JPS6237624B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6237624B2 JPS6237624B2 JP54108639A JP10863979A JPS6237624B2 JP S6237624 B2 JPS6237624 B2 JP S6237624B2 JP 54108639 A JP54108639 A JP 54108639A JP 10863979 A JP10863979 A JP 10863979A JP S6237624 B2 JPS6237624 B2 JP S6237624B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distyrylcarbazole
- parts
- same
- hydrogen
- different
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な３，６−ジスチリルカルバゾ
ールやその誘導体およびそれらの製造方法に関す
るものである。 電子写真用の有機光導電物質としてポリ−Ｎ−
ビニルカルバゾールが最も良く知られている。こ
の化合物は通常増感剤や可塑剤等を添加し、金属
や紙などの基体上に薄く塗布して使用される。こ
の有機光導電材料はセレンなどの無機光導電材料
を使用したものに比較して種々の長所を有してい
るがまた短所もあり、特に感度が低いことが最も
大きな短所の１つとなつている。そこで、本発明
者らは、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールの問題点
を解消し有機光導電材料として優れた特性を有す
る化合物を見い出す目的でカルバゾール基を有す
る種々の化合物について研究検討を行つた。その
結果、光導電性物質合成の中間物質として有用な
新規な化合物、３，６−ジスチリルカルバゾール
およびその誘導体を見い出すに至つた。この化合
物は、Ｎ位にビニル基等を容易に導入することが
でき、これを重合して光導電性物質を製造するこ
とができるものである。 本発明の３，６−ジスチリルカルバゾール誘導
体は下記一般式〔〕を有する化合物である。 〔但しＲは同一または異る水素、塩素、炭素数
１または２のアルコキシ基〕 この３，６−ジスチリルカルバゾール誘導体
は、一般式〔〕で示され 〔但しＸは同一または異る臭素あるいは臭素〕 る３，６−ジハロカルバゾールと 一般式〔〕 〔但し、Ｒは同一又は異なる水素、塩素、炭素
数１または２のアルコキシ基〕 で示されるスチレン誘導体とを反応させて製造さ
れる。この反応には通常触媒とハロゲン化水素捕
捉剤とが必要とされる。触媒としては、酢酸パラ
ジウム等の貴金属化合物とトリアリールホスフイ
ンなどのリン化合物の組み合せが適当である。ハ
ロゲン化水素捕捉剤としては３級アミンなどのア
ミン類やNaHCO3，Na2CO3などの弱塩基性の塩
などが適当である。 本発明の原料化合物であるジハロカルバゾール
は、カルバゾールを臭素又は沃素でハロゲン化し
て製造することができる。こうして得られた一般
式〔〕で示されるジハロカルバゾールと一般式
〔〕で示されるスチレン誘導体とをたとえば酢
酸パラジウム、トリアリールホスフイン、３級ア
ミンの存在下、75〜150℃の温度条件で反応せし
める。 トリアリールホスフインとしては、トリフエニ
ルホスフイン、トリ−ｏ−トリルホスフイン、ト
リス（２，５−ジイソプロピル）ホスフイン、ト
リ−α−ナフチルホスフイン、トリス（２，３，
４，５−テトラメチルフエニル）ホスフイン、ト
リス（５−トリフルオロメチル−２−メチルフエ
ニル）ホスフイン、トリス（２−メチル−５−ｔ
−ブチルフエニル）ホスフイン、トリス（ｐ−カ
ルボメトキシフエニル）ホスフイン、などのホス
フインを挙げることができるが、特に、トリ−ｏ
−トリルホスフイン、トリス（２−メチル−５−
ｔ−ブチルフエニル）ホスフインの使用が好まし
い。本発明に使用するトリアリールホスフイン
は、酢酸パラジウム１モルに対し、２〜10モル％
が適当である。また、酢酸パラジウムの使用量
は、スチレン誘導体使用量の１〜２モル％が適当
である。 ３級アミンは、発生するハロゲン化水素の捕捉
剤として使用されるが、トリエチルアミン、トリ
−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミ
ン、トリアミルアミン、テトラメチルエチレンジ
アミンなどのごくありふれたアミンでよく、その
使用量は発生するハロゲン化水素に当モルより少
し過剰に使用する。反応溶媒としては一般的なも
の、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、トルエン、キシレン、クロル
ベンゼン、Ｏ−ジクロルベンゼン、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等でよい。 ジハロカルバゾール〔〕と反応されるスチレ
ン誘導体〔〕は２種以上の組み合せであつても
よく、その場合３，６−ジスチリルカルバゾール
誘導体の２つのＲは異る場合もある。しかし通常
はＲは同一の基である。またこの場合、好ましい
Ｒは水素、ハロゲン、アルコキシ基、ニトロ基、
およびジメチルアミノ基である。 本発明の方法によつて得られた化合物は、光導
電性物質合成の中間物として有用なものであり、
反応部位として活性なＮ位に重合性官能基を導入
した化合物を単独重合あるいは他の適当なモノマ
ーと共重合させることにより秀れた光導電体を得
ることができる。また窒素原子により既存ポリマ
ーへのグラフト化を行つても秀れた光導電体を得
ることが出来る。このようにして得られたもの
は、有機光導電材料として代表的なポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾールに比し、光導電性に秀れてお
り、光導電性物質に不可欠な高純度のものが得ら
れる。この光導電性物質は従来のポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾールと同様電子写真用の感光材料とし
て適し、その用途に主として用いられるが、勿論
その用途に限定されるものではない。 以下に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。 実施例 １ カルバゾール33.44部（重量部、以下同じ）を
二硫化炭素500部に加え、二硫化炭素が還流する
まで加熱して溶解させる。撹拌しながら、40部の
二硫化炭素に溶解させた臭素72部を滴下しながら
加えた。還流下に１時間熟成後、冷却する。析出
物を二硫化炭素で洗浄後、十分水洗を行つた。エ
チルアルコールより再結晶して精製し、融点213
℃の白色針状結晶として、３，６−ジプロモカル
バゾール（以下、DBCZと略す）39.06部を得た。
以下の実施例ではすべてこの方法で製造した
DBCZを用いた。 DBCZ8.13部、スチレン6.51部、トリ−ｎ−ブ
チルアミン11.67部、酢酸パラジウム0.112部、ト
リ−ｏ−トリルホスフイン0.304部、ジメチルホ
ルムアミド20部から成る混合物を窒素雰囲気下で
撹拌しながら130℃で20時間加熱した。反応混合
物が未だ熱い内に過をして、不溶物を除去後、
多量のメタノールに注加することにより粗結晶を
得た。得られた粗結晶をクロルベンゼンから２度
再結晶して、淡異色板状結晶として、３，６−ジ
スチリルカルバゾール5.60部（収率59％）を得
た。 融点：246℃（分解） 元素分析（C28H21Nとして） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 90.53 5.70 3.77 実測値（％） 90.10 5.99 3.88 またその赤外線スペクトル（KBr法）を図−１
に示す。 実施例 ２〜３ 表記のスチレン誘導体を用いた他は実施例−１
の方法に従つて各種のジスチリルカルバゾール誘
導体を得た。 【表】
ールやその誘導体およびそれらの製造方法に関す
るものである。 電子写真用の有機光導電物質としてポリ−Ｎ−
ビニルカルバゾールが最も良く知られている。こ
の化合物は通常増感剤や可塑剤等を添加し、金属
や紙などの基体上に薄く塗布して使用される。こ
の有機光導電材料はセレンなどの無機光導電材料
を使用したものに比較して種々の長所を有してい
るがまた短所もあり、特に感度が低いことが最も
大きな短所の１つとなつている。そこで、本発明
者らは、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールの問題点
を解消し有機光導電材料として優れた特性を有す
る化合物を見い出す目的でカルバゾール基を有す
る種々の化合物について研究検討を行つた。その
結果、光導電性物質合成の中間物質として有用な
新規な化合物、３，６−ジスチリルカルバゾール
およびその誘導体を見い出すに至つた。この化合
物は、Ｎ位にビニル基等を容易に導入することが
でき、これを重合して光導電性物質を製造するこ
とができるものである。 本発明の３，６−ジスチリルカルバゾール誘導
体は下記一般式〔〕を有する化合物である。 〔但しＲは同一または異る水素、塩素、炭素数
１または２のアルコキシ基〕 この３，６−ジスチリルカルバゾール誘導体
は、一般式〔〕で示され 〔但しＸは同一または異る臭素あるいは臭素〕 る３，６−ジハロカルバゾールと 一般式〔〕 〔但し、Ｒは同一又は異なる水素、塩素、炭素
数１または２のアルコキシ基〕 で示されるスチレン誘導体とを反応させて製造さ
れる。この反応には通常触媒とハロゲン化水素捕
捉剤とが必要とされる。触媒としては、酢酸パラ
ジウム等の貴金属化合物とトリアリールホスフイ
ンなどのリン化合物の組み合せが適当である。ハ
ロゲン化水素捕捉剤としては３級アミンなどのア
ミン類やNaHCO3，Na2CO3などの弱塩基性の塩
などが適当である。 本発明の原料化合物であるジハロカルバゾール
は、カルバゾールを臭素又は沃素でハロゲン化し
て製造することができる。こうして得られた一般
式〔〕で示されるジハロカルバゾールと一般式
〔〕で示されるスチレン誘導体とをたとえば酢
酸パラジウム、トリアリールホスフイン、３級ア
ミンの存在下、75〜150℃の温度条件で反応せし
める。 トリアリールホスフインとしては、トリフエニ
ルホスフイン、トリ−ｏ−トリルホスフイン、ト
リス（２，５−ジイソプロピル）ホスフイン、ト
リ−α−ナフチルホスフイン、トリス（２，３，
４，５−テトラメチルフエニル）ホスフイン、ト
リス（５−トリフルオロメチル−２−メチルフエ
ニル）ホスフイン、トリス（２−メチル−５−ｔ
−ブチルフエニル）ホスフイン、トリス（ｐ−カ
ルボメトキシフエニル）ホスフイン、などのホス
フインを挙げることができるが、特に、トリ−ｏ
−トリルホスフイン、トリス（２−メチル−５−
ｔ−ブチルフエニル）ホスフインの使用が好まし
い。本発明に使用するトリアリールホスフイン
は、酢酸パラジウム１モルに対し、２〜10モル％
が適当である。また、酢酸パラジウムの使用量
は、スチレン誘導体使用量の１〜２モル％が適当
である。 ３級アミンは、発生するハロゲン化水素の捕捉
剤として使用されるが、トリエチルアミン、トリ
−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミ
ン、トリアミルアミン、テトラメチルエチレンジ
アミンなどのごくありふれたアミンでよく、その
使用量は発生するハロゲン化水素に当モルより少
し過剰に使用する。反応溶媒としては一般的なも
の、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、トルエン、キシレン、クロル
ベンゼン、Ｏ−ジクロルベンゼン、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等でよい。 ジハロカルバゾール〔〕と反応されるスチレ
ン誘導体〔〕は２種以上の組み合せであつても
よく、その場合３，６−ジスチリルカルバゾール
誘導体の２つのＲは異る場合もある。しかし通常
はＲは同一の基である。またこの場合、好ましい
Ｒは水素、ハロゲン、アルコキシ基、ニトロ基、
およびジメチルアミノ基である。 本発明の方法によつて得られた化合物は、光導
電性物質合成の中間物として有用なものであり、
反応部位として活性なＮ位に重合性官能基を導入
した化合物を単独重合あるいは他の適当なモノマ
ーと共重合させることにより秀れた光導電体を得
ることができる。また窒素原子により既存ポリマ
ーへのグラフト化を行つても秀れた光導電体を得
ることが出来る。このようにして得られたもの
は、有機光導電材料として代表的なポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾールに比し、光導電性に秀れてお
り、光導電性物質に不可欠な高純度のものが得ら
れる。この光導電性物質は従来のポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾールと同様電子写真用の感光材料とし
て適し、その用途に主として用いられるが、勿論
その用途に限定されるものではない。 以下に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。 実施例 １ カルバゾール33.44部（重量部、以下同じ）を
二硫化炭素500部に加え、二硫化炭素が還流する
まで加熱して溶解させる。撹拌しながら、40部の
二硫化炭素に溶解させた臭素72部を滴下しながら
加えた。還流下に１時間熟成後、冷却する。析出
物を二硫化炭素で洗浄後、十分水洗を行つた。エ
チルアルコールより再結晶して精製し、融点213
℃の白色針状結晶として、３，６−ジプロモカル
バゾール（以下、DBCZと略す）39.06部を得た。
以下の実施例ではすべてこの方法で製造した
DBCZを用いた。 DBCZ8.13部、スチレン6.51部、トリ−ｎ−ブ
チルアミン11.67部、酢酸パラジウム0.112部、ト
リ−ｏ−トリルホスフイン0.304部、ジメチルホ
ルムアミド20部から成る混合物を窒素雰囲気下で
撹拌しながら130℃で20時間加熱した。反応混合
物が未だ熱い内に過をして、不溶物を除去後、
多量のメタノールに注加することにより粗結晶を
得た。得られた粗結晶をクロルベンゼンから２度
再結晶して、淡異色板状結晶として、３，６−ジ
スチリルカルバゾール5.60部（収率59％）を得
た。 融点：246℃（分解） 元素分析（C28H21Nとして） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 90.53 5.70 3.77 実測値（％） 90.10 5.99 3.88 またその赤外線スペクトル（KBr法）を図−１
に示す。 実施例 ２〜３ 表記のスチレン誘導体を用いた他は実施例−１
の方法に従つて各種のジスチリルカルバゾール誘
導体を得た。 【表】
第１図、第２図および第３図はそれぞれ実施例
１、実施例２および実施例３で製造した３，６−
ジスチリルカルバゾール誘導体のIR図である。
１、実施例２および実施例３で製造した３，６−
ジスチリルカルバゾール誘導体のIR図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔ただし、Ｒは同一または異なる水素、塩素、
炭素数１または２のアルコキシ基〕 で示される３，６−ジスチリルカルバゾール誘導
体。 ２ 式 〔ただし、Ｘは同一または異なる臭素あるいは
沃素〕 で示される３，６−ジハロカルバゾールと式 〔ただし、Ｒは水素、塩素、炭素数１または２
のアルコキシ基、の内の１種〕 で示されるスチレン誘導体を酢酸パラジウムおよ
びトリアリールスルホスフインの組み合わせから
なる触媒及びハロゲン化水素捕捉剤の存在下で反
応させることを特徴とする一般式 〔ただし、同一または異なる上記の基〕 で示される３，６−ジスチリルカルバゾール誘導
体の製造方法。 ３ ハロゲン化水素捕捉剤が３級アミンであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲２の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10863979A JPS5632458A (en) | 1979-08-28 | 1979-08-28 | 3,6-distyrylcarbazole derivative and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10863979A JPS5632458A (en) | 1979-08-28 | 1979-08-28 | 3,6-distyrylcarbazole derivative and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5632458A JPS5632458A (en) | 1981-04-01 |
| JPS6237624B2 true JPS6237624B2 (ja) | 1987-08-13 |
Family
ID=14489885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10863979A Granted JPS5632458A (en) | 1979-08-28 | 1979-08-28 | 3,6-distyrylcarbazole derivative and its preparation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5632458A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH056247U (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-29 | 愛知機械工業株式会社 | 無段変速機の変速プーリー構造 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57165841A (en) * | 1981-04-07 | 1982-10-13 | Asahi Glass Co Ltd | Electrophotographic receptor |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128372A (en) * | 1976-04-19 | 1977-10-27 | Ricoh Co Ltd | Alpha-(9-anthryl)-beta-(3-carbazolyl)-ethylene derivatives, their preparation, and photosensitive material for electrophotograph using theirof |
| JPS5414967A (en) * | 1977-07-05 | 1979-02-03 | Ricoh Co Ltd | Novel disazo compound and its preparation |
-
1979
- 1979-08-28 JP JP10863979A patent/JPS5632458A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH056247U (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-29 | 愛知機械工業株式会社 | 無段変速機の変速プーリー構造 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5632458A (en) | 1981-04-01 |
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