JPS6231050A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 炎丘斑１ 本発明はＥ−ＤＲΔＷ　（Ｅｒａｓａｂｌｅ−Ｄｉｒｅ
ｃｔ　Ｒｅａｄ＾ｆｔｅｒ　　１Ｊｒｉｔｅ）型光ディ
スクに関し、特に希土類金属元素と遷移金属元素とから
なるアモルファス合金を記録材料として薄膜形成した光
磁気記録媒体に関する。

１１弦Ｉ かかる従来の光磁気記録媒体の構造の一例を第２図の拡
大部分断面図にて示す。光透過性に優れているＰＭＭＡ
を射出成形した円板を基板１とし、該基板の主面上に磁
気記録膜としてＧｄＦｅ、ＴｂＦｅ等のアモルファス合
金膜２、及び５ｉｎ２゜ＡＩＮ等の保護膜３を順に積層
して従来の光磁気記録媒体は形成される。従来の光磁気
記録媒体は基板上に真空蒸着、スパッタリング等の方法
により直接アモルファス合金を設け、その上に真空蒸着
、スパッタリング、スピンコード法等により保護膜を設
けている。また、一定の条件下で成膜される希土類金属
と遷移金属との合金膜は、アモルファス構造をとり、膜
面に垂直な一軸磁気異方性を有することが知られている
。

かかる光磁気記録媒体の情報の記録再生は次のように行
われる。先ず、光磁気記録層であるアモルファス合金膜
２上にレーザービームを焦光することによってアモルフ
ァス合金をそのキューリ一温度又は補償温度付近の温度
まで局部的に加熱せしめる。この時、アモルファス合金
膜の昇温部分に記録すべき情報に対応して膜面垂直方向
に一様に磁界を印加し熱消磁又は磁極の反転の熱的効果
を利用して、一方向に一様に磁化された膜面内に小さな
反転磁区を任意に形成する。次に、この反転磁区に偏光
レーザ光を入射し、その反射光におけるファラデー効果
及び／又はカー効果による偏光楕円体の主軸の回転と楕
円率との変化から反転磁区の有無を信号として検出でき
る。このようにして光磁気記録媒体において反転磁区の
有無を１１１１＋、″Ｏ″に対応させることによって記
録情報の記録再生が可能となる。

従来からの希土類金属と遷移金属とのアモルファス合金
例えばＴｂＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＣ
ｏ等は、比較的キューリ一点、補償温度が低くかつ保磁
力があり光磁気効果及び磁気特性が光磁気記録材料とし
て適しているため光磁気記録媒体の記録膜材として注目
されその実用化が進んでいる。

しかしながら、これらアモルファス合金は酸化され易い
故に高温高湿の環境中では経時変化が生じて特性が劣化
するので長期の信頼性に欠は安定性に問題を有していた
。

この酸化は、アモルファス合金膜を直接大気に晒した場
合はもちろんのこと、ＰＭＭＡ射出成形基板に含まれる
腐蝕性物質あるいは大気中から該基板を透過してぎた腐
蝕性物質によっても起きる。

また、射出成形によるＰＭＭＡの基板ではその成形時に
おいて歪みが発生し、経時変化に伴いその歪みに基因す
るクランクが基板自体に入り易いという欠点を有しでて
おり、そのクラックから酸素、水等の腐蝕性物質が浸透
しやすくなるという欠点も有していた。

ｌ且ＩＬＩ 本発明の目的は、再生時のカー回転角を維持しつつ経時
変化の少ない長期保存性に優れた光記録媒体を提供する
ことである。

本発明の光磁気記録媒体は、基板の主面上に、複数の同
心円状の案内溝を有するが如く硬化せしめられた光硬化
性樹脂の第１保護膜と、希土類金属−遷移金属の合金か
らなり膜面に垂直な方向に一軸の磁気異方性を有するア
モルファス合金膜と、第２保護膜とを順に積層してなり
、前記基板はＰＭＭＡキャスト盤からなることを特徴と
する。

支−１−１ 以下、本発明の一実施例を添附図面に基づいて説明する
。

第１図は本実施例の光磁気記録媒体の構造を示す拡大部
分断面図である。該光磁気記録媒体は次のように作成さ
れる。先ず、成形時に内部応力歪の入りにくいＰＭＭＡ
キャスト円盤である基板１１の主面上に液状の光硬化性
樹脂を塗布して、基板中心から同心円状の案内溝を有し
たスタンパを塗布面に押圧し基板１１側から紫外線等の
光を照射することによって液状の光硬化性樹脂を硬化さ
せ複数の案内溝を担持した第１保護膜１２を形成する。

次に、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ等のアモルファス合
金膜からなる記録膜１３と、ＳｉＯ、ＡＩＮ等からなる
第２保護膜１４とを真空蒸着、スパッタリング、スピン
コード法等の方法により順に積層して本実施例の光磁気
記録媒体を得る。

基板１１であるＰＭＭＡキャスト円盤は、射出成形基板
に比較して基板の内部応力歪が小さいため室温５０℃、
９０％Ｒ，Ｈ，の環境下で２５００時間経過しても基板
にクラックが全く生じない。

ＰＭＭＡ　（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙ！　ｍｅｔｈａｃｒｙ
ｌａｔｅ　）はポリメタクリル酸エヌテルとして知られ
ており、その加圧成型及び射出成型品は通常のディスク
基板として使用されているが、本実施例では、有機ガラ
ス、レンズ、回折格子等として使用されているような鋳
込み成型品であるＰＭＭＡキャスト円盤が用いられてい
る。射出成型品は高圧加熱下で瞬時に成形するので徐々
に硬化せしめて成形する鋳込み成型品に比べて内部応力
歪が大ぎい。

第１保護膜１２である硬化した光硬化性樹脂は、その液
状の未硬化の光硬化性樹脂はフォトボリマとして知られ
ており、例えば紫外線等を受けることによって重合し硬
化する樹脂であり、例えばＵＶＸ−４（商品名二束亜合
成化学社製）、５Ｄ−１７（商品名二東亜合成化学社製
）等がある。これら樹脂による第１保護膜１２は、ＰＭ
ＭＡキャスト盤である基板１１から侵入する水分、ガス
等の腐蝕性物質を阻止してアモルファス合金膜１３を保
護する。

第３図は、搬送波ＩＭＨ２を記録した本実施例の光磁気
記録媒体と従来のものとについて、室温５０℃、９０％
Ｒ，Ｈ，の環境下に各々を放置し再生した場合における
各々のＣ／Ｎ比の相対比ΔＣ／Ｎの経時変化を調べた結
果を示すグラフである。第３図において、縦軸にΔＣ／
Ｎを示し、横軸に経過時間を示し、曲線Ａは本実施例の
光磁気記録媒体の経時変化を示し、曲線Ｂは従来の光磁
気記録媒体の経時変化を示している。グラフに示す如く
本実施例の光磁気記録媒体は従来のもの、よりΔＣ／Ｎ
の減少が少ないことが分る。

上記実施例ではＰＭＭＡキャスト基板とアモルファス合
金膜との間に一層だけの案内溝形状に硬化せしめて光硬
化性樹脂の第１保護膜を設けた構造を示したが、その第
１保護層を一層以上として設けたものでも良い。またＳ
　ｉ　Ｏ２、Ａ　Ｉ　Ｎ等の一層だけの第２保護膜の代
りにエポキシ系光硬化性樹脂の保護膜を一層又は二層以
上として第２保護層を設けても良い。こうすることによ
り、更に経時変化を押えることが出来る。

ｌ豆匹激」 以上のように本発明によれば、アモルファス合金膜とＰ
ＭＭＡキャスト基板との間に光硬化性樹脂の保護膜を設
けた構造にすることにより、酸化等による保磁力、カー
回転角の減少等の経時変化を少なくし長期用に亘って高
Ｃ／Ｎ比を維持する優れた光磁気記録媒体が得られる。

更に、本発明によれば、基板に内在する内部応力歪によ
るクラック、変形が減少するので腐蝕性物質の侵入が長
期間に亘って防げる故に長期信頼性の高い光磁気記録媒
体が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光磁気記録媒体の構造を示す拡大
部分断面図であり、第２図は従来の光磁気記録媒体の構
造を示す拡大部分断面図であり、第３図は従来の光磁気
記録媒体と本発明による光磁気記録媒体の室温５０℃、
９０％Ｒ，Ｈ，におけるΔＣ／Ｎ比の経時変化を示すグ
ラフである。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・透明基板 ２・・・・・・アモルファス合金膜 ３・・・・・・保護膜 １１・・・・・・ＰＭＭＡキャスト基板１２・・・・・
・光硬化性樹脂の第１保護膜１３・・・・・・アモルフ
ァス合金膜 １４・・・・・・第２保護膜

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板の主面上に、複数の同心円状の案内溝を有す
   るが如く硬化せしめられた光硬化性樹脂の第１保護膜と
   、希土類金属−遷移金属の合金からなり膜面に垂直な方
   向に一軸の磁気異方性を有するアモルファス合金膜と、
   第２保護膜とを順に積層してなり、前記基板はＰＭＭＡ
   キャスト盤からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
2. （２）前記第１保護膜が単層膜又は各々が相異なる光硬
   化性樹脂による多層膜からなることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の光磁気記録媒体。