JPS6232623A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS6232623A JPS6232623A JP60172619A JP17261985A JPS6232623A JP S6232623 A JPS6232623 A JP S6232623A JP 60172619 A JP60172619 A JP 60172619A JP 17261985 A JP17261985 A JP 17261985A JP S6232623 A JPS6232623 A JP S6232623A
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- Wire Bonding (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体装置に関し、特に半導体素子゛ を装
着させるリードフレームの接着性の改良に係るものであ
る。
着させるリードフレームの接着性の改良に係るものであ
る。
従来例によるこの種の半導体装置における半導体素子装
着用のリードフレームとしては、一般的に第3図(a)
に示す36ビンリードフレーム、同図(b)に示す28
ピンリードフレーム、同図(C)に示す40ビンリード
フレームなどを使用することが通常である。すなわち、
これらの各図において、符号1は例えば材料にコバール
、4270イなどを用いたリードフレーム基体であり、
このリードフレーム基体1には、第3図(a)および(
b)のようにAg層2をメッキさせるか、あるいは第3
図(C)のようにA文理3を蒸着させである。
着用のリードフレームとしては、一般的に第3図(a)
に示す36ビンリードフレーム、同図(b)に示す28
ピンリードフレーム、同図(C)に示す40ビンリード
フレームなどを使用することが通常である。すなわち、
これらの各図において、符号1は例えば材料にコバール
、4270イなどを用いたリードフレーム基体であり、
このリードフレーム基体1には、第3図(a)および(
b)のようにAg層2をメッキさせるか、あるいは第3
図(C)のようにA文理3を蒸着させである。
そして前記リードフレーム基体を用いた半導体素子の装
着は、第4図に示すように、前記例れかのリードフレー
ム基体1のAg層2あるいはAn層3に対し、一方では
半田あるいはAgエポキシ樹脂などの接合材料5を用い
て、半導体素子Bをダイボンドさせ、他方ではこの半導
体素子6の各電極とリードフレーム基体lの各端子部分
とを、例えばAnワイヤ線7によりワイヤボンドさせた
状態で、それぞれにパッケージベース8内にガラスなど
の固着材料9により取付けると共に、同様にガラスある
いはエポキシ樹脂などの封止材料IOによリ、リードフ
レーム基体lの端子部分を外部に取り出し、さらに同様
に封止材料lOによりパッケージi11を被蓋させたも
のである。
着は、第4図に示すように、前記例れかのリードフレー
ム基体1のAg層2あるいはAn層3に対し、一方では
半田あるいはAgエポキシ樹脂などの接合材料5を用い
て、半導体素子Bをダイボンドさせ、他方ではこの半導
体素子6の各電極とリードフレーム基体lの各端子部分
とを、例えばAnワイヤ線7によりワイヤボンドさせた
状態で、それぞれにパッケージベース8内にガラスなど
の固着材料9により取付けると共に、同様にガラスある
いはエポキシ樹脂などの封止材料IOによリ、リードフ
レーム基体lの端子部分を外部に取り出し、さらに同様
に封止材料lOによりパッケージi11を被蓋させたも
のである。
こ−で前記リードフレーム基体1にあって、Ag層2あ
るいはA1層3のそれぞれのうち、中央部分については
、半導体素子6自体を直接、半田付けとかAgエポキシ
樹脂などの各接合材料5により充分に接合固着させてダ
イボンドする範囲であって、これらの各固着材料5との
馴染み易さが、そのダイボンドのために重要な要因にな
り、またリード先端部分については、半導体素子6から
引き出されるAJIワイヤ線7を超音波ワイヤボンディ
ングなどにより良好かつ充分な強度で接続させる必要が
ある。
るいはA1層3のそれぞれのうち、中央部分については
、半導体素子6自体を直接、半田付けとかAgエポキシ
樹脂などの各接合材料5により充分に接合固着させてダ
イボンドする範囲であって、これらの各固着材料5との
馴染み易さが、そのダイボンドのために重要な要因にな
り、またリード先端部分については、半導体素子6から
引き出されるAJIワイヤ線7を超音波ワイヤボンディ
ングなどにより良好かつ充分な強度で接続させる必要が
ある。
しかしながらこの従来例によるリードフレーム基体にあ
っては、このようなダイボンド部と、ワイヤボンド部と
の異なる接合条件での要求に対して、これらの両者の要
求条件を同時に充分に満足させることが極めて難かしく
、このため従来においては、両者の要求に対して、これ
に適度に折れ合って適合する材料、すなわちこ\ではA
g層あるいは1層の何れか一方のみを個々に用いて一妥
協しているのが現況である。
っては、このようなダイボンド部と、ワイヤボンド部と
の異なる接合条件での要求に対して、これらの両者の要
求条件を同時に充分に満足させることが極めて難かしく
、このため従来においては、両者の要求に対して、これ
に適度に折れ合って適合する材料、すなわちこ\ではA
g層あるいは1層の何れか一方のみを個々に用いて一妥
協しているのが現況である。
この発明は従来のこのような問題点を解決するためにな
されたものであって、ダイボンド部およびワイヤボンド
部共に最適な状態で接合できるようにした半導体装置を
得ることを目的とする。
されたものであって、ダイボンド部およびワイヤボンド
部共に最適な状態で接合できるようにした半導体装置を
得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、ダイボンド部に対して、
ダイボンドロー材として最適なAg層をメッキして形成
させ、ワイヤボンド部に対して、 A見ワイヤ線のワイ
ヤボンドに最適なへ交層を蒸着して形成させたものであ
る。
ダイボンドロー材として最適なAg層をメッキして形成
させ、ワイヤボンド部に対して、 A見ワイヤ線のワイ
ヤボンドに最適なへ交層を蒸着して形成させたものであ
る。
従ってこの発明の場合、ダイボンド部に形成されたAg
層のノー2キ部分は、ダイボンディングに用いる半田ロ
ー材に対して、非常に良好な濡れ性を示して強力な付着
結合が得られるのであり、またワイヤボンド部に形成さ
れたA1層は、へ9.ワイヤ線の超音波ワイヤボンディ
ングに際して、同種金属による極めて良好かつ効果的な
接合ができるのである。
層のノー2キ部分は、ダイボンディングに用いる半田ロ
ー材に対して、非常に良好な濡れ性を示して強力な付着
結合が得られるのであり、またワイヤボンド部に形成さ
れたA1層は、へ9.ワイヤ線の超音波ワイヤボンディ
ングに際して、同種金属による極めて良好かつ効果的な
接合ができるのである。
以下この発明に係る半導体装置の一実施例につき、第1
図および第2図を参照して詳細に説明する。
図および第2図を参照して詳細に説明する。
第1図(a)、 (b)はこの実施例を適用した各別の
リードフレームを示す平面図、第2図は同上リードフレ
ームに半導体素子を装着させた状態の拡大断面図である
。
リードフレームを示す平面図、第2図は同上リードフレ
ームに半導体素子を装着させた状態の拡大断面図である
。
これらの第1図、第2図実施例において、前記第3図、
第4図従来例と同一符号は同一または相り部分を示して
おり、この実施例の場合、前記リードフレーム基体lに
対し、そのダイボンド部には、ダイボンドロー材として
最適なAg層4aをメッキして形成させ、またワイヤボ
ンド部には、 AJIワイヤ線7のワイヤボンドに最適
なA立居4bを蒸着して形成させたものである。すなわ
ち、この実施例MIi戊においては、ダイボンド部とワ
イヤボンド部とに、各別のいわゆる接合層をそれぞれに
形成させたものであって、この実施例装置においては、
このように構成されたリードフレーム基体lを用いて、
前記従来例と同様に半導体素子6の装着をなすのである
。
第4図従来例と同一符号は同一または相り部分を示して
おり、この実施例の場合、前記リードフレーム基体lに
対し、そのダイボンド部には、ダイボンドロー材として
最適なAg層4aをメッキして形成させ、またワイヤボ
ンド部には、 AJIワイヤ線7のワイヤボンドに最適
なA立居4bを蒸着して形成させたものである。すなわ
ち、この実施例MIi戊においては、ダイボンド部とワ
イヤボンド部とに、各別のいわゆる接合層をそれぞれに
形成させたものであって、この実施例装置においては、
このように構成されたリードフレーム基体lを用いて、
前記従来例と同様に半導体素子6の装着をなすのである
。
従ってこの実施例による装置構成の場合、ダイボンド部
に対しては、ダイボンドロー材として最適なAg層をメ
ッキして形成させたので、このノー2キ部分がダイボン
ディングに用いる半田ロー材との間で、非常に良好な濡
れ性を示して強力な付着結合が得られるのであり、また
別にワイヤボンド部に対しては、 Anワイヤ線のワイ
ヤボッドに最適なA文理を蒸着して形成させたので、こ
のA9゜層がAnワイヤ線の超音波ワイヤボンディング
に際して、同種金属による極めて良好かつ効果的な接合
が得られるのである。
に対しては、ダイボンドロー材として最適なAg層をメ
ッキして形成させたので、このノー2キ部分がダイボン
ディングに用いる半田ロー材との間で、非常に良好な濡
れ性を示して強力な付着結合が得られるのであり、また
別にワイヤボンド部に対しては、 Anワイヤ線のワイ
ヤボッドに最適なA文理を蒸着して形成させたので、こ
のA9゜層がAnワイヤ線の超音波ワイヤボンディング
に際して、同種金属による極めて良好かつ効果的な接合
が得られるのである。
なお、前記実施例装置においては、この発明を特定形状
構成のり−ドフレー1、基体に適用する場合について述
べたが、その他任意の形状構成によるリードフレーム基
体にも適用できて、全く同様な効果を奏し得ることは勿
論である。
構成のり−ドフレー1、基体に適用する場合について述
べたが、その他任意の形状構成によるリードフレーム基
体にも適用できて、全く同様な効果を奏し得ることは勿
論である。
以上詳述したようにこの発明によれば、 1個のリード
フレームに対して、ダイボンド部には、ダイボンドロー
材として最適なAg層を、ワイヤボンド部には、Alワ
イヤ線のワイヤボンドに最適なA文理をそれぞれ個別に
形成させておき、このリードフレ−ムのダイボンド部に
は、半導体素子をダイボンディングさせ、またそのワイ
ヤボンド部には、半導体素子の各端子から取り出したA
nワイヤ線をワイヤボンディングさせるようにしたから
、この種のリードフレームに対する半導体素子のダイボ
ンディングならびにワイヤボンディングを、最適な状態
で強力、確実に、しかも容易かつ効果的に密着接合、接
続できるものである。
フレームに対して、ダイボンド部には、ダイボンドロー
材として最適なAg層を、ワイヤボンド部には、Alワ
イヤ線のワイヤボンドに最適なA文理をそれぞれ個別に
形成させておき、このリードフレ−ムのダイボンド部に
は、半導体素子をダイボンディングさせ、またそのワイ
ヤボンド部には、半導体素子の各端子から取り出したA
nワイヤ線をワイヤボンディングさせるようにしたから
、この種のリードフレームに対する半導体素子のダイボ
ンディングならびにワイヤボンディングを、最適な状態
で強力、確実に、しかも容易かつ効果的に密着接合、接
続できるものである。
第1図(a) 、 (b)はこの発明の一実施例を適用
した各別のリードフレーム基体を示すそれぞれ平面図、
第2図は同Lリードフレーム基体に半導体素子を装着さ
せた状態を示す拡大断面図であり、また第3図(a)
、 (b) 、(c)は従来例による各別のリードフレ
ーム基体を示すそれぞれ平面図、第4図は同一ヒリード
フレーム基体に半導体素子を装着させた状態を示す拡大
断面図である。 1・・・・リードフレーム基体、4a・・・・ダイボン
ド部のAg層、4b・・・・ワイヤボンド部のへλ層、
5・・・・接合材料、6・・・・半導体素子27・・・
・lワイヤ線、8・・・・パッケージのベース、9・・
・・固着材料、lO・・・・封旧材料、 11・・・・
パッケージの蓋。 代理人 大 岩 増 縦笛1図 (G) 4bjA1層 (b)
した各別のリードフレーム基体を示すそれぞれ平面図、
第2図は同Lリードフレーム基体に半導体素子を装着さ
せた状態を示す拡大断面図であり、また第3図(a)
、 (b) 、(c)は従来例による各別のリードフレ
ーム基体を示すそれぞれ平面図、第4図は同一ヒリード
フレーム基体に半導体素子を装着させた状態を示す拡大
断面図である。 1・・・・リードフレーム基体、4a・・・・ダイボン
ド部のAg層、4b・・・・ワイヤボンド部のへλ層、
5・・・・接合材料、6・・・・半導体素子27・・・
・lワイヤ線、8・・・・パッケージのベース、9・・
・・固着材料、lO・・・・封旧材料、 11・・・・
パッケージの蓋。 代理人 大 岩 増 縦笛1図 (G) 4bjA1層 (b)
Claims (1)
- ダイボンド部にダイボンドロー材として最適なAg層を
、ワイヤボンド部にAlワイヤ線のワイヤボンドに最適
なAl層を、それぞれ個別に形成させたリードフレーム
を用い、前記ダイボンド部のAg層には、半導体素子を
ダイボンディングさせ、また前記ワイヤボンド部には、
前記半導体素子の各端子から取り出したAlワイヤ線を
ワイヤボンディングさせたことを特徴とする半導体装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60172619A JPS6232623A (ja) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60172619A JPS6232623A (ja) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6232623A true JPS6232623A (ja) | 1987-02-12 |
Family
ID=15945232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60172619A Pending JPS6232623A (ja) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6232623A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005039256A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-02-10 | Seiko Instruments Inc | 電気化学セルおよびその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5619052U (ja) * | 1979-07-20 | 1981-02-19 |
-
1985
- 1985-08-05 JP JP60172619A patent/JPS6232623A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5619052U (ja) * | 1979-07-20 | 1981-02-19 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005039256A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-02-10 | Seiko Instruments Inc | 電気化学セルおよびその製造方法 |
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