JPH02146108A - 磁気ディスク用プラスチック基板 - Google Patents
磁気ディスク用プラスチック基板Info
- Publication number
- JPH02146108A JPH02146108A JP29905588A JP29905588A JPH02146108A JP H02146108 A JPH02146108 A JP H02146108A JP 29905588 A JP29905588 A JP 29905588A JP 29905588 A JP29905588 A JP 29905588A JP H02146108 A JPH02146108 A JP H02146108A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- film
- coating film
- thickness
- plastic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はコンピュータの外部メモリなどに用いられる磁
気ディスクの基板に関する。
気ディスクの基板に関する。
通常磁気ディスクは基板上にＮ１−Ｐめっき層を被覆し
、その上にさらにＣｒｔどの下地層、Ｃｏ−Ｎｉ系合金
などの磁性層、 Ｓｌｏｇなどの保護潤滑層をこの順に
連続的にスパッタした積層体として構成される。基板材
料には軽量で適当な強度を有することがらＭ合金が広く
用いられている。磁気ディスクを製造するに際して、基
板として用いるディスク状Ｍ合金は旋盤加工および加圧
焼鈍を施して主表面のうねりを２０μ以下に仕上げた後
、その上にＮ１−Ｐ合金の無電解めっき層を３０−程度
被覆して表面に必要な硬さを付与し、これを平均表面粗
さ０．０２ｘ、厚さ１５−まで鏡面仕上げを行う。
、その上にさらにＣｒｔどの下地層、Ｃｏ−Ｎｉ系合金
などの磁性層、 Ｓｌｏｇなどの保護潤滑層をこの順に
連続的にスパッタした積層体として構成される。基板材
料には軽量で適当な強度を有することがらＭ合金が広く
用いられている。磁気ディスクを製造するに際して、基
板として用いるディスク状Ｍ合金は旋盤加工および加圧
焼鈍を施して主表面のうねりを２０μ以下に仕上げた後
、その上にＮ１−Ｐ合金の無電解めっき層を３０−程度
被覆して表面に必要な硬さを付与し、これを平均表面粗
さ０．０２ｘ、厚さ１５−まで鏡面仕上げを行う。
しかし、磁気ディスクの基板にＭ合金を用いるときは、
上述のような加工工程を避けることができず、したがっ
てこれが磁気ディスクのコストを高める要因となってい
る。そこで磁気ディスクのコスト低減を図るためには、
基板のり合金に代り、軽量で強く、加工時間が少なくて
済む材料としてプラスチックを使用することが考えられ
る０例えば炭酸カルシウム含をポリエステルプリミック
スやポリエーテルイミドを射出成形することにより磁気
ディスク用基板として必要な表面平滑性を得ることがで
きる０本発明者らは硬化時に０．１％以下の低収縮率を
もつ不飽和ポリエステル樹脂に通量の無機質充填剤と補
強材を添加し、良好な硬さ。
上述のような加工工程を避けることができず、したがっ
てこれが磁気ディスクのコストを高める要因となってい
る。そこで磁気ディスクのコスト低減を図るためには、
基板のり合金に代り、軽量で強く、加工時間が少なくて
済む材料としてプラスチックを使用することが考えられ
る０例えば炭酸カルシウム含をポリエステルプリミック
スやポリエーテルイミドを射出成形することにより磁気
ディスク用基板として必要な表面平滑性を得ることがで
きる０本発明者らは硬化時に０．１％以下の低収縮率を
もつ不飽和ポリエステル樹脂に通量の無機質充填剤と補
強材を添加し、良好な硬さ。
熱膨張係数を有し、表面精度の高い磁気ディスク用基板
を特願昭６３−４６６５９号により出願中である。
を特願昭６３−４６６５９号により出願中である。
しかしながら、これらすぐれたプラスチック製基板も詳
細に観察すると、射出成形時におけるゲート近傍や基板
の外周部に部分的に表面平滑性が劣る個所がみられるこ
とがある。
細に観察すると、射出成形時におけるゲート近傍や基板
の外周部に部分的に表面平滑性が劣る個所がみられるこ
とがある。
この表面の平滑性を高めるために従来知られている二つ
の方法がある。その第１の方法は表面を研磨して全体を
平坦にすることであるが、これは研磨によって生じ付着
する微粉をスポンジなどでこすり落とす洗浄工程を避け
ることができず、その後の乾燥工程や基板に内蔵される
プラスチックの分解ガス成分を除去する脱ガス工程など
を伴い、研磨工程とともに工数を増すので好ましい方法
ではない。
の方法がある。その第１の方法は表面を研磨して全体を
平坦にすることであるが、これは研磨によって生じ付着
する微粉をスポンジなどでこすり落とす洗浄工程を避け
ることができず、その後の乾燥工程や基板に内蔵される
プラスチックの分解ガス成分を除去する脱ガス工程など
を伴い、研磨工程とともに工数を増すので好ましい方法
ではない。
第２の方法は表面に生じた凹部を埋めることであり、ア
クリル系やシリコン系のプラスチックを表面にスパッタ
し被膜を形成するのも一般に知られているがスパッタは
表面の凹凸形状に逼従して成膜されるために、かなり厚
くしなければならないのと、これらプラスチック材は硬
さが小さいので表面が傷つきやすいなどの欠点がある。
クリル系やシリコン系のプラスチックを表面にスパッタ
し被膜を形成するのも一般に知られているがスパッタは
表面の凹凸形状に逼従して成膜されるために、かなり厚
くしなければならないのと、これらプラスチック材は硬
さが小さいので表面が傷つきやすいなどの欠点がある。
この点は塗布で行なっても同じである。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は硬さが大きく、十分な表面平滑性を付与する塗膜を
もった磁気ディスク用プラスチック基板を提供すること
にある。
的は硬さが大きく、十分な表面平滑性を付与する塗膜を
もった磁気ディスク用プラスチック基板を提供すること
にある。
上記課題を解決するために、本発明の磁気ディスク用プ
ラスチック基板は熱変形温度１５０℃以上のプラスチッ
ク製基板上に、ディップ法を用いてＳｉｎオを主成分と
する塗膜を１５０℃で硬化させ０．３〜０．６−の厚さ
に形成したものである。
ラスチック基板は熱変形温度１５０℃以上のプラスチッ
ク製基板上に、ディップ法を用いてＳｉｎオを主成分と
する塗膜を１５０℃で硬化させ０．３〜０．６−の厚さ
に形成したものである。
本発明ではプラスチック基板上に、ディップ法を用いて
Ｓｉｎ、を主成分とする塗料を適切な引上速度で塗布し
ているために、基板表面の局所的に形成される凹部に塗
料が充填し余分の塗料は流れ落ちて適切な厚さの塗膜が
形成されて基板表面の平滑性が向上し、しかも基板には
熱変形温度１５０℃以上のプラスチックを用いているか
ら、１５０℃という塗膜の適切な硬化温度に耐え、硬さ
の大きい塗膜が得られる。
Ｓｉｎ、を主成分とする塗料を適切な引上速度で塗布し
ているために、基板表面の局所的に形成される凹部に塗
料が充填し余分の塗料は流れ落ちて適切な厚さの塗膜が
形成されて基板表面の平滑性が向上し、しかも基板には
熱変形温度１５０℃以上のプラスチックを用いているか
ら、１５０℃という塗膜の適切な硬化温度に耐え、硬さ
の大きい塗膜が得られる。
以下本発明を実施例に基づき説明する。
まずプラスチック基板の作製であるが、これは熱変形温
度が２００℃以上で良好な表面平滑性が得られる樹脂と
して、硬化時に０．１％以下の収縮率を示す不飽和ポリ
エステル樹脂に、最大粒径が５−以下、平均粒径１μの
炭酸カルシウムを７８重量％添加し、射出成形して得ら
れた基板を用いた。
度が２００℃以上で良好な表面平滑性が得られる樹脂と
して、硬化時に０．１％以下の収縮率を示す不飽和ポリ
エステル樹脂に、最大粒径が５−以下、平均粒径１μの
炭酸カルシウムを７８重量％添加し、射出成形して得ら
れた基板を用いた。
このときの射出成形条件は成形温度１６０℃、射出圧力
５００ｋｇｆ／ａｊ、硬化時間４０秒である。この基板
の寸法は厚さ１．２７ｍｍ、中心に直径２５ｆｉの孔を
有する外径９５鶴の通称３．５インチディスク基板であ
る。
５００ｋｇｆ／ａｊ、硬化時間４０秒である。この基板
の寸法は厚さ１．２７ｍｍ、中心に直径２５ｆｉの孔を
有する外径９５鶴の通称３．５インチディスク基板であ
る。
成形のままの表面粗さは平均値で０．０３−＋最大値が
０．３２μである。
０．３２μである。
次にこの基板の両面にＳｔｏｗを主成分とする塗料例え
ば日本曹達社製の商品名アトロンＮ５Ｉ−３１０をディ
ップ法により塗布するが、その際引上速度の異なる以下
のような５種類の試料をそれぞれ１０枚作製した。
ば日本曹達社製の商品名アトロンＮ５Ｉ−３１０をディ
ップ法により塗布するが、その際引上速度の異なる以下
のような５種類の試料をそれぞれ１０枚作製した。
試料１：
上記アトロンＮ５Ｉ−３１０を満たした容器中に上記基
板を浸漬し、引上速度１５０ｔｍ／分で引き上げて基板
両面に塗料を付着させ、クリーンベンチ上で１０分間風
乾した後、１５０℃乾燥機中で２時間加熱硬化したもの
である。得られた塗膜の厚さを測定した結果１０枚の平
均で０．２−であり、表面粗さ平均値０．０２ｕ、最大
値０．２０−である、鉛筆硬度はいずれも７Ｈ以上であ
る。
板を浸漬し、引上速度１５０ｔｍ／分で引き上げて基板
両面に塗料を付着させ、クリーンベンチ上で１０分間風
乾した後、１５０℃乾燥機中で２時間加熱硬化したもの
である。得られた塗膜の厚さを測定した結果１０枚の平
均で０．２−であり、表面粗さ平均値０．０２ｕ、最大
値０．２０−である、鉛筆硬度はいずれも７Ｈ以上であ
る。
試料２：
試料１と異なる所は引上速度を２００ｆｌ／分としたこ
とにあり、その結果塗膜厚さは０ 、３ ｔｒｍ ＋表
面粗さの平均値０．００８ｆｍ、最大値０．１３０−と
なる。
とにあり、その結果塗膜厚さは０ 、３ ｔｒｍ ＋表
面粗さの平均値０．００８ｆｍ、最大値０．１３０−と
なる。
試料３：
同様に引上速度を３００ｍ／分とし、塗膜厚さがＱ 、
５ ｐａ 、表面粗さの平均値０．００６ｕ＋ 最大
値０．１００−のものである。
５ ｐａ 、表面粗さの平均値０．００６ｕ＋ 最大
値０．１００−のものである。
試料４：
同じく引上速度を５００ｆｉ／分としたものであり、塗
膜厚さ０ 、８ ｉｎｓ ＋表面粗さは平均値０．０２
ｎ、最大値０．２０μである。
膜厚さ０ 、８ ｉｎｓ ＋表面粗さは平均値０．０２
ｎ、最大値０．２０μである。
試料５：
引上速度はセ料２と同じ２００ｍｍ／分であるが塗膜の
硬化温度を１００℃として２時間硬化したものであり、
塗膜厚さはＱ 、 ３）ｒｍ 、表面粗さの平均値０．
００８ｎ、最大値０．１３０μである。
硬化温度を１００℃として２時間硬化したものであり、
塗膜厚さはＱ 、 ３）ｒｍ 、表面粗さの平均値０．
００８ｎ、最大値０．１３０μである。
以上の試料１〜５の塗膜を有するそれぞれ１０枚の基板
を用いて、その上にスパッタ装置により基板加熱温度１
００℃、アルゴンガス圧２〜４ Ｘ １０−”τＯｒｒ
＋ スパッタパワー１．５〜３．０ＫＨの条件でＣｒ
下地層０−２ｎ＋ Ｃｏ−Ｎ１−Ｃｒ磁性層Ｑ、０５−
＋ カーボン保護層０．０５Ｉｎａをこの順に連続スパ
ッタしてこれらを積層形成することにより磁気ディスク
を作製した。
を用いて、その上にスパッタ装置により基板加熱温度１
００℃、アルゴンガス圧２〜４ Ｘ １０−”τＯｒｒ
＋ スパッタパワー１．５〜３．０ＫＨの条件でＣｒ
下地層０−２ｎ＋ Ｃｏ−Ｎ１−Ｃｒ磁性層Ｑ、０５−
＋ カーボン保護層０．０５Ｉｎａをこの順に連続スパ
ッタしてこれらを積層形成することにより磁気ディスク
を作製した。
これら磁気ディスクについて分解能、ＳＮ比。
エラー発生率０．１％以上の枚数、および温度６０℃。
相対湿度９０％の雰囲気に５００時間放置後の耐食性を
調べた。これら磁気ディスク特性の結果を各試料Ｎｏ、
毎に前述の塗膜の条件と対照できるように第１図に示し
た。
調べた。これら磁気ディスク特性の結果を各試料Ｎｏ、
毎に前述の塗膜の条件と対照できるように第１図に示し
た。
第１図の耐食性は電磁変換特性変化に対して初期特性の
保持率が９９％以上のものを０．９７％以上を０．９０
％以下を×で表わしている。
保持率が９９％以上のものを０．９７％以上を０．９０
％以下を×で表わしている。
第１図かられかるようにディップ法により浸漬された基
板を塗料から引き上げる速度が速いほど塗膜の厚さが大
きくなる。しかし引上速度が１５０鶴／分の試料１では
塗膜厚さが０．２ｉｒｍであって、膜厚が薄過ぎてピン
ホールが残り、表面の平滑性が十分改善されない上に、
磁気ディスクとしたときのエラー発生率０．１％以上の
ものが１０枚中通枚も生ずる。ただピンホール程度の小
さい孔であるために耐食性は悪くならない、一方引上速
度を５００ｆｉ ／分とした最も速い試料４では、形成
される塗膜の厚さが０．８−となり、これは膜厚が厚過
ぎて収縮時にクランクが入り、表面の平滑性は改善され
ず、これも磁気ディスクのエラー発生率０．１％以上の
ものが１０枚中通枚である。また引上速度は２００ｆｌ
／分であるが塗膜の硬化温度を１００℃とした試料５で
は塗膜の硬化が不十分であるために、磁気ディスクの耐
食試験における６０℃、 Ｒ１１９０％、５００時間放
置のときに塗膜が変質し、耐食性が低下する。
板を塗料から引き上げる速度が速いほど塗膜の厚さが大
きくなる。しかし引上速度が１５０鶴／分の試料１では
塗膜厚さが０．２ｉｒｍであって、膜厚が薄過ぎてピン
ホールが残り、表面の平滑性が十分改善されない上に、
磁気ディスクとしたときのエラー発生率０．１％以上の
ものが１０枚中通枚も生ずる。ただピンホール程度の小
さい孔であるために耐食性は悪くならない、一方引上速
度を５００ｆｉ ／分とした最も速い試料４では、形成
される塗膜の厚さが０．８−となり、これは膜厚が厚過
ぎて収縮時にクランクが入り、表面の平滑性は改善され
ず、これも磁気ディスクのエラー発生率０．１％以上の
ものが１０枚中通枚である。また引上速度は２００ｆｌ
／分であるが塗膜の硬化温度を１００℃とした試料５で
は塗膜の硬化が不十分であるために、磁気ディスクの耐
食試験における６０℃、 Ｒ１１９０％、５００時間放
置のときに塗膜が変質し、耐食性が低下する。
これに対して試料２．！＆料３の引上速度を２００１／
分および３００ｍｍ／分とし、１５０℃、２時間硬化す
ることにより形成された塗膜は厚さがそれぞれ０．３ｎ
＋ ０．６ ｎであり、いずれも十分な硬さとすぐれた
表面平滑性を有し、これらの基板を用いて作製した磁気
ディスク特性も分解能、ＳＮ比は規格値を上廻り、エラ
ー発生率０．１％以上となるものは全くなく、耐食性も
十分であるという結果が得られた。
分および３００ｍｍ／分とし、１５０℃、２時間硬化す
ることにより形成された塗膜は厚さがそれぞれ０．３ｎ
＋ ０．６ ｎであり、いずれも十分な硬さとすぐれた
表面平滑性を有し、これらの基板を用いて作製した磁気
ディスク特性も分解能、ＳＮ比は規格値を上廻り、エラ
ー発生率０．１％以上となるものは全くなく、耐食性も
十分であるという結果が得られた。
本実施例に用いた商品名７トロンＮ５ｉ−３１０などの
５ｉ０１系塗料は通常完全に硬化させる温度条件として
少なくとも３００℃が必要であり、そのため−般にはガ
ラスなどに塗布してＮａの熱拡散を防止するのに用いら
れ、プラスチックの表面処理剤として用いられることは
ないが、本発明者は１５０℃という温度で加熱硬化する
ことにより、完全に硬化はしないが、硬さはプラスチッ
クより大きいことに着目し、ディップ法を用いて適切な
引上速度と得られる塗膜厚さを設定し、十分な硬さと表
面平滑性をもつ塗膜をプラスチック板表面に形成するこ
とができたものである。そのため使用するプラスチック
基材の熱変形温度は少なくとも１５０℃以上であること
が必要である。
５ｉ０１系塗料は通常完全に硬化させる温度条件として
少なくとも３００℃が必要であり、そのため−般にはガ
ラスなどに塗布してＮａの熱拡散を防止するのに用いら
れ、プラスチックの表面処理剤として用いられることは
ないが、本発明者は１５０℃という温度で加熱硬化する
ことにより、完全に硬化はしないが、硬さはプラスチッ
クより大きいことに着目し、ディップ法を用いて適切な
引上速度と得られる塗膜厚さを設定し、十分な硬さと表
面平滑性をもつ塗膜をプラスチック板表面に形成するこ
とができたものである。そのため使用するプラスチック
基材の熱変形温度は少なくとも１５０℃以上であること
が必要である。
磁気ディスク用基板はそのコストを低減させるためにＭ
合金に代ってプラスチックを用いるのが有用であるが、
射出成形のままではゲート付近や外周部などに表面の平
滑性が局部的に十分でない個所が生じ、これが原因とな
って磁気ディスクとしたときの特性を損なうので、基板
表面に塗料を塗布することにより表面平滑性を付与して
いた。
合金に代ってプラスチックを用いるのが有用であるが、
射出成形のままではゲート付近や外周部などに表面の平
滑性が局部的に十分でない個所が生じ、これが原因とな
って磁気ディスクとしたときの特性を損なうので、基板
表面に塗料を塗布することにより表面平滑性を付与して
いた。
しかし従来は必ずしも満足したものが得られなかったの
に対して、本発明では実施例で述べたように、ＳｉＪを
主成分とする塗料をディップ法により適切な引上速度に
より最適膜厚範囲に塗膜を形成し、１５０℃で塗膜を硬
化させるために、熱変形温度１５０℃以上のプラスチッ
ク基材を用いることができ、硬さの大きい表面平滑性の
すぐれた塗膜が得られ、これを基板として作製した磁気
ディスクは十分満足できる特性を発渾することができる
。
に対して、本発明では実施例で述べたように、ＳｉＪを
主成分とする塗料をディップ法により適切な引上速度に
より最適膜厚範囲に塗膜を形成し、１５０℃で塗膜を硬
化させるために、熱変形温度１５０℃以上のプラスチッ
ク基材を用いることができ、硬さの大きい表面平滑性の
すぐれた塗膜が得られ、これを基板として作製した磁気
ディスクは十分満足できる特性を発渾することができる
。
第１１！Ｉは塗膜の条件と磁気ディスク特性の対応を示
した図表である。
した図表である。
Claims (1)
- １）主表面に平滑性を付与する塗膜を備えた磁気ディス
ク用プラスチック基板であって、１５０℃以上の熱変形
温度を有するプラスチック板表面に、ディップ法を用い
てＳｉＯ＿２を主成分とする塗膜を１５０℃で硬化させ
、０．３〜０．６μｍの厚さに形成したことを特徴とす
る磁気ディスク用プラスチック基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29905588A JPH02146108A (ja) | 1988-11-26 | 1988-11-26 | 磁気ディスク用プラスチック基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29905588A JPH02146108A (ja) | 1988-11-26 | 1988-11-26 | 磁気ディスク用プラスチック基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02146108A true JPH02146108A (ja) | 1990-06-05 |
Family
ID=17867625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29905588A Pending JPH02146108A (ja) | 1988-11-26 | 1988-11-26 | 磁気ディスク用プラスチック基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02146108A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6406354B1 (en) | 1998-04-27 | 2002-06-18 | Wacoal Corporation | Tape-like connecting device and women's clothing with cups |
-
1988
- 1988-11-26 JP JP29905588A patent/JPH02146108A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6406354B1 (en) | 1998-04-27 | 2002-06-18 | Wacoal Corporation | Tape-like connecting device and women's clothing with cups |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4254189A (en) | Disc having substrate, intermediate layer and magnetically sensitive layer wherein intermediate layer has melting point less than annealing temperature of substrate but higher than processing temperature of magnetically sensitive layer | |
| KR910006150B1 (ko) | 자기 기록매체 및 그 제조방법 | |
| JPS59221832A (ja) | 複合磁気デイスク | |
| EP0164727B1 (en) | Composite substrate plate for magnetic or optical disk and process for production thereof | |
| JPH0520658A (ja) | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 | |
| JPH02146108A (ja) | 磁気ディスク用プラスチック基板 | |
| EP0144705B1 (en) | Optical recording medium and process for producing the same | |
| JP2000135718A (ja) | 複合スタンパ | |
| JPH07192260A (ja) | 表面に凹凸形状を有する磁気記録媒体の製造方法 | |
| EP0109481A2 (en) | Magnetic recording disk | |
| JP3208583B2 (ja) | 光ディスク | |
| JP2547994B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6186221A (ja) | 光デイスク用基板の製造方法 | |
| JPS6195936A (ja) | 複合基板 | |
| JPS63503018A (ja) | 基板に平滑面を付与する方法 | |
| JPH0371426A (ja) | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 | |
| JPH02189717A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS6379230A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS60264250A (ja) | 金属板と樹脂薄膜との複合基板の製造方法 | |
| JPS61105726A (ja) | リジツド磁気デイスク | |
| JPS62128021A (ja) | 磁気デイスク基板 | |
| JPH02132635A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPS60223026A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH02130718A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0366732B2 (ja) |