JPS6231018A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、新規な磁気記録媒体およびこの磁気記録媒体
を製造する方法に関する。

［発明の背景］ 最近、オーディオテープ、ビデオテープあるいはコンピ
ューター用磁気テープなどとして磁気記録媒体が広く利
用されている。

磁気記録媒体は、基本的には非磁性支持体と非磁性支持
体上に積層された磁性層よりなる。

最近、オーディオテープ、ビデオテープあるいはコンピ
ューター用磁気テープなどの磁気記録媒体は、記録波長
を短くするなどして高密度記録するとの要求が強くなっ
てきており、電磁変換特性を更に改善することが要求さ
れている。

このような要請下に、使用する強磁性微粉末の抗磁力の
改良がなされており、近年では抗磁力が５００エルステ
ッド以上の強磁性微粉末が使用されている。しかしなが
ら、このような高い抗磁力を有する強磁性微粉末を使用
したとしても電磁変換特性の改善が充分でないとの問題
があり、特に短波長の再生出力の改善が不充分である。

通常、磁気記録媒体に記録される信号は、短波長のもの
から長波長のものまで種々様々である。

これらの記録される信号は、磁性層中に均一に記録され
るのではなく、その波長により磁性層中において記録さ
れる部分は異なっている。

具体的には、短波長側の信号は磁性層の比較的表面に近
い部分に記録され、長波長側の信号は磁性層の深部（磁
性層の非磁性支持体に近い部分）にかけて記録される傾
向がある。

一方、記録される信号の波長の再生出力と磁性層の強磁
性微粉末の充填率との関係に着目すると、充填率の上昇
と再生出力の向上とは、必ずしも比例関係にあるわけで
はなく、記録される波長の特性によって必要とされる強
磁性微粉末の充填率も異なる。

すなわち短波長側の信号を記録するためには、磁性層中
の強磁性微粉末の充填率（磁性層の単位体積中に存在す
る強磁性微粉末の重量：単位ｇ／ａｍ’）が高いことが
必要となるのに対して、長波長側の信号を記録するため
には、短波長側の信号を記録する場合のようには強磁性
微粉末の充填率が高いことは要求されない。

磁気記録媒体の電磁変換特性を向上させる方法としては
、一般には磁性層全体の強磁性微粉末の充填率を高くす
る方法が採られている。

しかしながら、上述したように磁気記録媒体に記録され
る信号は、その波長により磁性層中における記録部分が
異なり、さらに記録する為に必要となる強磁性微粉末の
充填率も異なることから、磁性層全体の強磁性微粉末の
充填率を一律に長波長の記録に最適な充填率とすると、
短波長の記録には不充分となり短波長の再生出力が充分
には向上しないとの問題がある。一方、短波長の記録に
最適な高い充填率とすると、低い充填率で飽和状態にな
る長波長の再生出力の向上は殆ど期待できないぽかりで
なく、磁性層の柔軟性が低下し、走行性に好ましくない
影響を与える。

［発明の目的］ 本発明は、良好な電磁変換特性を有する新規な磁気記録
媒体およびその磁気記録媒体を製造する方法を提供する
ことを目的とする。

さらに詳しくは本発明は、特に短波長の信号の再生出力
が改善された磁気記録媒体およびその磁気記録媒体を製
造する方法を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、非磁性支持体と該支持体上に結合剤中に分散
された抗磁力５００エルステッド以上の強磁性微粉末を
含む磁性層を有する磁気記録媒体において、磁性層の表
面から深さＩμｍ迄の範囲の強磁性微粉末の平均充填率
をＲ１、そして非磁性支持体に接する面からｌｋＬｍ迄
の範囲の磁性層の強磁性微粉末の平均充填率をＲ２とし
たときに１１ｉ　１　／　Ｒ２の値が１．１以上である
ことを特徴とする磁気記録媒体にある。

上記の磁気記録媒体は、共に抗磁力５００エルステッド
以上の強磁性微粉末と結合剤とを主成分とする磁性層形
成成分を含む第一磁性塗料と第二磁性塗料とを、第一磁
性塗料における磁性層形成成分に対する強磁性微粉末の
重量の比ｒ１と第二磁性塗料における磁性層形成成分に
対する強磁性微粉末の重量の比ｒ２とがｒｌ　／　ｒ　
２≧１．１（好ましくは２以下）なるように調製し、非
磁性支持体上に第二磁性塗料と第一磁性塗料とがこの順
に積層されるようにそれぞれの磁性塗料を塗布して磁性
層とすることを特徴とする製造方法により容易に製造す
ることができる。

あるいは１本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に
、抗磁力５００エルステッ、ド以上の強磁性微粉末と結
合剤とを主成分とする磁性層形成成分を含む磁性塗料を
塗布して磁性層を形成する工程、 磁性層の表面に電子線を照射して該表面近傍に存在する
結合剤の一部を除去する工程、および電子線が照射され
た磁性層の表面を加圧平滑化する工程、 を含む製造方法によっても容易に製造することができる
。

［発明の効果］ 本発明の磁気記録媒体は、従来の磁性層全体の強磁性微
粉末の充填率を均一にした磁性層を有する磁気記録媒体
に比較して、長波長側の信号の優れた再生出力を維持し
つつ、短波長の信号の再生出力が向上するとの利点があ
る。

［発明の詳細な記述］ 公知の磁気記録媒体は、基本的には非磁性支持体とその
表面に設けられた磁性層からなるものであり、本発明の
磁気記録媒体もまた基本的には同様の構成を有する。

非磁性支持体を形成する素材の例としては、ポリエステ
ル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルロース訪導体、
ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂およびポリ
アミドイミド系樹脂を挙げることができる。また、用途
に応じてアルミニウム、銅、スズおよび亜鉛、またはこ
れらを含む非磁性金属などの非磁性金属類、アルミニウ
ム等の金属を蒸着したプラスティック類、紙およびポリ
オレフィン類を塗布またはラミネートした紙などの紙類
も使用することができる。非磁性支持体の゛形態に特に
制限はないが、通常は、シート状のものが使用される。

ただし、非磁性支持体が、フィルム状、テープ状、ディ
スク状、カード状あるいはドラム状であっても良い。

シート状の非磁性支持体を使用する場合には、非磁性支
持体は、一般には５〜５０μｍの範囲内の厚さを有する
ものである。

非磁性支持体は、磁性層が付設されていない側の面にバ
ックコート層が備えられていてもよい。

抗磁力５００エルステッド以上の強磁性微粉末の例とし
てはコバルト被着強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二酸化ク
ロム微粉末、強磁性金属粉末およびバリウムフェライト
を挙げることができる。

強磁性微粉末は通常は針状のものを使用し、その針状比
は、好ましくは２／１〜２０／１（特に好ましくは５７
１〜２０／１）であって、かつ平均長さが０．２〜２．
０ｐｍのものを使用する。

強磁性微粉末の形状は針状に限定されるものではなく、
米粒状および板状のものなど通常使用されている形状の
ものを用いることができる。

強磁性微粉末としては、抗磁力５００エルステッド以上
のものであって、比表面積が４２ｍ″／ｇ以上（好まし
くは５０ｍ′／ｇ以上）の強磁性微粉末を用いることが
特に好ましい。

強磁性金属粉末を使用する場合には１強磁性金属粉末の
金属分のうち７５重量％以上（好ましくは８０重量％以
上）が強磁性の金属（例、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃ
ｏ、Ｆｅ−Ｎｆ、Ｃｏ　−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ１）−
ｃあッテ、その長径が１．０ｇｍ以下の粒子であること
が好ましい。

結合剤としては、磁気記録媒体の磁性層を形成するため
に通常用いられている熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂およ
び反応硬化性樹脂を用いる。

結合剤の例としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共１合体
系樹脂、セルロース誘導体、塩化ビニリデン系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニ
ルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ブ
タジェン・７クリロニトリル共重合体系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリフッ化ビニル系樹脂、ナイロンΦシリコ
ン系樹脂などの熱可塑性樹脂のうち軟化温度が１５０℃
以下であり、平均分子量が１万〜２００万の範囲内にあ
るもの並びにポリウレタン系樹脂、尿素系樹脂、メラミ
ン系樹脂、フェノキシ系樹脂、エポキシ系４６１詣、ウ
レタンエポキシ系樹脂、ポリエステルポリオールとポリ
インシアネートとの混合物、尿素・ホルムアルデヒド系
樹脂、ポリアミド系樹脂、低分子量グリコール・高分子
量ジオールΦトリフェニルメタントリインシアネートの
混合物などの熱硬化性樹脂あるいは反応硬化性樹脂のう
ち、硬化前の分子量が２０万以下であって、硬化反応に
より分子量がほぼ無限大になるものを挙げることができ
る。これらの樹脂を単独で、あるいは混合して使用する
ことができる。

結合剤としては特に塩化ビニル自酢酸ビニル共重合体と
ポリウレタン樹脂とを組合せて使用することが好ましい
、ポリウレタン樹脂と塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
とを組合わせて使用する場合、硬化剤としてポリイソシ
アネート化合物を併用することにより磁性層の走行耐久
性がさらに向上する。

結合剤として塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリウ
レタン樹脂、そしてポリイソシアネート化合物を使用す
る場合には、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体とポリウ
レタン樹脂とは、に０．１〜１：１の範囲内の配合比率
（重量）にて、そして、ポリウレタン樹脂とポリイソシ
アネート化合物とは、１：１〜１：３の配合比率（重量
）で使用することが好ましい。

磁性層には、潤滑剤、研摩材、分散剤、帯電防止剤およ
び防錆剤などの一般に使用されている添加剤が加えられ
ていてもよい。

たとえば、潤滑剤として使用することができる物質の例
としては、飽和あるいは不飽和高級脂肪酸、脂肪酸エス
テル、高級脂肪酸アミド、高級アルコール、シリコーン
オイル、鉱油、植物油およびフッ素系化合物並びにグラ
ファイトのような固体潤滑剤を挙げることができる。

公知の磁気記録媒体は、シートもしくはフィルム状の支
持体上に磁性層を塗布法により形成して製造されている
が、本発明の磁気記録媒体も基本的には同様の方法によ
り製造することができる。

本発明の磁気記録媒体は、例えば、共に抗磁力５００エ
ルステッド以上の強磁性微粉末と結合剤とを主成分とす
る磁性層形成成分（強磁性微粉末と結合剤および潤滑剤
、研摩材、分散剤、帯電防止剤、防錆剤などの他の磁性
層形成成分の全体を意味する）を含む第一磁性塗料と第
二磁性塗料とを、第一磁性塗料における磁性層形成成分
に対する強磁性微粉末の重量の比ｒ１と第二磁性塗料に
おける磁性層形成成分に対する強磁性微粉末の重量の比
ｒ２とがｒ１／　ｒ２≧１．１となるように調製し、非
磁性支持体上に第二磁性塗料と第一磁性塗料とがこの順
に積層されるようにそれぞれの磁性塗料を塗布して磁性
層とする方法により製造することができる。

ｒｌおよびｒ２の値を通常は２〜６ｇ／ｃｒｎ’の範囲
内（好ましくは３〜５ｇ／ｃｒｎ’の範囲内）に設定す
る。

塗布の際に非磁性支持体上には、強磁性微粉末が相対的
に少ない第二磁性塗料を塗布し、この第二磁性塗料上に
強磁性全粉末が相対的に多い第一磁性塗料を塗布する順
が採用される。

上記の塗布は、非磁性支持体上に第二磁性塗料を塗布し
たのちに第一磁性塗料を塗布する方法、あるいは、同時
重層塗布装置を利用して、非磁性支持体上に第二磁性塗
料と第一磁性塗料とを同時に重層塗布する方法を利用す
ることができる。

塗布厚さは、最終的に得られる磁気記録媒体の磁性層全
体の厚さが２．０〜１０μｍの範囲内の厚さとなるよう
にする。従って、重層塗布をする際には一層の塗布厚さ
は通常この半分の厚さを基準に設定される。

一般にこのように塗布された塗布層が未乾燥の状態で磁
場配向処理を行ない、磁性層に含有される強磁性微粉末
を配向させる。

磁場配向処理は、通常の方法に従って行なうことができ
る。

次に塗布層を乾燥工程に付して乾燥して磁性層とする。

乾燥工程は、通常５０〜１２０℃にて塗布層を加熱する
ことにより行なう、加熱時間は一般には１０秒間〜５分
間である。

乾燥したのち、通常は、８１性層に表面平滑化処理を施
す。

表面平滑化処理は、たとえば鏡面ロールとコツトンロー
ルとを交互に組合わせたカレンダーロールなどを用いて
、磁性層が鏡面ロールと常に接触するように配置して行
なうことができる。

通常表面平滑化処理した後、所望の形状に裁断して磁気
記録媒体とする。

このようにして製造された磁気記録媒体の磁性層は、二
層の強磁性微粉末の充填率の異なる層からなる。

そして、磁性層の表面側から深さＬｐｍの範囲内の強磁
性微粉末の平均充填率Ｒ１と、非磁性支持体側からＩｇ
ｍの範囲内の強磁性微粉末の平均充填率Ｒ２との関係に
おいて、ｌ（１／　ｌ（２の値は実質的にｒ１／　ｒ２
の値と一致する。

従って、二種類の磁性塗料のｒ１／　ｒ２の値を１．１
以上とすることによりＲ１／　Ｒ２の値を１．１以上と
することができる。

Ｒ１とＲ２の値は通常２〜Ｆ３ｇ／Ｃｍ″の範囲内（好
ましくは３〜５ｇ／ｃｍ′の範囲内）にある。

以上は、重層塗布による本発明の磁気記録媒体の製造方
法を説明したが、本発明の磁気記録媒体は、通常の方法
で塗布された磁性塗料の塗布層に電子線を照射すること
により磁性層の表面の結合剤の一部を除去した後、表面
平滑化処理を施すことによっても製造することができる
。

以下、この方法について説明する。

電子線を照射する方法において使用することができる非
磁性支持体および塗布層を形成する素材などは通常のも
のである。そして、塗布層は１．磁性塗料を一回塗布す
ることにより付設された通常のものであってよい。

従って、非磁性支持体への磁性塗料の塗布、乾燥、ある
いは所望により行なわれる磁場配向処理などは１通常の
方法に従って行なうことができる。

電子線を照射する方法は、非磁性支持体上に磁性塗料を
塗布し、乾燥された磁性層に電子線を照射した後、加圧
下に表面平滑化処理を行なうことにより実施することが
できる。電子線は、塗布層の非磁性支持体に面していな
い面に照射する。

使用する電子線は、通常は、イオン加速電圧が１００〜
１０００ｖ（好ましくは３００〜９００Ｖ）の範囲内の
ものであって、通常イオン電流密度は０　、０１−１　
’、　ＯｍＡ／ｃｍ’　（好ましくは０　、０５〜０　
、８ｍＡ／ｃｒｎ’）の範囲内にあるものである。

なお、電子線照射は、通常アルゴンガスなどで装置内部
の気体が置換され、減圧（たとえば、２　Ｘ　１０−’
　）−ル以下）に保たれた装置内で行なわれる。

電子線照射を行なう装置は、上記ような電子線を照射す
ることができるものであれば、特に限定されることはな
い、電子線照射装置の例としては、イオンミリング装置
を挙げることができる。

照射された電子線は、磁性層の表面に衝突して塗布層表
面近傍の強磁性微粉末を被覆している結合剤の一部を除
去して、さらに強磁性微粉末と強磁性微粉末との間隙の
結合剤を除去して部分的に凹部を形成するように作用す
る。上記のような電子線を使用することにより、塗布層
の表面から深さ１μｍの範囲内に電子線が到達し、この
電子線の到達した範囲内の結合剤を除去するためＰ／Ｂ
比（強磁性微粉末の重量／結合剤の重量の比）が実質的
に高くなり、そして、電子線の作用を受けない塗布層の
深部のＰ／Ｂ比は変化しない。

そして、電子線を照射した塗布層にスーパーカレンダー
ロールなどを用いて加圧下に表面平滑化処理を行なうこ
とにより、形成された凹部が低減または消滅して、磁性
層表面からＩμｍの範囲内にある強磁性微粉末の平均充
填率が高くなる。一方、磁性層の深部にまで電子線は到
達せず、結合剤が除去されることがないので、表面平滑
化処理を行なっても磁性層の深い部分における強磁性微
粉末の平均充填率は変化しない、従って、磁性層の表面
から深さＩμｍの範囲内の強磁性微粉末の平均充填率Ｒ
１と、非磁性支持体側から１４ｍの範囲内の強磁性微粉
末の平均充填率Ｒ２との関係において、Ｒ１／　Ｒ２の
値は１．１以上となる。

Ｒ１とＲ２の値は通常２〜６　ｇ　／　ｃ　ｒｒｆの範
囲内（好ましくは３〜５　ｇ　／　ｃ　ｍ’の範囲内）
にある。

北述した二種類の製造方法により得られる磁気記録媒体
は、磁性層の）ｌ　１　／　Ｒ２の値が１．１以上（好
ましくは１．１〜２．０の範囲内、特に好ましくは１．
１−１．５の範囲内）であり、磁性層表面近傍の強磁性
微粉末の平均充填率が高いのでこの部分に記録される短
波長の信１号の再生出力が高く、一方、磁性層の深い部
分の強磁性微粉末の平均充填率は従来の磁気記録媒体の
それと同程度であるので長波長の再生出力の低下はなく
、従って、特に短波長の再生出力が向上した優れた電磁
変換特性を有する。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

なお、以下の実施例および比較例において「部」との表
現は、すべて「重量部」を示す。

［実施例１−３および比較例１−２］ １亘並皇１沫 Ｃｏ被着ｙ−Ｆｅ２０．　　　　　　１００部［Ｈｃニ
ア５００ｅ、比表面積：　５５ｒｎ’／ｇｌ結合剤成分
　　　　　　　　　使用量第１表記載［結合剤Ｉ］塩化
ビ化層ニル酸ビニル共重合体［日本ゼオン■製、４００
Ｘ１１０Ａ］［結合剤■］ポリウレタン樹脂 ［日本ポリウレタン■製、 商品名：ニラボランＮ２３０１］ ［結合剤■］ポリイソシアネート化合物［バイエル社製
、デスモジュールＬ−７５］添加剤 カーボンブラック　　　　　　　　　　　１部［平均粒
子径＝４０ｍル］ α−アルミナ　　　　　　　　　　　　１部ステアリン
酸　　　　　　　　　　　　　　ｉ！！Ｂオレイン酸　
　　　　　　　　　　　　　　１部ステアリン酸ブチル
　　　　　　　　　　　１部産週 メチルエチルケトン　　　　　　　　５００部上記の強
磁性微粉末、第１表に記載した量の結合剤成分（ポリイ
ソシアネート化合物を除く）、添加剤および溶剤をサン
ドミルで充分混練したのち、第１表に記載した量のポリ
イソシアネート化合物を１００重量部のメチルエチルケ
トンに溶解して加え、ポリインシアネート化合物が均一
に分散されるまで混線を行なって第１表に示すそれぞれ
異なったＰ／Ｂ比を有する二種類の磁性塗料を製造した
。

得られた二種類の磁性塗料を厚さｌｏＪＬｍのポリエチ
レンテレフタレート支持体上に、乾燥膜厚がそれぞれ２
μｍになるように重層塗布し、磁性塗料が未乾燥の状態
でコバルト磁石を用いて磁場配向処理を行なった後、１
００℃に一分間加熱して溶剤を除去した。

乾燥後、鏡面ロールとコツトンロールとを交互に配置し
た亘設のカレンダーロールを用いて平滑化処理を行ない
、１部２インチ幅にスリットしてＶＨ５型ビデオテープ
を製造した。

得られたビデオテープのＲ１／Ｒ２と再生出力（記録波
長０．７μｍ）を第１表に記載する。

第１表 Ｉ　　　ＩＩ　　　ｍ　　　Ｒ２出力 １　第１層　９．１１１　　９．９　７．２　　約１．
１　　＋４第２層　１１．０　１１．０　８．０ ２　第１層　９．２　９．２　８．８　　約１．２　　
＋５第２層　！１．０　１１．０　８．０ ３　第１層　？、？　　７．７　５．Ｉｌｉ　　約１．
４　　＋５第２層　１１．０　１１．０　８．０ 比較例 １　第１層　１３．７５　１３．７５１０．０　　約０
．８０第２層　！１．０　１１．０　　Ｂ、０２　第１
層　１１．０　１１．０　８．０　　約１．０　　＋１
第２層　１１．０　１１．０　８．０ 再生出力は、上記と同様の装置を使用して上記と同一の
条件で得られたビデオテープを繰返し走行させたときの
記録波長０．７μｍの再生出力を測定し、比較例１で得
られたビデオテープの再生出力をＯｄＢとした時の相対
値として表記した。

［実施例４−８および比較例３］ １盈立皇１速 Ｃｏ被着ｙ−Ｆｅ２０３　　　　　　３００部［Ｈｃニ
ア５００ａ、比表面積：５５ｒｎ”／ｇ］級立鼠羞± 塩化ビニル番酢酸ビニル共重合体　　　２５部［ユニオ
ンガーバイド■製、 商品名：　ＶＭＣＨ］ ポリウレタン樹脂　　　　　　　　　　１６部［日本ポ
リウレタン■製、 商品名：ニラボランＮ２３０１］ ポリイソシアネート化合物　　　　　　　３部［バイエ
ル社製。

商品名：デスモジュールＬ−７５］ 監厘１ カーボンブラック　　　　　　　　　　　３部〔平均粒
子径：４０ｍＩＬ］ レシチン　　　　　　　　　　　　　０．１部オレイン
＃　　　　　　　　　　　　　　　４部ラウリン酸オク
チル　　　　　　　　　　５部ラウリン酸　　　　　　
　　　　　　　　　３部メチルエチルケトン　　　　　
　　　３００部酢酸ブチル　　　　　　　　　　　　５
００部ポリイソシアネート化合物を除く上記の磁性層成
分をサンドミルを用いて充分混練したのち、ポリイソシ
アネート化合物２０部を加えて、ポリイソシアネート化
合物が均一に分散するまで混線を行ない磁性塗料を調製
した。

得られた磁性塗料を厚さ１１０７Ｌのポリエチレンテレ
フタレート支持体上に、乾燥厚さが４ｇｍになるように
塗布し、磁性塗料が未乾燥の状態でコバルト磁石を用い
て磁場配向処理を行なった後１００℃に一分間加熱して
有機溶剤を除去した。

次いでイオンミリング装置（コモウェルズ社製）を用い
て塗布層の表面に電子線を照射した。

電子線照射はアルゴンガスを導入し、内部を２　Ｘ　１
０−４　）−ルに減圧した真空チェンバー内でイオン加
速電圧ａｏｏｖの条件にて、イオン電流密度を０．０５
ｍＡ／ｃｍ″（実施例４）、０．２ｍ　Ａ　／　ｃ　ｍ
″（実施例５）、０．４ｍＡ／ｃｍ″（実施例６）　、
　０　、６　ｍＡ／　ｃｒｎ”　（実施例７）および０
．８ｍＡ／ｃｒｎ’　（実施例８）に設定して行なった
。

電子線照射後、磁性層に鏡面ロールとコツトンロールと
を交互に配置した三段のカレンダーロールを用いて表面
平滑化処理（加圧条件：温度８５℃、線圧３００ｋｇ／
ｃｍ）行ない、１７２インチ幅にスリットしてＶＨ３型
ビデオテープを製造した。

得られたビデオテープの電子線処理の深さく磁性層表面
からの深さ）　、　ｉｌｌ　ｌ　／Ｒ２の値および記録
波長０．７ｐｍの再生出力をｔｌＳ２表に示す。

再生出力は、比較例３で得られたビデオテープの再生出
力をＯｄＢとしたときの相対値である。

［比較例３］ 実施例４において、電子線を照射しなかった以外は同様
にしてビデオテープを製造した。

得られたビデオテープのＲ１／　Ｒ２値および記録波＆
０．７ｇｍの再生出力を第２表に示す。

第２表 処理深さ　　ｌ止　　　再生出力 （ｕｍ）　　　Ｒ２（ｄＢ） 実施例４　　０．０５　　１．１　　　　＋３同　　５
　　　　０．２　　　　　　１．２　　　　　　＋４同
　　６　　　　０．４　　　　　１．３　　　　　　＋
５同　　７　　　　０．６　　　　　１．４　　　　　
　＋４同　　８　　　　０．８　　　　　１．５　　　
　　　＋４比較例３　　　−　　　　１．０　　　　０
特許出願人　　富士写真フィルム株式会社代　理　人　
　弁理士　　柳　川　泰　男手続祁１−ｘＥ書 昭和６０年　８月２９１１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性支持体と該支持体上に結合剤中に分散された
   抗磁力５００エルステッド以上の強磁性微粉末を含む磁
   性層を有する磁気記録媒体において、磁性層の表面から
   深さ１μｍ迄の範囲の強磁性微粉末の平均充填率をＲ＾
   １、そして非磁性支持体に接する面から１μｍ迄の範囲
   の磁性層の強磁性微粉末の平均充填率をＲ＾２としたと
   きに、Ｒ＾１／Ｒ＾２の値が１．１以上であることを特
   徴とする磁気記録媒体。 ２、上記Ｒ＾１／Ｒ＾２の値が１．１〜２．０の範囲内
   にあることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
   気記録媒体。 ３、磁性層の厚さが２〜１０μｍの範囲内にあることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項もしくは第２項記載の
   磁気記録媒体。 ４、強磁性微粉末が、比表面積４２ｍ＾２／ｇ以上の強
   磁性微粉末であることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項もしくは第２項記載の記載の磁気記録媒体。 ５、共に抗磁力５００エルステッド以上の強磁性微粉末
   と結合剤とを主成分とする磁性層形成成分を含む第一磁
   性塗料と第二磁性塗料とを、第一磁性塗料における磁性
   層形成成分に対する強磁性微粉末の重量の比ｒ＾１と第
   二磁性塗料における磁性層形成成分に対する強磁性微粉
   末の重量の比ｒ＾２とがｒ＾１／ｒ＾２≧１．１となる
   ように調製し、非磁性支持体上に第二磁性塗料と第一磁
   性塗料とがこの順に積層されるようにそれぞれの磁性塗
   料を塗布して磁性層とすることを特徴とする磁気記録媒
   体の製造方法。 ６、上記ｒ＾１／ｒ＾２の値が１．１〜２．０の範囲内
   にあることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の磁
   気記録媒体の製造方法。 ７、形成される磁性層の厚さが２〜１０μｍの範囲内に
   あることを特徴とする特許請求の範囲第５項もしくは第
   ６項記載の磁気記録媒体の製造方法。 ８、非磁性支持体上に、抗磁力５００エルステッド以上
   の強磁性微粉末と結合剤とを主成分とする磁性層形成成
   分を含む磁性塗料を塗布して磁性層を形成する工程、 磁性層の表面に電子線を照射して該表面近傍に存在する
   結合剤の一部を除去する工程、および電子線が照射され
   た磁性層の表面を加圧平滑化する工程、 を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ９、磁性層の厚さが２〜１０μｍの範囲内にあることを
   特徴とする特許請求の範囲第８項記載の磁気記録媒体の
   製造方法。 １０、電子線のイオン加速電圧が１００〜１０００Ｖの
   範囲内にあることを特徴とする特許請求の範囲第９項記
   載の磁気記録媒体の製造方法。