JPS6236334A - 水酸基の脱保護法 - Google Patents
水酸基の脱保護法Info
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- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- 229940102001 zinc bromide Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は水酸基の脱保護法に関し、更に詳しくは一般式
%式%()
で表されるアセタール型アルコキシ置換芳香族化物を一
般式 %式%() で表されるヒドロキシ芳香族化物に変換する水酸基の脱
保護法に関する(式中、A「は置換又は未置換の芳香族
基であり、Rはα−アルコキシアルキル基であり、nは
1から母核芳香族化合物Arのもつ水素原子数までの値
をとりうる。)。
般式 %式%() で表されるヒドロキシ芳香族化物に変換する水酸基の脱
保護法に関する(式中、A「は置換又は未置換の芳香族
基であり、Rはα−アルコキシアルキル基であり、nは
1から母核芳香族化合物Arのもつ水素原子数までの値
をとりうる。)。
アセタール型保護基を有する芳香環上の水酸基キシメチ
ル基の場合、塩酸あるいは酢酸で処理す(1976)
; J、 Mad 、Ches 、、9
+ L(1966)) 、2− (ハキシ)エトキ
シ沓チル基の場合は、トリフルオロ酢酸あるいは臭化亜
鉛で処理する方法(J、 A@ 、 Chew 、 S
ac 、 。
ル基の場合、塩酸あるいは酢酸で処理す(1976)
; J、 Mad 、Ches 、、9
+ L(1966)) 、2− (ハキシ)エトキ
シ沓チル基の場合は、トリフルオロ酢酸あるいは臭化亜
鉛で処理する方法(J、 A@ 、 Chew 、 S
ac 、 。
100 、 8031 (197B ) ; Te
trahedronLett、、809 (1976)
)が報告されている。また保護基がテトラヒドロビラン
−2−イル基の場合、シェラ酸で処理する方法(Hel
v 。
trahedronLett、、809 (1976)
)が報告されている。また保護基がテトラヒドロビラン
−2−イル基の場合、シェラ酸で処理する方法(Hel
v 。
Chis 、 Acta 、16.415 (1963
))、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル基の場
合はフン化テトラブチルアンモニウムで処理する方法(
Tetrahedron Lett 、+ 2上、3
343(1980))が知られている。
))、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル基の場
合はフン化テトラブチルアンモニウムで処理する方法(
Tetrahedron Lett 、+ 2上、3
343(1980))が知られている。
しかし、たとえば、下記式(1)で表されるアスコフラ
ノン誘導体のように高度に官能基をもちかつアリル型置
換基を育する化合物に従来方法を適用すると脱保護が完
全にはおこらなかったり、(昌 分解がおこったりする。また強酸性条件下ではクロマン
型骨格に異性化したりするなどの副反応がおこり、前記
式(II)で表されるアスコフラノンを得ることはでき
ない。
ノン誘導体のように高度に官能基をもちかつアリル型置
換基を育する化合物に従来方法を適用すると脱保護が完
全にはおこらなかったり、(昌 分解がおこったりする。また強酸性条件下ではクロマン
型骨格に異性化したりするなどの副反応がおこり、前記
式(II)で表されるアスコフラノンを得ることはでき
ない。
前記式(II)のアスコフラノンは、抗ウイルス性、制
ガン作用を有するばかりでなく、血中のコレストロール
量を低下させ、血圧を降下させる作用を特開昭51−3
6450号参照、)。又、ガンの予防薬としての作用も
認められている(J、Antibiotics +1工
、1547 (1982))。
ガン作用を有するばかりでなく、血中のコレストロール
量を低下させ、血圧を降下させる作用を特開昭51−3
6450号参照、)。又、ガンの予防薬としての作用も
認められている(J、Antibiotics +1工
、1547 (1982))。
出し、本発明を完成した。
本発明は一般式Ar (OR)nで表される芳香族化合
物を、四ヨウ化ニリンで処理することにより水酸基の脱
保護を行ない、一般式A r(OHenで表される化合
物に変換する方法である(式中、Ar%R及びnは前記
と同様の意味を表す、)。
物を、四ヨウ化ニリンで処理することにより水酸基の脱
保護を行ない、一般式A r(OHenで表される化合
物に変換する方法である(式中、Ar%R及びnは前記
と同様の意味を表す、)。
α−アルコキシアルキル基Rとしてはたとえばメトキシ
メチル基、2−(メトキシ)エトキシメチル基、l−(
エトキシ)エチル基、テトラヒドロビラン−2−イル基
、2− (1−リメチルシリル)基・イソブチル基・ベ
ンジル基・シクロヘキシル基などのアルキル基、ビニル
基・プロペニル基・ブテニル基・ブタジェニル基・オク
タジェニル基?−(5,5−ジメチル−4−オキソテト
ラヒドロフラン−2−イル)−3−メチル−2,6−オ
クタジェニル基などのアルケニル基、エチニル基。
メチル基、2−(メトキシ)エトキシメチル基、l−(
エトキシ)エチル基、テトラヒドロビラン−2−イル基
、2− (1−リメチルシリル)基・イソブチル基・ベ
ンジル基・シクロヘキシル基などのアルキル基、ビニル
基・プロペニル基・ブテニル基・ブタジェニル基・オク
タジェニル基?−(5,5−ジメチル−4−オキソテト
ラヒドロフラン−2−イル)−3−メチル−2,6−オ
クタジェニル基などのアルケニル基、エチニル基。
プロピニル基・フェニルエチニル基・トリメチルシリル
エチニル基などのアルキニル基、フェニル基・ナフチル
基・フラニル基などのアーリル基、ハロゲン原子、ホル
ミル基、アセチル基・プロパノイル基・ピバロイル基・
ベンゾイル基・トリクロロアセチル基・ブテノイル基な
どのアシル基、メトキシカルボニル基・エトキシカルボ
ニル基・ベンジルオキシカルボニル基などのアルコキシ
カルボニル基、ビニルオキシカルボニル基・アリルオキ
シカルボニル基などのアルケニルオキシカルボニル基、
フェノキシカルボニル基・フラノキシカルボニル基など
のアリールオキシカルボニル基。
エチニル基などのアルキニル基、フェニル基・ナフチル
基・フラニル基などのアーリル基、ハロゲン原子、ホル
ミル基、アセチル基・プロパノイル基・ピバロイル基・
ベンゾイル基・トリクロロアセチル基・ブテノイル基な
どのアシル基、メトキシカルボニル基・エトキシカルボ
ニル基・ベンジルオキシカルボニル基などのアルコキシ
カルボニル基、ビニルオキシカルボニル基・アリルオキ
シカルボニル基などのアルケニルオキシカルボニル基、
フェノキシカルボニル基・フラノキシカルボニル基など
のアリールオキシカルボニル基。
アセトキシ基・プロパノイルオキシ基・ピバロイルオキ
シ基・ベンゾイルオキシ基・プテノイルオキシ基などの
アシルオキシ基、水酸基、スルフヒドリル基、メトキシ
基・エトキシ基・ベンジルオキシ基・2,2.2−トリ
フルオロエトキシ基・2−トリメチルシリルエトキシ基
などのアルコキベゝ シ基、ビニルオキシ基・プロノキシ基などのアルケニル
オキシ基、フェノキシ基・キノリノキシ基などのアリー
ルオキシ基、メチルチオ基・エチルチオ基などのアルキ
ルチオ基、フェニルチオ基2.4.6−)リメチルフェ
ニルチオ基などのアリールチオ基、シアノ基、アミノ基
、ニトロ基等で置換されたまたは未置換のフェニル基、
ナフチル基、芳香族性複素環基である。
シ基・ベンゾイルオキシ基・プテノイルオキシ基などの
アシルオキシ基、水酸基、スルフヒドリル基、メトキシ
基・エトキシ基・ベンジルオキシ基・2,2.2−トリ
フルオロエトキシ基・2−トリメチルシリルエトキシ基
などのアルコキベゝ シ基、ビニルオキシ基・プロノキシ基などのアルケニル
オキシ基、フェノキシ基・キノリノキシ基などのアリー
ルオキシ基、メチルチオ基・エチルチオ基などのアルキ
ルチオ基、フェニルチオ基2.4.6−)リメチルフェ
ニルチオ基などのアリールチオ基、シアノ基、アミノ基
、ニトロ基等で置換されたまたは未置換のフェニル基、
ナフチル基、芳香族性複素環基である。
本反応は無溶媒又は溶媒中で行うことができる。
使用できる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ンのような炭化水素溶媒、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、あるいはへキ
サメチルリン酸ドリアミド、N、N′−ジメチルプロピ
レンウレア、N。
ンのような炭化水素溶媒、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、あるいはへキ
サメチルリン酸ドリアミド、N、N′−ジメチルプロピ
レンウレア、N。
N−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がある。
反応温度は一100℃から溶媒の還流温度の範囲を選択
することができる。
することができる。
使用する四ヨウ化ニリンの量は、保護基に対して0.4
〜1.0モル当量である。
〜1.0モル当量である。
反応機構については明らかではないが、基質を四ヨウ化
ニリンで処理することによりまずリン酸エステル誘導体
が生じ、これが水を用いた反応の後処理により目的物を
与えるものと推測される。
ニリンで処理することによりまずリン酸エステル誘導体
が生じ、これが水を用いた反応の後処理により目的物を
与えるものと推測される。
以上のように、本発明の方法は、前記式(りのアスコフ
ラノン誘導体のような複雑な化合物にも応用でき、従っ
て、例えば、前記式(I+)のアスコフラノンを合成す
る上でも有用な方法となる。
ラノン誘導体のような複雑な化合物にも応用でき、従っ
て、例えば、前記式(I+)のアスコフラノンを合成す
る上でも有用な方法となる。
以下、実施例および参考例により本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
参考例I
8EM=Me 381CH2G120−CH2−3−ブ
ロモー2.4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸メチ
ル(1,74g、6.7mmo 1)をエーテル(30
ml)に溶かし、塩化スルフリル(0,99g、7.3
mmo 1)とともに室温にて4時間30分攪拌した。
ロモー2.4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸メチ
ル(1,74g、6.7mmo 1)をエーテル(30
ml)に溶かし、塩化スルフリル(0,99g、7.3
mmo 1)とともに室温にて4時間30分攪拌した。
減圧下に濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、ジクロロメタン−ヘキサンl:lから100:1の
混合溶媒で溶出)で精製して3−ブロモ−5−クロロ−
2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸メチル(1
,86g、収率97%)を得た。
ル、ジクロロメタン−ヘキサンl:lから100:1の
混合溶媒で溶出)で精製して3−ブロモ−5−クロロ−
2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸メチル(1
,86g、収率97%)を得た。
mp:10B−10,9℃。
IR(KBr) : 34BG、1641.1589
゜14G9.1329.1258.1207c謂■−−
1゜NMR(CDC1s ) : δ 2.5
9 (s、3H)。
゜14G9.1329.1258.1207c謂■−−
1゜NMR(CDC1s ) : δ 2.5
9 (s、3H)。
3.97 (s、3H)、 6.49 (br
s、IH)。
s、IH)。
12.19 (s、IH)。
MS (m/z) : 29B (M″″ +4
.6)。
.6)。
296 (M” +2. 23)、 294
(M′″。
(M′″。
18)、266 (25)、264 (100λ2
62 (78)、 183 (11)、 63
(11) 。
62 (78)、 183 (11)、 63
(11) 。
C9HIBrC104に対する計算値:C,36,5B
、H,2,73%。
、H,2,73%。
実測値; C,36,66: H,2,72%。
3−ブロモ−5−クロロ−2,4−ジヒドロキシ−6−
メチル安息香酸メチル(1,18g、4.0mmo l
)、2− ()リメチルシ嗅ル)エトキシメチルクロリ
ド(2,7g、16mmo 1)のジクロロメタン(4
ml)I液へ、ジイソプロビルエチルアミン(3,1g
、24mmo 1)を加え、室温で2時間攪拌した。ヘ
キサン(60ml)を加え、5%炭酸水素ナトリウム水
溶液(6ml)で洗浄し、乾燥、tJ[lilした。カ
ラムクロマトグラフィー(トリメチルシリル)エトキシ
メトキシ)−3−7’oモー5−クロロ−6−メチル安
息香酸メf)Lt(2,2g 、収率100%)を得た
。
メチル安息香酸メチル(1,18g、4.0mmo l
)、2− ()リメチルシ嗅ル)エトキシメチルクロリ
ド(2,7g、16mmo 1)のジクロロメタン(4
ml)I液へ、ジイソプロビルエチルアミン(3,1g
、24mmo 1)を加え、室温で2時間攪拌した。ヘ
キサン(60ml)を加え、5%炭酸水素ナトリウム水
溶液(6ml)で洗浄し、乾燥、tJ[lilした。カ
ラムクロマトグラフィー(トリメチルシリル)エトキシ
メトキシ)−3−7’oモー5−クロロ−6−メチル安
息香酸メf)Lt(2,2g 、収率100%)を得た
。
IR(neat)=1739.1254.1161゜9
02.836cn−’。
02.836cn−’。
NMR(CDCIs ):δ 0.02(s、18H)
。
。
0.98 (L、J−8,6Hz、4H)、2.26(
s、3H)、3.7−4.1 (m+s (63,8
9)、7H)、5.13 (s、2H)。
s、3H)、3.7−4.1 (m+s (63,8
9)、7H)、5.13 (s、2H)。
5.20 (s、2H)。
MS (m/z): 427 (M” +44−3E。
16)、425 (M中+22−3E、48)。
423 (M”−3gM)、147 (6G)。
103 (49)、 101 (31)、 7
3(100)、 (SEM−2−()リメチルシリル
)エトキシメチル基)。
3(100)、 (SEM−2−()リメチルシリル
)エトキシメチル基)。
実施例1
出発物M (30,Ow、 0.0540mmo l
)を塩化メチレン0.75m1に溶解し、ここへアルゴ
ン雲囲気下0℃にて四ヨウ化ニリン(25,5■。
)を塩化メチレン0.75m1に溶解し、ここへアルゴ
ン雲囲気下0℃にて四ヨウ化ニリン(25,5■。
0.0448mmo l)を加えた。0℃のまま1時間
20分攪拌した後エーテル(10ml)で希釈した。こ
れに飽和食塩水0.5m lを加え、攪拌し水層をエー
テルでさらに抽出した。エーテル層を合わせ、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮を行った後残渣を薄層ク
ロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒 ヘキサン−
酢酸エチル5:l)で精製して目的とするジオール体(
11,2■、収率70%)を得た。このものは参考例1
に記載のジオール体と同一のスペクトルデータを示した
。
20分攪拌した後エーテル(10ml)で希釈した。こ
れに飽和食塩水0.5m lを加え、攪拌し水層をエー
テルでさらに抽出した。エーテル層を合わせ、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮を行った後残渣を薄層ク
ロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒 ヘキサン−
酢酸エチル5:l)で精製して目的とするジオール体(
11,2■、収率70%)を得た。このものは参考例1
に記載のジオール体と同一のスペクトルデータを示した
。
参考例2
sm
に!
2−メチル−3−ブチン−2−オール(2,5g30m
mol)のTHF (150ml)溶液へ、ブチルリチ
ウム(1,75M へキサン溶液、34(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−2゜6−オクタジェナー
ル(5,0g、20mmo 1)のTHF (25ml
)溶液を一50℃で加えた。
mol)のTHF (150ml)溶液へ、ブチルリチ
ウム(1,75M へキサン溶液、34(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−2゜6−オクタジェナー
ル(5,0g、20mmo 1)のTHF (25ml
)溶液を一50℃で加えた。
2時間攪拌して室温まで昇温し、エーテル(500ml
)、飽和食塩水(50ml)、水(25ml)を加えた
。有機層を乾燥、濃縮して(E、E)−12−(テトラ
ビトロビラン−2−イルオキシ)−2,6,1,9,l
−ツメチルドデカ−6,10−ジエン−3−イン−2,
5−ジオールを粗生成物として得た(6.9g)。
)、飽和食塩水(50ml)、水(25ml)を加えた
。有機層を乾燥、濃縮して(E、E)−12−(テトラ
ビトロビラン−2−イルオキシ)−2,6,1,9,l
−ツメチルドデカ−6,10−ジエン−3−イン−2,
5−ジオールを粗生成物として得た(6.9g)。
このジオールは精製することなく、ジクロロメ(2,6
g、21mmo +) 、ピリジン(5s+1)および
4−ジメチルアミジピリジン(0,49g、4.0mm
ol)とともに0℃にて50分間攪拌した。
g、21mmo +) 、ピリジン(5s+1)および
4−ジメチルアミジピリジン(0,49g、4.0mm
ol)とともに0℃にて50分間攪拌した。
減圧下に濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、ヘキサン−酢酸エチル7;1から5=1の混合滲透
ζ溶出)で精製して(E、 E) −5−ピバロイルオ
キシ−12−(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)
−2,6,10−)リフチルドデカ−6,10−ジエン
−3−イン−2−オール(5,7g、前記アルデヒドか
ら収率68%)を得た。
ル、ヘキサン−酢酸エチル7;1から5=1の混合滲透
ζ溶出)で精製して(E、 E) −5−ピバロイルオ
キシ−12−(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)
−2,6,10−)リフチルドデカ−6,10−ジエン
−3−イン−2−オール(5,7g、前記アルデヒドか
ら収率68%)を得た。
IR(neat):3395.1?34,1145゜1
120.1023cm−’。
120.1023cm−’。
NMR(CDCIs):δ 1 ;21 (s 、9
H)。
H)。
1.4〜1.8(m+s (61,50)+3 (
61,68)、 1 8H)、 2.0〜2.3
(m4H)、3.50 (d t、J−10,5,
4,5Hz、IH)、3.88 (dt、J−10,
5゜4.8Hz、 IH)、 4.OQ (dd
、J−12,3,7,1Hz、 LH)、4.23
(dd。
61,68)、 1 8H)、 2.0〜2.3
(m4H)、3.50 (d t、J−10,5,
4,5Hz、IH)、3.88 (dt、J−10,
5゜4.8Hz、 IH)、 4.OQ (dd
、J−12,3,7,1Hz、 LH)、4.23
(dd。
J−12,3+6−5Hz、 IH)、4.5〜Hz、
LH)、5.76 (s、 IH)。
LH)、5.76 (s、 IH)。
MS (m/z): 403 (M” −OH,
l)。
l)。
319 (2)、216 (6)、 135(3
2)、85 (100)、67 (47)。
2)、85 (100)、67 (47)。
57(100)。
得られたエステル体(1,2g、2.8mmo l)を
ベンゼン(28ml)に溶かし、テトラフルオロ可視光
および紫外線の遮断下、80tにて1時間30分撹拌し
た。エーテル(50ml)で希釈し飽和食塩水(10m
l)で洗浄した。乾燥、濃縮で精製して2.2−ジメチ
ル−((E、E)−15−ジメチル−7−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)へブタ−1,5−ジェニル
)−3−ピバロイルオキシ−2,5−ジヒドロフラン(
0,65g、収率55%)を得た。
ベンゼン(28ml)に溶かし、テトラフルオロ可視光
および紫外線の遮断下、80tにて1時間30分撹拌し
た。エーテル(50ml)で希釈し飽和食塩水(10m
l)で洗浄した。乾燥、濃縮で精製して2.2−ジメチ
ル−((E、E)−15−ジメチル−7−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)へブタ−1,5−ジェニル
)−3−ピバロイルオキシ−2,5−ジヒドロフラン(
0,65g、収率55%)を得た。
IR(neat):1765,1660.127311
48.1111.1079.1024am −’ 。
48.1111.1079.1024am −’ 。
NMR<COClコ):δ 1.28 (s 、9H)
。
。
1.34(s、3夏()、1.37(s、3H)。
1.4〜1.8 (m+s (61,60)+s(6
1,68)、12H)、2.0〜2.3(m、4H)、
3.49 (d t、J−11,7゜3.0 Hz、I
H)、3.89 (d t、J−11,7,5,3Hz
、IH)、3.99(dd、 J−11,9,5,0
Hz、 LH)。
1,68)、12H)、2.0〜2.3(m、4H)、
3.49 (d t、J−11,7゜3.0 Hz、I
H)、3.89 (d t、J−11,7,5,3Hz
、IH)、3.99(dd、 J−11,9,5,0
Hz、 LH)。
4.5〜4.7 (m、 I H)、 5.13
(br s。
(br s。
I H)、 5.2〜5.6(m+d d (δ
5.36J=5.0. 7.5Hz)+d (65,5
6゜J−1,7Hz)、 3H)。
5.36J=5.0. 7.5Hz)+d (65,5
6゜J−1,7Hz)、 3H)。
MS (m/ z) + 336 (M”
C*Ha0゜2)、 335 (6)、 25
1 (10)。
C*Ha0゜2)、 335 (6)、 25
1 (10)。
167 (16)、 85 (68)、 57
(10G)。
(10G)。
得られたジヒドロフラン化合物(0,63g、1.50
mmol)をエタノ−Jしく15m1)にt容かし、p
−トルエンスルホン酸ピリジニウム(47■。
mmol)をエタノ−Jしく15m1)にt容かし、p
−トルエンスルホン酸ピリジニウム(47■。
0.19mmof)とともに、50℃で1時間30分攪
拌した。エーテル(100ml)で希釈し、飽和食塩水
(loml)で洗浄した。乾燥、濃縮したのち、Tl1
Nクロマトグラフイー(シリカゲル、展開溶媒 ヘキサ
ン−酢酸エチル3:1)で精製し、2.2−ジメチル−
5−((E、F、> −1゜5−ジメチル−7−ヒドロ
キシへブタ−1,5−ジェニル〕−3−ピバロイルオキ
シ−2,5−’)ヒドロフラン(0,39g、収率77
%)を得た。
拌した。エーテル(100ml)で希釈し、飽和食塩水
(loml)で洗浄した。乾燥、濃縮したのち、Tl1
Nクロマトグラフイー(シリカゲル、展開溶媒 ヘキサ
ン−酢酸エチル3:1)で精製し、2.2−ジメチル−
5−((E、F、> −1゜5−ジメチル−7−ヒドロ
キシへブタ−1,5−ジェニル〕−3−ピバロイルオキ
シ−2,5−’)ヒドロフラン(0,39g、収率77
%)を得た。
IR(neat) =3430.1767゜1659
.1273,1147.111 G。
.1273,1147.111 G。
1026.10010O5’。
NMR(CDCIs):δ 1.29 (s 、9H)
。
。
1.34 (s、3H)、1.37 (s、3H)。
1.60 (s、3H)、1.68 (s、3H)。
2.0〜2.3 (m、4H)、4.14 (d、J−
7,1H2,2H)、5.1〜5.2 (m、IH)。
7,1H2,2H)、5.1〜5.2 (m、IH)。
5.3〜5.6 (m十t (δ 5−40.J−7
,1Hz)+d (δ 5.58.J−1,5Hz)、
3H)。
,1Hz)+d (δ 5.58.J−1,5Hz)、
3H)。
MS (m/z)+ 336 (M” 、3)、321
(3)、237 (15)、167 (67)。
(3)、237 (15)、167 (67)。
153 (43)、113 (35)、85(TO)、
57 (10G)、 43 (44)41(
83)。
57 (10G)、 43 (44)41(
83)。
次にこのアルコール体(0,15g、0.45m−mo
l)と四臭化炭素(0,29g、0.88m−mo
1)のエーテル(3ml)溶液に、トリーn−オクチル
ホスフィン(0,33g、0.88m−mo 1)を0
℃で加えた。10分後、四臭化炭素(51w、0.15
mmo 1) 、)リーn−オクチルホスフィン(57
″’W、0.15mmo 1)を追加した。3分間攪拌
したのち、減圧下に濃縮した5゜カラムクロマトグラフ
ィー(中性アルミナ、ベンゼンで溶出)で精製して5−
((E、E)−7−ブロモー1.5−ジメチルへブタ
−1,5−ジェ二 イル)−2,2−ジメチル−3−ピバロイオキシー2.
5−ジヒドロフラン(0,16g、収率92%)を得た
。
l)と四臭化炭素(0,29g、0.88m−mo
1)のエーテル(3ml)溶液に、トリーn−オクチル
ホスフィン(0,33g、0.88m−mo 1)を0
℃で加えた。10分後、四臭化炭素(51w、0.15
mmo 1) 、)リーn−オクチルホスフィン(57
″’W、0.15mmo 1)を追加した。3分間攪拌
したのち、減圧下に濃縮した5゜カラムクロマトグラフ
ィー(中性アルミナ、ベンゼンで溶出)で精製して5−
((E、E)−7−ブロモー1.5−ジメチルへブタ
−1,5−ジェ二 イル)−2,2−ジメチル−3−ピバロイオキシー2.
5−ジヒドロフラン(0,16g、収率92%)を得た
。
IR(neat):1765.1657,127311
50.1109.lQ 283−’。
50.1109.lQ 283−’。
NMR(CDC1s) : 6 1.28 (s
、9H)。
、9H)。
1.33 (s、3H)、 1.36 (s、3
H)。
H)。
1.59 (a、3H)、 1.72 (a、3
H)。
H)。
2.0〜2.3 (m、4H)、 3.99 (d
、 J−8,1Hz、 2H)、 5.12
(br s、IH)。
、 J−8,1Hz、 2H)、 5.12
(br s、IH)。
5.3=5.7 (m 十d (65,5?、J−1,
4Hz)、 3H)。
4Hz)、 3H)。
MS (m/z): 319 (M”−Br、6)
。
。
235 (12)、 167 (13)、 8
5(iイ)、57 (10G)。
5(iイ)、57 (10G)。
2.4−ビス(2−()リメチルシリル)エトキシメト
キシ〕−3−ブロモ−5−クロロ−6−メチル安息香酸
メチル(0,93g、1.68m−mol)のTHF
(11m1)溶液に、ブチルリチウム(1,71Mヘキ
サン溶液、1.24m1゜2.1mmal)を−78℃
で加えた。30分後、3−メトキシ−3−メチル−1−
ブチニル銅(1,49mmo 1)のT HF (3m
l ) −ヘキサン(1,2m l )−へキサメチ
ルリン酸トリアミド(0,47mnrvl)溶液を一7
8℃で加えた。さらに30分後、5− ((E、E)−
7−ブロモ−1,5−ジメチルへブタ−1,5−ジェニ
ル)=2.2−ジメチル−3−ピバロイルオキシ−2゜
5−ジヒドロフラン(0,60g、3.4mmol)の
THF (10ml)溶液を一78℃で加えた。
キシ〕−3−ブロモ−5−クロロ−6−メチル安息香酸
メチル(0,93g、1.68m−mol)のTHF
(11m1)溶液に、ブチルリチウム(1,71Mヘキ
サン溶液、1.24m1゜2.1mmal)を−78℃
で加えた。30分後、3−メトキシ−3−メチル−1−
ブチニル銅(1,49mmo 1)のT HF (3m
l ) −ヘキサン(1,2m l )−へキサメチ
ルリン酸トリアミド(0,47mnrvl)溶液を一7
8℃で加えた。さらに30分後、5− ((E、E)−
7−ブロモ−1,5−ジメチルへブタ−1,5−ジェニ
ル)=2.2−ジメチル−3−ピバロイルオキシ−2゜
5−ジヒドロフラン(0,60g、3.4mmol)の
THF (10ml)溶液を一78℃で加えた。
3時間攪拌して一40℃まで昇温し、エーテル(100
ml)を加え、水(3ml)で3回洗浄したのち、乾燥
、濃縮した。H!Jクロマトグラフィー(シリカゲル、
展開溶合ジクロロメタン)で精製して4,6−ビス(2
−()リメチルシリル)エトキシメトキシ)−3−クロ
ロ−5−((E。
ml)を加え、水(3ml)で3回洗浄したのち、乾燥
、濃縮した。H!Jクロマトグラフィー(シリカゲル、
展開溶合ジクロロメタン)で精製して4,6−ビス(2
−()リメチルシリル)エトキシメトキシ)−3−クロ
ロ−5−((E。
E)−7−(2,5−ジヒドロ−5,5−ジメチル−4
−ピバロイルオキシフラン−2−イル)−3−メチル−
2,6−オクタジェニル)−2−メチル安息香酸メチル
(0,83g、収率70%)を得た。
−ピバロイルオキシフラン−2−イル)−3−メチル−
2,6−オクタジェニル)−2−メチル安息香酸メチル
(0,83g、収率70%)を得た。
IR(naa t) : 1766.1?37,1
659゜1 1 50,11 09,860,837
cs−’。
659゜1 1 50,11 09,860,837
cs−’。
’NMR(CDCId : δ 0.03 (s
。
。
1 8H)、 0.9〜1.1 (m、 4H)
。
。
1.27 (s、9H)、 1.32 (s、3
H)。
H)。
1.34 (s、3H)、 1.56 (s、3
H)。
H)。
1.73 (s、3H)、1 .9〜2.2 (m、
4H)。
4H)。
2.27 (3,3H)、3.45 (d、 J
−6,3Hz、 2H)、 3.7〜4.O(m+
s (63,84)、 7 H)、 4.9〜5
.6 (m+ s(δ 4.97) Is (
δ 5.09) +a(δ 5.54. J=
1.5Hz)、 8H)。
−6,3Hz、 2H)、 3.7〜4.O(m+
s (63,84)、 7 H)、 4.9〜5
.6 (m+ s(δ 4.97) Is (
δ 5.09) +a(δ 5.54. J=
1.5Hz)、 8H)。
MS (m/z): 796 (M” +2.僅少)。
794(M”、僅少)、665 (M” +22−3E
、 1)、 663 (M” −5HM。
、 1)、 663 (M” −5HM。
2)、 345 (16)、 250 (22
)。
)。
167 (40)、 103 (60)、 8
5(67) 、 73 (100)、57(10
0)。
5(67) 、 73 (100)、57(10
0)。
得られた六置換ベンゼン誘導体(42N10.053m
mo I)のエーテル(3ml)溶液を水素化リチウム
アルミニウム(3■、0.11mmol)のエーテル(
1ml)懸濁液へ、0℃で加えた。15分間攪拌した後
、エーテル(10ml)で希釈し、飽和硫酸ナトリウム
水溶液(0,1m1)を加えた。上澄みを乾燥、濃縮し
て得た残渣(34■)をジクロロメタン(3ml)に溶
かし、酢酸ナトリウム(62■、0.75m−mol)
、塩化クロム酸ピリジニウム(115w。
mo I)のエーテル(3ml)溶液を水素化リチウム
アルミニウム(3■、0.11mmol)のエーテル(
1ml)懸濁液へ、0℃で加えた。15分間攪拌した後
、エーテル(10ml)で希釈し、飽和硫酸ナトリウム
水溶液(0,1m1)を加えた。上澄みを乾燥、濃縮し
て得た残渣(34■)をジクロロメタン(3ml)に溶
かし、酢酸ナトリウム(62■、0.75m−mol)
、塩化クロム酸ピリジニウム(115w。
0.53mmo l)を0℃で加えた。室温で1時間攪
拌したのち、エーテル(20ml)で希釈し、カラムク
ロマトグラフィー(セライトおよびシリカゲル、エーテ
ルで溶出)で精製して4.s−ビス(2−()リメチル
シリル)エトキシメトキシゴー3−クロロ−5−((E
、E)−7−(5゜キ 5−ジメチル−4−¥キソチトラヒドロフランー2−イ
ル)−3−メチル−2,6−オクタジエシル〕ベンズア
ルデヒド(1)(34g、前記六置換ベンゼン誘導体よ
り収率95%)を得た。
拌したのち、エーテル(20ml)で希釈し、カラムク
ロマトグラフィー(セライトおよびシリカゲル、エーテ
ルで溶出)で精製して4.s−ビス(2−()リメチル
シリル)エトキシメトキシゴー3−クロロ−5−((E
、E)−7−(5゜キ 5−ジメチル−4−¥キソチトラヒドロフランー2−イ
ル)−3−メチル−2,6−オクタジエシル〕ベンズア
ルデヒド(1)(34g、前記六置換ベンゼン誘導体よ
り収率95%)を得た。
IR(neat): 1756.1695.1110゜
1059.937.907,857,834゜cs−’
。
1059.937.907,857,834゜cs−’
。
NMR(CDCIs):δ −0,01(!。
18)1) 、 0.8〜1.0 (m、 4H)
。
。
1.17 (s、3H)、1.24 (s、3H)。
1.60 (s、3H)、1.74 (s、3H)。
2.0〜2.1 (m、4H)、2.36 (d、J−
9,2Hz、IH)、2.38 (d、J”7.5Hz
、IH)、3.44 (d、J−6,3Hz。
9,2Hz、IH)、2.38 (d、J”7.5Hz
、IH)、3.44 (d、J−6,3Hz。
2H)、3.77 (t、J−9,0Hz、2H)。
3.86 (t、J=8.6Hz、2H)。
4.49 (dd、J−7,5,9,2Hz、IH)。
4.9〜5.4(m十g(64,99)+S (65,
14)、5F()、5.4〜5.6(m、lH)。
14)、5F()、5.4〜5.6(m、lH)。
MS (m/z) : 566 (1,4)
、 564480 (6)、 47B (12
)、 399(13)、 39 ? (2B)、
149(24)。
、 564480 (6)、 47B (12
)、 399(13)、 39 ? (2B)、
149(24)。
103 (32)、 101 (26)、 7
3(100)。
3(100)。
原料←[)(12wg、0.018rnmo l)のジ
クロロメタン(0,25m1)溶液へ四ヨウ化ニリン(
8#、0.014mmo Nを0℃で加えた。
クロロメタン(0,25m1)溶液へ四ヨウ化ニリン(
8#、0.014mmo Nを0℃で加えた。
0℃で10分間、次に室温で10分間攪拌した。
エーテル(l 0m1)で希釈し、飽和食塩水0.2m
lを加えた。上澄みを薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル、展開溶媒 ヘキサン−酢酸エチル2:1)で精製
してアスコフラノン(II)(3■。
lを加えた。上澄みを薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル、展開溶媒 ヘキサン−酢酸エチル2:1)で精製
してアスコフラノン(II)(3■。
(1984)参照)と−敗した。
IR(CH,C1講141 G、1754.16251
418.12 B 4.1249.1111m−’。
418.12 B 4.1249.1111m−’。
NMR(CDCis):δ 1.22 (s、3H)1
.28 (s、3H)、1.63 (s、3H)。
.28 (s、3H)、1.63 (s、3H)。
1.79 (s、3H)、2.01〜2.07(m、2
8)、2.12〜2.20 (m。
8)、2.12〜2.20 (m。
2H)、2.35 (dd、J−9,9゜18.2Hz
、IH)、2.42 (dd、J−6,4,18,2H
z、IH)、2.61 (s。
、IH)、2.42 (dd、J−6,4,18,2H
z、IH)、2.61 (s。
3H)、3.39 (d、J−7,2Hz、2H)。
4.52 (dd、 J=6.4. 9.9Hz、
IH)5.21 (t、J−7,2Hz、 I
H)、5.51(t、J=7.0Hz、IH)、6.4
4 ’(s、 IH)、 10.15 (s
、 IH)。
IH)5.21 (t、J−7,2Hz、 I
H)、5.51(t、J=7.0Hz、IH)、6.4
4 ’(s、 IH)、 10.15 (s
、 IH)。
12.70 (s、 IH)。
MS (m/z)! 422 (M” +2.5
.0)。
.0)。
420 (M”、 13.7)、253 (76
)。
)。
252 (53)、 199 (100)。
149 (94)、 73 (86)、 57
(66)。
(66)。
柑キ(M’);実測値くん」5色
へ1O1(ら♀6
中略=t=s= (M°+2> 、 −4日ヒン/4=
幹1賢i=−(M” ) 。
幹1賢i=−(M” ) 。
実施例3
1− (2−(メトキシ)エトキシメトキシ)−4−ベ
ンジルベンゼン(49N、 0.18 mmol)を
ジクロロメタン(1m l)に溶解し、ここへアルゴン
雰囲気下0℃にて四ヨウ化ニリン(103弯。
ンジルベンゼン(49N、 0.18 mmol)を
ジクロロメタン(1m l)に溶解し、ここへアルゴン
雰囲気下0℃にて四ヨウ化ニリン(103弯。
0.18mmol)を加えた。0℃のまま22時間攪拌
した後、ジクロロメタン(10ml)で希釈した。これ
に水2 m lを加え、30分間室温で攪拌した。水層
はジクロロメタンでさらに抽出し、有機層を無水硫酸マ
グネシウム無水硫酸ナトリウで精製して目的とする4−
ベンジルフェノール(27■、収率81%)を得た。
した後、ジクロロメタン(10ml)で希釈した。これ
に水2 m lを加え、30分間室温で攪拌した。水層
はジクロロメタンでさらに抽出し、有機層を無水硫酸マ
グネシウム無水硫酸ナトリウで精製して目的とする4−
ベンジルフェノール(27■、収率81%)を得た。
実施例4
1−(メトキシメトキシ) −4−ニトロベンゼン(4
9,6*、0.271mmo 1)のジクロロメタン(
1ml)II液にアルゴン雰囲気下0℃にて四ヨウ化ニ
リン(154,6w、0.271mmo+)を加えた。
9,6*、0.271mmo 1)のジクロロメタン(
1ml)II液にアルゴン雰囲気下0℃にて四ヨウ化ニ
リン(154,6w、0.271mmo+)を加えた。
0℃で4時間攪拌した後、室温に昇温り
させ3時間攪拌した。ジクロロメタン(10ml)で希
釈した後水(3m、1)を加え、−室温にて30つ 分攪拌し、ジクロロメタン抽出を行った。有機層は無水
硫酸ナトリウムで乾燥させ減圧下に溶媒を留去させ、残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ジクロロ
メタン−メタノール10:1で溶出)で精製して目的と
する4−ニトロフェノール(35mg、収率92%)を
得た。
釈した後水(3m、1)を加え、−室温にて30つ 分攪拌し、ジクロロメタン抽出を行った。有機層は無水
硫酸ナトリウムで乾燥させ減圧下に溶媒を留去させ、残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ジクロロ
メタン−メタノール10:1で溶出)で精製して目的と
する4−ニトロフェノール(35mg、収率92%)を
得た。
実施例5
1− (1−(エトキシ)エトキシツー2−メトキソ−
4−(2−プロペニル)ベンゼン(105り at、0.44mmo l)のジWooメタン(1ml
)/8液に、四ヨウ化ニリン(253av、 0.4
4m −mo +)を0℃で加えた。6時間後、エーテ
ル(5ml)と水(3ml)を加え、室温で30分攪拌
した。エーテル抽出によって得た有RNを乾燥、濃縮し
、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒 ヘ
キサン−酢酸エチル2:l)で精製して2−メトキシ−
4−(2−プロペニル)フェノール(66■、収率9o
%)を得た。
4−(2−プロペニル)ベンゼン(105り at、0.44mmo l)のジWooメタン(1ml
)/8液に、四ヨウ化ニリン(253av、 0.4
4m −mo +)を0℃で加えた。6時間後、エーテ
ル(5ml)と水(3ml)を加え、室温で30分攪拌
した。エーテル抽出によって得た有RNを乾燥、濃縮し
、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒 ヘ
キサン−酢酸エチル2:l)で精製して2−メトキシ−
4−(2−プロペニル)フェノール(66■、収率9o
%)を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 Ar(OR)n で表されるアセタール型アルコキシ置換芳香族化合物を
四ヨウ化ニリンで処理することにより、一般式 Ar(OH)n で表される化合物に変換する水酸基の脱保護法(式中、
Arは置換又は未置換の芳香族基であり、Rはα−アル
コキシアルキル基であり、nは1から母核芳香族基Ar
のもつ水素原子数までの値をとりうる。)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60173310A JPS6236334A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 水酸基の脱保護法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60173310A JPS6236334A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 水酸基の脱保護法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6236334A true JPS6236334A (ja) | 1987-02-17 |
Family
ID=15958073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60173310A Pending JPS6236334A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 水酸基の脱保護法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6236334A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009104605A1 (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | アリジェン製薬株式会社 | 種々の生理活性を有するアスコフラノンの新規合成中間体およびそれを用いた新規短縮全合成法 |
-
1985
- 1985-08-08 JP JP60173310A patent/JPS6236334A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009104605A1 (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | アリジェン製薬株式会社 | 種々の生理活性を有するアスコフラノンの新規合成中間体およびそれを用いた新規短縮全合成法 |
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