Cr等の金属磁性膜も適用できる。
タγ−Fe203を用いたが、Co−NiやCo−Ni
−Cr等の金属磁性膜も適用できる。
以上説明したようにこの発明によれば、熱硬化性樹脂膜
を未硬化の状態で表面研磨し、その後加熱硬化させて保
護膜として形成させるため、高い突起や局部的な欠けが
生じることなく耐摩耗性の優れた保護膜を形成すること
ができる。したがって、機械的耐久強度の高い磁気ディ
スクが製造でき、またそのディスク使用によって磁気ヘ
ッドの摩耗を低減させる効果を奏する。
を未硬化の状態で表面研磨し、その後加熱硬化させて保
護膜として形成させるため、高い突起や局部的な欠けが
生じることなく耐摩耗性の優れた保護膜を形成すること
ができる。したがって、機械的耐久強度の高い磁気ディ
スクが製造でき、またそのディスク使用によって磁気ヘ
ッドの摩耗を低減させる効果を奏する。
第1図はこの発明の保護膜である熱硬化性樹脂の硬化加
熱温度と硬さの関係を示す図、第2図はこの発明の一実
施例を工程順に示した磁気ディスクの断面図、 第3図は従来の保護膜を備えた磁気ディスクの断面図、 第4図はその保護膜の形成方法を工程順に示したディス
ク断面図である。 第2図において、 11は基板、 12は連続磁性膜、 15は孔、 16は突起、 17は表面潤滑膜、 21は熱硬化性樹脂の溶液と射熱蒸発性物質の混合液、 22は未硬化の熱硬化性樹脂膜、 23は保護膜をそれぞれ示す。 ηロ翌愁謬ム乃((ヒ) :fe朗/)浣げ説明図 第1図 第2図 0 .0
熱温度と硬さの関係を示す図、第2図はこの発明の一実
施例を工程順に示した磁気ディスクの断面図、 第3図は従来の保護膜を備えた磁気ディスクの断面図、 第4図はその保護膜の形成方法を工程順に示したディス
ク断面図である。 第2図において、 11は基板、 12は連続磁性膜、 15は孔、 16は突起、 17は表面潤滑膜、 21は熱硬化性樹脂の溶液と射熱蒸発性物質の混合液、 22は未硬化の熱硬化性樹脂膜、 23は保護膜をそれぞれ示す。 ηロ翌愁謬ム乃((ヒ) :fe朗/)浣げ説明図 第1図 第2図 0 .0
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上に形成された連続磁性膜の上に保護膜を下記工程
をすべて含んで形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。 (a)前記連続磁性膜(12)上に熱硬化性樹脂を含む
溶剤と易熱分解性あるいは易熱蒸発性の物質の混合液(
21)を塗布する工程。 (b)前記混合液(21)を熱硬化性樹脂が硬化しない
温度で加熱し、易熱分解性あるいは易熱蒸発性の物質を
分解、蒸発させる工程。 (c)連続磁性膜(12)上の未硬化状態の熱硬化性樹
脂膜(22)の表面を研磨する工程。 (d)研磨された熱硬化性樹脂膜を加熱硬化させて当該
保護膜(23)と成す工程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14089486A JPS62298023A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14089486A JPS62298023A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62298023A true JPS62298023A (ja) | 1987-12-25 |
Family
ID=15279261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14089486A Pending JPS62298023A (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62298023A (ja) |
-
1986
- 1986-06-16 JP JP14089486A patent/JPS62298023A/ja active Pending
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