JPS6236015B2 - - Google Patents
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- JPS6236015B2 JPS6236015B2 JP52147691A JP14769177A JPS6236015B2 JP S6236015 B2 JPS6236015 B2 JP S6236015B2 JP 52147691 A JP52147691 A JP 52147691A JP 14769177 A JP14769177 A JP 14769177A JP S6236015 B2 JPS6236015 B2 JP S6236015B2
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- diaryliodonium
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/444—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5
- C07D207/448—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5 with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms, e.g. maleimide
- C07D207/452—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5 with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms, e.g. maleimide with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms, directly attached to the ring nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
- C07C25/18—Polycyclic aromatic halogenated hydrocarbons
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はジアリールヨードニウム光開始剤の製
造法に関する。特に本発明はジアリールヨードニ
ウムビサルフエート反応中間体を形成するに当つ
て酢酸の代りに溶媒としてメチレンクロライドを
使用することに関する。
造法に関する。特に本発明はジアリールヨードニ
ウムビサルフエート反応中間体を形成するに当つ
て酢酸の代りに溶媒としてメチレンクロライドを
使用することに関する。
本発明以前に、例えば米国特許第3981897号明
細書に記載されている如く、ジアリールヨードニ
ウムヘキサフルオロアルセネートの如き一定のハ
ロニウム塩光開始剤が、始め一般式 (1) 〔（Ｒ）ａ（R1）bI〕+〔HSO4）- （式中Ｒは１価芳香族有機基であり、R1は２
価芳香族有機基であり、ａは０〜２の整数であ
り、ｂは０〜１の整数であり、ａ＋ｂの合計は２
またはＩの原子価に等しい）のジアリールヨード
ニウムビサルフエートを形成せしめ、次いでジア
リールヨードニウムビサルフエートをヘキサフル
オロ化合物例えばヘキサフルオロ砒酸カリウムと
反応させて作られた。
細書に記載されている如く、ジアリールヨードニ
ウムヘキサフルオロアルセネートの如き一定のハ
ロニウム塩光開始剤が、始め一般式 (1) 〔（Ｒ）ａ（R1）bI〕+〔HSO4）- （式中Ｒは１価芳香族有機基であり、R1は２
価芳香族有機基であり、ａは０〜２の整数であ
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またはＩの原子価に等しい）のジアリールヨード
ニウムビサルフエートを形成せしめ、次いでジア
リールヨードニウムビサルフエートをヘキサフル
オロ化合物例えばヘキサフルオロ砒酸カリウムと
反応させて作られた。
上記米国特許第3981897号明細書に記載されて
いる方法は、種々なジアリールハロニウムヘキサ
フルオロ塩開始剤を作るために使用できる、しか
しこの方法は16時間またはそれ以上の反応時間を
含んでいる。更に生成物の収率は予測することが
しばしば困難である、その理由は結果がしばしば
再現性がないためである。上記米国特許第
3981897号明細書に記載されている如く、光開始
剤の製造におはる主工程は一般式(1)の中間体ジア
リールハロニウムビサルフエート塩の予備形成を
基にしている。これらのジアリールヨードニウム
ビサルフエート塩の製造法は、米国ニユーヨーク
市のビユア・アンド・アプライド・ケミストリー
のツエルフス・インテレクチユアル・コングレス
（1950年９月）の第465頁にベリー等によつて示さ
れている。ベリー等の方法は、酢酸、無水酢酸お
よび硫酸の混合物の存在下に、沃素酸カリウムに
よつて発生せしめうるヨージルサルフエートでベ
ンゼンを直接カツプリングさせることを含む。酢
酸−無水酢酸および硫酸の使用を基にしたベリー
等の方法は、長い反応時間を必要とすることが判
つており、しばしば低い収率をもたらし、再現す
ることが困難である。
いる方法は、種々なジアリールハロニウムヘキサ
フルオロ塩開始剤を作るために使用できる、しか
しこの方法は16時間またはそれ以上の反応時間を
含んでいる。更に生成物の収率は予測することが
しばしば困難である、その理由は結果がしばしば
再現性がないためである。上記米国特許第
3981897号明細書に記載されている如く、光開始
剤の製造におはる主工程は一般式(1)の中間体ジア
リールハロニウムビサルフエート塩の予備形成を
基にしている。これらのジアリールヨードニウム
ビサルフエート塩の製造法は、米国ニユーヨーク
市のビユア・アンド・アプライド・ケミストリー
のツエルフス・インテレクチユアル・コングレス
（1950年９月）の第465頁にベリー等によつて示さ
れている。ベリー等の方法は、酢酸、無水酢酸お
よび硫酸の混合物の存在下に、沃素酸カリウムに
よつて発生せしめうるヨージルサルフエートでベ
ンゼンを直接カツプリングさせることを含む。酢
酸−無水酢酸および硫酸の使用を基にしたベリー
等の方法は、長い反応時間を必要とすることが判
つており、しばしば低い収率をもたらし、再現す
ることが困難である。
本発明は反応混合物に使用する酢酸をメチレン
クロライドで置換すると、一般式(2) 〔（Ｒ）nＩ〕＋〔HSO4〕- （式中Ｒは１価芳香族有機基であり、ｍは２に
等しいがＩの原子価に等しい）のジアリールヨー
ドニウムビサルフエート塩（以後ビサルフエート
塩と略称する）の製造方法で、再現性および短縮
された反応時間のみならず高収率の著しい改良が
達成できることを見出したことに基いている。ビ
サルフエート塩の合成において酢酸の代りにメチ
レンクロライドを用いて達成される改良された結
果は、反応を約−25℃〜＋25℃、好ましくは−５
℃〜＋５℃の温度で行なうと達成できる。
クロライドで置換すると、一般式(2) 〔（Ｒ）nＩ〕＋〔HSO4〕- （式中Ｒは１価芳香族有機基であり、ｍは２に
等しいがＩの原子価に等しい）のジアリールヨー
ドニウムビサルフエート塩（以後ビサルフエート
塩と略称する）の製造方法で、再現性および短縮
された反応時間のみならず高収率の著しい改良が
達成できることを見出したことに基いている。ビ
サルフエート塩の合成において酢酸の代りにメチ
レンクロライドを用いて達成される改良された結
果は、反応を約−25℃〜＋25℃、好ましくは−５
℃〜＋５℃の温度で行なうと達成できる。
本発明によれば、
(A) メチレンクロライド、無水酢酸および硫酸よ
り本質的になる混合物の存在下に、−25℃〜＋
25℃のの温度で、Ｃ6〜20の芳香族化合物と沃
素酸カリウムの間でカツプリング反応を行なわ
せ、 (B) 上記(A)の混合物からジアリールヨードニウム
ビサルフエート塩を回収する ことからなる一般式(2)のビサルフエート塩の製造
法を提供する。
り本質的になる混合物の存在下に、−25℃〜＋
25℃のの温度で、Ｃ6〜20の芳香族化合物と沃
素酸カリウムの間でカツプリング反応を行なわ
せ、 (B) 上記(A)の混合物からジアリールヨードニウム
ビサルフエート塩を回収する ことからなる一般式(2)のビサルフエート塩の製造
法を提供する。
ビサルフエート塩は一般式
(3) MQ
〔式中Ｍは金属イオンであり、Ｑはアニオン、
例えばハロゲンイオン（例えば塩素、臭素、弗
素、沃素イオン等）、YF6（ＹはＰ、AsおよびSb
の如き第Va族元素から選択する）、NO3 -，
C104 -，CF3SO3，PO4 -3，SO4 -，HSO4 -，
CH3C6H5SO3 -等である〕の金属塩と反応させて
メタセシスによつて一般式 (4) 〔（Ｒ）nＩ〕＋〔Ｑ〕− （式中Ｒ，ｍおよびＱは前述した通りである）
のジアリールヨードニウム塩を作ることができ
る。一般式(4)のジアリールヨードニウム塩は、上
記米国特許第3981897号、および第3729313号、第
3808006号明細書に示されている如く光開始剤と
して使用できる。
例えばハロゲンイオン（例えば塩素、臭素、弗
素、沃素イオン等）、YF6（ＹはＰ、AsおよびSb
の如き第Va族元素から選択する）、NO3 -，
C104 -，CF3SO3，PO4 -3，SO4 -，HSO4 -，
CH3C6H5SO3 -等である〕の金属塩と反応させて
メタセシスによつて一般式 (4) 〔（Ｒ）nＩ〕＋〔Ｑ〕− （式中Ｒ，ｍおよびＱは前述した通りである）
のジアリールヨードニウム塩を作ることができ
る。一般式(4)のジアリールヨードニウム塩は、上
記米国特許第3981897号、および第3729313号、第
3808006号明細書に示されている如く光開始剤と
して使用できる。
Ｒによつて含まれる基は、同じかまたは異なる
炭素原子数６〜20を有する芳香族炭素環式または
複素環式基であることができ、これらはＣ1〜8の
アルコキシ基、Ｃ1〜8のアルキル基、ニトロ基、
塩素等から選択した１価の基１〜５個で置換され
ていることができる。Ｒは特にフエニル基、クロ
ロフエニル基、ニトロフエニル基、メトキシフエ
ニル基、ピリジル基等である。
炭素原子数６〜20を有する芳香族炭素環式または
複素環式基であることができ、これらはＣ1〜8の
アルコキシ基、Ｃ1〜8のアルキル基、ニトロ基、
塩素等から選択した１価の基１〜５個で置換され
ていることができる。Ｒは特にフエニル基、クロ
ロフエニル基、ニトロフエニル基、メトキシフエ
ニル基、ピリジル基等である。
一般式(1)のビサルフエート塩の幾つかの例には
例えばジフエニルヨードニウムビサルフエート、
４，4′−ジクロロジフエニルヨードニウムビサル
フエート、４，4′−ジブロモジフエニルヨードニ
ウムビサルフエート、３，３−ジニトロジフエニ
ルヨードニウムビサルフエート、４，4′−ジメチ
ルジフエニルヨードニウムビサルフエート、４，
4′−ビスクシンイミドジフエニルヨードニウムビ
サルフエート、３，3′−ジニトロジフエニルヨー
ドニウムビサルフエート、４，4′−ジメトキシジ
フエニルヨードニウムビサルフエートがある。
例えばジフエニルヨードニウムビサルフエート、
４，4′−ジクロロジフエニルヨードニウムビサル
フエート、４，4′−ジブロモジフエニルヨードニ
ウムビサルフエート、３，３−ジニトロジフエニ
ルヨードニウムビサルフエート、４，4′−ジメチ
ルジフエニルヨードニウムビサルフエート、４，
4′−ビスクシンイミドジフエニルヨードニウムビ
サルフエート、３，3′−ジニトロジフエニルヨー
ドニウムビサルフエート、４，4′−ジメトキシジ
フエニルヨードニウムビサルフエートがある。
一般式(3)の第Va族金属ヘキサフルオライド塩
に含まれるものには例えばNaPF6，NaAsF6，
KSbF6，KAsF6，Ca（PF6）2，Mg（AsF6）2，
HPF6，HAsF6，HSbF6，Ba（AsF6）2，Pb
（PF6）2，Zn（AsF6）2等がある。
に含まれるものには例えばNaPF6，NaAsF6，
KSbF6，KAsF6，Ca（PF6）2，Mg（AsF6）2，
HPF6，HAsF6，HSbF6，Ba（AsF6）2，Pb
（PF6）2，Zn（AsF6）2等がある。
一般式(4)のジアリールヨードニウム塩によつて
含まれるものには例えば 等の如き化合物がある。
含まれるものには例えば 等の如き化合物がある。
本発明の実施に当つては、ヨードニウムビサル
フエート塩は、芳香族化合物、沃素酸カリウム、
メチレンクロライド、硫酸および無水酢酸の混合
物を撹拌することによつて始め作られる。好適な
芳香族化合物には例えばベンゼン、トルエン、ｏ
−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、クロ
ロベンゼン、ブロモベンゼン、アルキルベンゼ
ン、ニトロベンゼン、Ｎ−フエニルマレイミドを
含む。
フエート塩は、芳香族化合物、沃素酸カリウム、
メチレンクロライド、硫酸および無水酢酸の混合
物を撹拌することによつて始め作られる。好適な
芳香族化合物には例えばベンゼン、トルエン、ｏ
−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、クロ
ロベンゼン、ブロモベンゼン、アルキルベンゼ
ン、ニトロベンゼン、Ｎ−フエニルマレイミドを
含む。
沃素酸カリウム１モルに対して実質的に２モル
の芳香族化合物が有効な結果を与えることが判つ
た。しかしながら沃素酸カリウム１モルについて
６モル〜２モルの芳香族化合物の割合を使用でき
る。硫酸、メチレンクロライドおよび無水酢酸は
過剰量で使用できる、しかし硫酸は沃素酸カリウ
ム１モルについて１〜３モルで使用するのが好ま
しい。混合物の固体濃度は10〜50重量％で変化さ
せることができる。
の芳香族化合物が有効な結果を与えることが判つ
た。しかしながら沃素酸カリウム１モルについて
６モル〜２モルの芳香族化合物の割合を使用でき
る。硫酸、メチレンクロライドおよび無水酢酸は
過剰量で使用できる、しかし硫酸は沃素酸カリウ
ム１モルについて１〜３モルで使用するのが好ま
しい。混合物の固体濃度は10〜50重量％で変化さ
せることができる。
ビサルフエート塩を形成させた後、それは混合
物から回収できる。別法として水を混合物に加え
てビサルフエート塩を分離することなく重硫酸カ
リウムを溶解することができる。次いで一般式(3)
の金属塩の水性溶液を撹拌している混合物に直接
加え、ジアリールヨードニウム金属塩の形成を生
ぜしめることができる。ジアリールヨードニウム
金属塩は混合物から沈澱として回収し、その後標
準法で過し、洗浄し、乾燥できる。
物から回収できる。別法として水を混合物に加え
てビサルフエート塩を分離することなく重硫酸カ
リウムを溶解することができる。次いで一般式(3)
の金属塩の水性溶液を撹拌している混合物に直接
加え、ジアリールヨードニウム金属塩の形成を生
ぜしめることができる。ジアリールヨードニウム
金属塩は混合物から沈澱として回収し、その後標
準法で過し、洗浄し、乾燥できる。
以下に実施例を挙げて本発明を説明する。部は
全て重量部である。
全て重量部である。
実施例 １
25部の沃素酸カリウム、約32部のベンゼン、約
50部の無水酢酸および約115部のメチレンクロラ
イドの混合物に、25部の濃硫酸を滴下して加え
た。混合物は０〜５℃で1.5時間保ち、次いで４
時間室温で撹拌した。次に50部の蒸溜水を混合物
に加えて重硫酸カリウムを溶解させ、続いて100
部の水に溶解した27部のヘキサフルオロ砒酸カリ
ウムを添加した。次いで混合物を２時間撹拌して
生成物の沈澱を生ぜしめた。生成物を過し、ヘ
キサンで洗浄した。次いで塩を50℃で減圧下に乾
燥した。かくして生成物を34.6部、63.5％の収率
で得た。製造法に基いて、生成物はジフエニルヨ
ードニウムヘキサフルオロアルセネートであつ
た。
50部の無水酢酸および約115部のメチレンクロラ
イドの混合物に、25部の濃硫酸を滴下して加え
た。混合物は０〜５℃で1.5時間保ち、次いで４
時間室温で撹拌した。次に50部の蒸溜水を混合物
に加えて重硫酸カリウムを溶解させ、続いて100
部の水に溶解した27部のヘキサフルオロ砒酸カリ
ウムを添加した。次いで混合物を２時間撹拌して
生成物の沈澱を生ぜしめた。生成物を過し、ヘ
キサンで洗浄した。次いで塩を50℃で減圧下に乾
燥した。かくして生成物を34.6部、63.5％の収率
で得た。製造法に基いて、生成物はジフエニルヨ
ードニウムヘキサフルオロアルセネートであつ
た。
４−ビニルシクロヘキセンオキサイド中の上記
ヘキサフルオロアルセネート塩の３％混合物を、
G.E.H3T7水銀アーク紫外線ランプ下に0.5分間照
射した。硬化した不粘着性のフルムを得た。
ヘキサフルオロアルセネート塩の３％混合物を、
G.E.H3T7水銀アーク紫外線ランプ下に0.5分間照
射した。硬化した不粘着性のフルムを得た。
メチレンクロライドの代りに115部の酢酸を用
いた以外は上記方法を同様に繰返した。更に硫酸
は無水酢酸に溶解した混合物に加えた。混合物を
約５℃で４時間撹拌した。次いで混合物を過し
た。液に200部の蒸溜水を加え、続いて200部の
ジエチルエーテルを加えた。次いで水性相を分離
してジエチルエーテルで抽出した。次に水性溶液
に26部のヘキサフルオロ砒酸カリウムを加えた。
混合物を２時間撹拌した。白色沈澱を得た、これ
を過し、水洗し、減圧下に乾燥した。かくして
24部のジフエニルヨードニウムヘキサフルオロア
ルセネートを得た、これは30％の収率であつた。
いた以外は上記方法を同様に繰返した。更に硫酸
は無水酢酸に溶解した混合物に加えた。混合物を
約５℃で４時間撹拌した。次いで混合物を過し
た。液に200部の蒸溜水を加え、続いて200部の
ジエチルエーテルを加えた。次いで水性相を分離
してジエチルエーテルで抽出した。次に水性溶液
に26部のヘキサフルオロ砒酸カリウムを加えた。
混合物を２時間撹拌した。白色沈澱を得た、これ
を過し、水洗し、減圧下に乾燥した。かくして
24部のジフエニルヨードニウムヘキサフルオロア
ルセネートを得た、これは30％の収率であつた。
酢酸を使用する上記方法を、反応混合物を約５
％で４時間の代りに18時間撹拌して繰返した。か
くして63％の収率でジフエニルヨードニウムヘキ
サフルオロアルセネートを得た。
％で４時間の代りに18時間撹拌して繰返した。か
くして63％の収率でジフエニルヨードニウムヘキ
サフルオロアルセネートを得た。
上記結果は本発明方法が一般式(4)によつて示さ
れるジアリールハロニウムヘキサフルオロ塩を作
るためのより急速な方法を提供することを示して
いる。本発明方法は約６時間の反応時間後に約63
％の収率を提供した。しかしながら、酢酸をメチ
レンクロライドの代りに用いた以外は同じ反応を
繰返したとき、収率は30％に低下した。しかもそ
れは本発明方法によつて得られる収率に匹敵する
収率を得るのに約18時間の全反応時間を必要とし
た。本発明方法は約３分の１の時間で達成され
た。
れるジアリールハロニウムヘキサフルオロ塩を作
るためのより急速な方法を提供することを示して
いる。本発明方法は約６時間の反応時間後に約63
％の収率を提供した。しかしながら、酢酸をメチ
レンクロライドの代りに用いた以外は同じ反応を
繰返したとき、収率は30％に低下した。しかもそ
れは本発明方法によつて得られる収率に匹敵する
収率を得るのに約18時間の全反応時間を必要とし
た。本発明方法は約３分の１の時間で達成され
た。
実施例 ２
25部の沃素酸カリウム、35部のトルエン、149
部のメチレンクロライドおよび54部の無水酢酸を
含有する０℃の撹拌混合物に45.5部の濃硫酸を加
えた。硫酸の添加には0.5時間を要した。反応は
０℃で４時間進行させた。この時間の終りに50部
の水を加えて、重硫酸カリウムを溶解させ、続い
て100部の水中の27部のヘキサフルオロ砒酸カリ
ウムを加えた。この２相混合物を２時間撹拌し
た。メチレンクロライド層を除去し、133部のヘ
キサンで稀釈し、24.8部の沈澱を生成させた、こ
れは４，4′−ジメチルジフエニルヨードニウムヘ
キサフルオロアルセネートの収率43％を表わす。
化合物の構造は、その融点166〜167℃を基にし、
およびその紫外線スペクトルおよび核磁気共鳴ス
ペクトルで同定した。
部のメチレンクロライドおよび54部の無水酢酸を
含有する０℃の撹拌混合物に45.5部の濃硫酸を加
えた。硫酸の添加には0.5時間を要した。反応は
０℃で４時間進行させた。この時間の終りに50部
の水を加えて、重硫酸カリウムを溶解させ、続い
て100部の水中の27部のヘキサフルオロ砒酸カリ
ウムを加えた。この２相混合物を２時間撹拌し
た。メチレンクロライド層を除去し、133部のヘ
キサンで稀釈し、24.8部の沈澱を生成させた、こ
れは４，4′−ジメチルジフエニルヨードニウムヘ
キサフルオロアルセネートの収率43％を表わす。
化合物の構造は、その融点166〜167℃を基にし、
およびその紫外線スペクトルおよび核磁気共鳴ス
ペクトルで同定した。
実施例 ３
実施例１の方法に従い、25部の沃素酸カリウ
ム、45部のＮ−フエニルマレイミド、160部のメ
チレンクロライドおよび54部の無水酢酸を一緒に
した。この反応混合物に、烈しく撹拌しながら、
45部の濃硫酸を0.5時間にわたつて除々に加え
た、この間温度は５℃以下に保つた。反応混合物
をこの温度で４時間保つた。次いで50部の水を加
えて重硫酸カリウムを溶解した。水を加えたと
き、黄色生成物の急速沈澱が生じた、これを過
し、エーテルで洗浄した。27％の収率で生成物を
得た、これはその核磁気共鳴スペクトルおよびそ
の分析を基にして式 の４，4′−ビス−Ｎ−フエニルマレイミドヨード
ニウムビサルフエートであることを確認した。
ム、45部のＮ−フエニルマレイミド、160部のメ
チレンクロライドおよび54部の無水酢酸を一緒に
した。この反応混合物に、烈しく撹拌しながら、
45部の濃硫酸を0.5時間にわたつて除々に加え
た、この間温度は５℃以下に保つた。反応混合物
をこの温度で４時間保つた。次いで50部の水を加
えて重硫酸カリウムを溶解した。水を加えたと
き、黄色生成物の急速沈澱が生じた、これを過
し、エーテルで洗浄した。27％の収率で生成物を
得た、これはその核磁気共鳴スペクトルおよびそ
の分析を基にして式 の４，4′−ビス−Ｎ−フエニルマレイミドヨード
ニウムビサルフエートであることを確認した。
上記ヨードニウムビサルフエート20部の水性溶
液に、20部の水中の10部の塩化アンモニウムの溶
液を加えた。直ちに４，4′−ビス−Ｎ−フエニル
マレイミドヨードニウムクロライドの沈澱が得ら
れた。
液に、20部の水中の10部の塩化アンモニウムの溶
液を加えた。直ちに４，4′−ビス−Ｎ−フエニル
マレイミドヨードニウムクロライドの沈澱が得ら
れた。
実施例 ４
25部の沃素酸カリウム、39部のｔ−ブチルベン
ゼン、54部の無水酢酸および153部のメチレンク
ロライドの混合物を撹拌して０℃に冷却した。反
応温度を０℃以下に保つため濃硫酸46部を徐々に
加えた。添加完了後反応混合物を０℃で１〜1.5
時間保ち、次いで室温で3.5時間撹拌した。全反
応時間は４〜５時間であつた。50部の蒸溜水を加
えて重硫酸カリウムを溶解した。次いでヘキサフ
ルオロリン酸カリウム21.5部を加えた。15分撹拌
した後、メチレンクロライド溶液を混合物から分
離し、生成物をエチルエーテルで粉砕した。塩を
別し、減圧乾燥してジ−（ｐ−ｔ−ブチルフエ
ニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフエー
ト33.2部を得た、収率52.7％であつた。
ゼン、54部の無水酢酸および153部のメチレンク
ロライドの混合物を撹拌して０℃に冷却した。反
応温度を０℃以下に保つため濃硫酸46部を徐々に
加えた。添加完了後反応混合物を０℃で１〜1.5
時間保ち、次いで室温で3.5時間撹拌した。全反
応時間は４〜５時間であつた。50部の蒸溜水を加
えて重硫酸カリウムを溶解した。次いでヘキサフ
ルオロリン酸カリウム21.5部を加えた。15分撹拌
した後、メチレンクロライド溶液を混合物から分
離し、生成物をエチルエーテルで粉砕した。塩を
別し、減圧乾燥してジ−（ｐ−ｔ−ブチルフエ
ニル）−ヨードニウムヘキサフルオロホスフエー
ト33.2部を得た、収率52.7％であつた。
実施例 ５
25部の沃素酸カリウム、40部のｏ−キシレン、
54部の無水酢酸および153部のメチレンクロライ
ドの混合物を撹拌し０℃に冷却した。濃硫酸46部
を徐々に加えて反応温度を０℃以下に保つた。添
加完了後、反応混合物を０℃で１〜1.5時間保つ
た。混合物を更に3.5時間室温で撹拌した。全反
応時間は４〜５時間であつた。次いで50部の蒸溜
水を加えて重硫酸カリウムを溶解した。次いで約
250部の水中の21.5部のヘキサフルオロリン酸カ
リウムを加えた。15分撹拌した後、メチレンクロ
ライド層を分離し、生成物をエチルエーテルで粉
砕した。塩を過し、減圧下に乾燥し、ジ−
（３，４−ジメチルフエニル）−ヨードニウムヘキ
サフルオロホスフエート27.9部を得た、収率は
49.2％であつた。
54部の無水酢酸および153部のメチレンクロライ
ドの混合物を撹拌し０℃に冷却した。濃硫酸46部
を徐々に加えて反応温度を０℃以下に保つた。添
加完了後、反応混合物を０℃で１〜1.5時間保つ
た。混合物を更に3.5時間室温で撹拌した。全反
応時間は４〜５時間であつた。次いで50部の蒸溜
水を加えて重硫酸カリウムを溶解した。次いで約
250部の水中の21.5部のヘキサフルオロリン酸カ
リウムを加えた。15分撹拌した後、メチレンクロ
ライド層を分離し、生成物をエチルエーテルで粉
砕した。塩を過し、減圧下に乾燥し、ジ−
（３，４−ジメチルフエニル）−ヨードニウムヘキ
サフルオロホスフエート27.9部を得た、収率は
49.2％であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (A) メチレンクロライド、無水酢酸および硫
酸から本質的になる混合物の存在下に、−25℃
〜＋25℃の温度で、Ｃ6〜20芳香族化合物と沃
素酸カリウムの間でカツプリング反応を行な
い、 (B) (A)の混合物からジアリールヨードニウムビサ
ルフエート塩を回収する ことを特徴とする一般式 〔（Ｒ）nＩ〕＋〔HSO4〕- （式中Ｒは１価芳香族有機基であり、ｍは２に
等しいかＩの原子価に等しい）のビサルフエート
塩の製造法。 ２ 芳香族化合物がベンゼンである特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ３ 芳香族化合物がトルエンである特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ４ 芳香族化合物がＮ−フエニルマレイミドであ
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 芳香族化合物がｔ−ブチルベンゼンである特
許請求の範囲第１項記載の方法。 ６ 芳香族化合物がｏ−キシレンである特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ７ メチレンクロライド、無水酢酸および硫酸か
ら本質的になる混合物の存在下に、−25℃〜＋25
℃の温度で、Ｃ6〜20芳香族化合物と沃素酸カリ
ウムの間でカツプリング反応を行なわせて作られ
た一般式 〔（Ｒ）nＩ〕＋〔HSO4〕- （式中Ｒは１価芳香族有機基であり、ｍは２ま
たはＩの原子価に等しい）のジアリールヨードニ
ウムビサルフエートおよび一般式 MQ （式中Ｍは金属イオンであり、Ｑはアニオンで
ある）の金属塩の間でメタセシスを行なうことを
特徴とする一般式 〔（Ｒ）nＩ〕＋〔Ｑ〕− （式中、ＲおよびＱは上述したとおりである）
のジアリールヨードニウム塩の製造法。 ８ ＱがYF6（Ｙは第Va族の元素である）であ
る特許請求の範囲第７項記載の方法。 ９ Ｙが砒素である特許請求の範囲第８項記載の
方法。 １０ Ｙがリンである特許請求の範囲第８項記載
の方法。 １１ Ｑが塩素イオンである特許請求の範囲第７
項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/749,116 US4151175A (en) | 1976-12-09 | 1976-12-09 | Method for making diarylhalonium salts |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53101331A JPS53101331A (en) | 1978-09-04 |
| JPS6236015B2 true JPS6236015B2 (ja) | 1987-08-05 |
Family
ID=25012329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14769177A Granted JPS53101331A (en) | 1976-12-09 | 1977-12-07 | Preparation of diaryliodonium salt |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4151175A (ja) |
| JP (1) | JPS53101331A (ja) |
| DE (1) | DE2754853A1 (ja) |
| FR (1) | FR2373505A1 (ja) |
| GB (1) | GB1572620A (ja) |
| IT (1) | IT1089957B (ja) |
| NL (1) | NL189607C (ja) |
Families Citing this family (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4196138A (en) * | 1977-05-20 | 1980-04-01 | General Electric Company | Dicarbonyl chelate salts |
| US4238394A (en) * | 1978-10-30 | 1980-12-09 | General Electric Company | Method for making diaryliodonium salts |
| US4329300A (en) * | 1980-06-27 | 1982-05-11 | General Electric Company | Method for making diaryliodonium polyhalometalloid salts |
| US4537725A (en) * | 1982-09-18 | 1985-08-27 | Ciba-Geigy Corporation | Diaryliodosyl salts |
| JPS59163330A (ja) * | 1983-03-09 | 1984-09-14 | Nippon Petrochem Co Ltd | ジアリ−ルヨ−ドニウム塩の製造方法 |
| JPS59163336A (ja) * | 1983-03-09 | 1984-09-14 | Nippon Petrochem Co Ltd | アルデヒドの製造法 |
| US4623666A (en) | 1984-11-06 | 1986-11-18 | Kennedy Thomas P | Pharmacological applications of diphenylhalonium ion |
| US5362607A (en) * | 1986-06-13 | 1994-11-08 | Microsi, Inc. | Method for making a patterned resist substrate composite |
| US5310619A (en) * | 1986-06-13 | 1994-05-10 | Microsi, Inc. | Resist compositions comprising a phenolic resin, an acid forming onium salt and a tert-butyl ester or tert-butyl carbonate which is acid-cleavable |
| US4840977A (en) * | 1987-10-01 | 1989-06-20 | General Electric Company | Polymeric iodonium salts, method for making, and heat curable compositions |
| US4845159A (en) * | 1987-10-01 | 1989-07-04 | General Electric Company | Photoactive and thermally active polymeric iodonium salts, use, and method for making |
| DE3902114A1 (de) * | 1989-01-25 | 1990-08-02 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesaettigte, copolymerisierbare sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung |
| DE69029104T2 (de) | 1989-07-12 | 1997-03-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse |
| US5488147A (en) * | 1994-07-21 | 1996-01-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Diaryliodonium fluoroalkyl sulfonate salts and a method of making |
| JPH0954437A (ja) | 1995-06-05 | 1997-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化学増幅型ポジレジスト組成物 |
| AU2002306752B2 (en) | 2001-03-30 | 2008-10-16 | The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Materials, methods, and uses for photochemical generation of acids and/or radical species |
| US7192681B2 (en) | 2001-07-05 | 2007-03-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
| KR101129515B1 (ko) | 2004-02-20 | 2012-03-30 | 후지필름 가부시키가이샤 | 포지티브 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 |
| US7504193B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-03-17 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern forming method using the same |
| GB2450975B (en) | 2007-07-12 | 2010-02-24 | Ciba Holding Inc | Yellow radiation curing inks |
| CN100577671C (zh) * | 2007-09-05 | 2010-01-06 | 武汉工程大学 | 4,4’-双十二烷基苯碘鎓六氟锑酸盐的合成方法 |
| WO2010128649A1 (ja) | 2009-05-08 | 2010-11-11 | 株式会社日本触媒 | ジアリールヨードニウム塩混合物とその製造方法、並びにジアリールヨードニウム化合物の製造方法 |
| US8343608B2 (en) | 2010-08-31 | 2013-01-01 | General Electric Company | Use of appended dyes in optical data storage media |
| KR101984329B1 (ko) | 2011-06-21 | 2019-05-30 | 바스프 에스이 | 종이 및 판지 상의 회절 격자 인쇄 |
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