JPH031328B2 - - Google Patents
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- JPH031328B2 JPH031328B2 JP5110381A JP5110381A JPH031328B2 JP H031328 B2 JPH031328 B2 JP H031328B2 JP 5110381 A JP5110381 A JP 5110381A JP 5110381 A JP5110381 A JP 5110381A JP H031328 B2 JPH031328 B2 JP H031328B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- group
- divinylbenzene
- carbon atoms
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なN−置換−3,7−ジハロフエ
ノチアジンとジビニルベンゼンとの縮合生成物お
よびその製造方法に関するものである。
ノチアジンとジビニルベンゼンとの縮合生成物お
よびその製造方法に関するものである。
有機光導電性材料には、従来から多数の化合物
が提案されている。例えば、ポリ−N−ビニルカ
ルバゾールと2,4,7−トリニトロフルオレン
−9−オンとからなる感光体、ポリ−N−ビニル
カルバゾールをピリリウム塩色素で増感したも
の、有機顔料を主成分とする感光体、電荷発生層
と電荷移送層とを積層した感光体、染料と樹脂か
らなる共晶錯体を主成分とする感光体などがあ
る。これらの有機感光体は確かに優れた特性を有
するものであり、実用的にも価値が高いと思われ
るものであるが、セレンに代表される無機光導電
材料に比し感度が低いことが大きい短所の一つと
なつている。そこで、本発明者は有機光導電材料
として優れた特性を有する化合物を見い出す目的
で種々検討を行つた。その結果、光導電性に優れ
たN−置換−3,7−ジハロフエノチアジンとジ
ビニルベンゼンとの縮合生成物を見い出すに至つ
た。
が提案されている。例えば、ポリ−N−ビニルカ
ルバゾールと2,4,7−トリニトロフルオレン
−9−オンとからなる感光体、ポリ−N−ビニル
カルバゾールをピリリウム塩色素で増感したも
の、有機顔料を主成分とする感光体、電荷発生層
と電荷移送層とを積層した感光体、染料と樹脂か
らなる共晶錯体を主成分とする感光体などがあ
る。これらの有機感光体は確かに優れた特性を有
するものであり、実用的にも価値が高いと思われ
るものであるが、セレンに代表される無機光導電
材料に比し感度が低いことが大きい短所の一つと
なつている。そこで、本発明者は有機光導電材料
として優れた特性を有する化合物を見い出す目的
で種々検討を行つた。その結果、光導電性に優れ
たN−置換−3,7−ジハロフエノチアジンとジ
ビニルベンゼンとの縮合生成物を見い出すに至つ
た。
本発明のN−置換−3,7−ジハロフエノチア
ジンとジビニルベンゼンとの重縮合生成物は、下
記一般式〔〕を有する平均重合度が5以上の化
合物である。
ジンとジビニルベンゼンとの重縮合生成物は、下
記一般式〔〕を有する平均重合度が5以上の化
合物である。
(ただし、Rは炭素数1〜16のアルキル基、シ
クロアルキル基、あるいはアラルキル基、nは正
の整数) この化合物〔〕は、式〔〕 (ただし、Rは炭素数1〜16のアルキル基、シ
クロアルキル基、アラルキル基、Xは同一または
異る臭素あるいは沃素) で示されるN−置換−3,7−ジハロフエノチア
ジンと式〔〕 で示されるジビニルベンゼンを反応させて製造さ
れる。この反応には通常触媒とハロゲン化水素捕
捉剤とが必要とされる。触媒としては、酢酸パラ
ジウム等の貴金属化合物とトリアリールホスフイ
ンなどのリン化合物の組み合せが適当である。ハ
ロゲン化水素捕捉剤としては、3級アミンなどの
アミン類や炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム
などの塩基性の塩などが適当である。
クロアルキル基、あるいはアラルキル基、nは正
の整数) この化合物〔〕は、式〔〕 (ただし、Rは炭素数1〜16のアルキル基、シ
クロアルキル基、アラルキル基、Xは同一または
異る臭素あるいは沃素) で示されるN−置換−3,7−ジハロフエノチア
ジンと式〔〕 で示されるジビニルベンゼンを反応させて製造さ
れる。この反応には通常触媒とハロゲン化水素捕
捉剤とが必要とされる。触媒としては、酢酸パラ
ジウム等の貴金属化合物とトリアリールホスフイ
ンなどのリン化合物の組み合せが適当である。ハ
ロゲン化水素捕捉剤としては、3級アミンなどの
アミン類や炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム
などの塩基性の塩などが適当である。
本発明の原料化合物であるN−置換−3,7−
ジハロフエノチアジンは、フエノチアジンを臭素
または塩化沃素でハロゲン化した後、置換基を導
入するか、N−置換フエノチアジンを臭素または
塩化沃素でハロゲン化して製造することができ
る。こうして得られた一般式〔〕で示されるN
−置換−3,7−ジハロフエノチアジンと一般式
〔〕で示されるジビニルベンゼンとをたとえば
酢酸パラジウム、トリアリールホスフイン、3級
アミンの存在下75〜150℃の温度で反応せしめる。
ジハロフエノチアジンは、フエノチアジンを臭素
または塩化沃素でハロゲン化した後、置換基を導
入するか、N−置換フエノチアジンを臭素または
塩化沃素でハロゲン化して製造することができ
る。こうして得られた一般式〔〕で示されるN
−置換−3,7−ジハロフエノチアジンと一般式
〔〕で示されるジビニルベンゼンとをたとえば
酢酸パラジウム、トリアリールホスフイン、3級
アミンの存在下75〜150℃の温度で反応せしめる。
トリアリールホスフインとしては、トリフエニ
ルホスフイン、トリ−o−トリルホスフイン、ト
リス(2,5−ジイソプロピルフエニル)ホスフ
イン、トリ−α−ナフチルホスフイン、トリス
(2,3,4,5−テトラメチルフエニル)ホス
フイン、トリス(2−メチル−5−t−ブチル)
ホスフイン、トリス(p−カルボメトキシフエニ
ル)ホスフインなどのホスフインを挙げることが
できるが、特にトリ−o−トリルホスフイン、ト
リス(2−メチル−5−t−ブチルフエニル)ホ
スフインの使用が好ましい。本発明に使用するト
リアリールホスフインは、酢酸パラジウム1モル
に対し1〜10モルが適当である。また、酢酸パラ
ジウムの使用量はジビニルベンゼン使用量の0.5
〜4モル%が適当である。
ルホスフイン、トリ−o−トリルホスフイン、ト
リス(2,5−ジイソプロピルフエニル)ホスフ
イン、トリ−α−ナフチルホスフイン、トリス
(2,3,4,5−テトラメチルフエニル)ホス
フイン、トリス(2−メチル−5−t−ブチル)
ホスフイン、トリス(p−カルボメトキシフエニ
ル)ホスフインなどのホスフインを挙げることが
できるが、特にトリ−o−トリルホスフイン、ト
リス(2−メチル−5−t−ブチルフエニル)ホ
スフインの使用が好ましい。本発明に使用するト
リアリールホスフインは、酢酸パラジウム1モル
に対し1〜10モルが適当である。また、酢酸パラ
ジウムの使用量はジビニルベンゼン使用量の0.5
〜4モル%が適当である。
3級アミンは発生するハロゲン化水素の捕捉剤
として使用されるが、トリエチルアミン、トリ−
n−ブチルアミン、トリアミルアミン、テトラメ
チルエチレンジアミンなどのごくありふれたアミ
ンでよく、その使用量は発生するハロゲン化水素
に当モルより少し過剰に使用する。
として使用されるが、トリエチルアミン、トリ−
n−ブチルアミン、トリアミルアミン、テトラメ
チルエチレンジアミンなどのごくありふれたアミ
ンでよく、その使用量は発生するハロゲン化水素
に当モルより少し過剰に使用する。
反応溶媒としては、一般的なもの例えばN,N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、N−メチル−2−ピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等で
よい。
−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、o−
ジクロルベンゼン、N−メチル−2−ピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等で
よい。
N−置換−ジハロフエノチアジン〔〕とジビ
ニルベンゼン〔〕は夫々2種以上の組み合せで
あつてもよいが、ジビニルベンゼン〔〕は特に
p−ジビニルベンゼンの使用が好ましい。一方−
N−置換−ジハロフエノチアジンは炭素数2〜12
のアルキル鎖を有するジハロフエノチアジンが生
成物の溶解性、性能の点から好ましい。得られる
重合体〔〕の両末端基は通常水素、臭素又は沃
素であり、特にビニル基側の末端基は通常水素で
ある。その平均の重合度は5以上、特に10以上が
好ましい。
ニルベンゼン〔〕は夫々2種以上の組み合せで
あつてもよいが、ジビニルベンゼン〔〕は特に
p−ジビニルベンゼンの使用が好ましい。一方−
N−置換−ジハロフエノチアジンは炭素数2〜12
のアルキル鎖を有するジハロフエノチアジンが生
成物の溶解性、性能の点から好ましい。得られる
重合体〔〕の両末端基は通常水素、臭素又は沃
素であり、特にビニル基側の末端基は通常水素で
ある。その平均の重合度は5以上、特に10以上が
好ましい。
本発明の方法によつて得られた化合物は、光導
電性物質として有用なものであり、有機高分子光
導電材料として代表的なポリ−N−ビニルカルバ
ゾールに比し、光導電性において優れている。
電性物質として有用なものであり、有機高分子光
導電材料として代表的なポリ−N−ビニルカルバ
ゾールに比し、光導電性において優れている。
この光導電性物質は、従来のポリ−N−ビニル
カルバゾールと同様電子写真用感光体、画像形成
素子等に用いられるが、電子写真用感光体として
用いる場合には、一般の有機光導電物質と同様増
感剤と組み合わせて増感することができる。増感
剤としては、1つは光導電性物質を電子供与体と
し、それとの間に電荷移動錯体を形成する、2,
4,7−トリニトロフルオレン−9−オンで代表
される電子受容体であり他の1つはクリスタルバ
イオレツト、ローダミン6Gで代表される染料で
ある。又、近年電荷発生物質と電荷移送物質とを
組み合わせた高感度な電子写真感光体が提案され
ているが、本発明化合物は有用な電荷移送物質と
もなる。この場合に用いられる電荷発生物質とし
ては例えばセレン、セレン−ラルル、硫化カドミ
ウム、硫化亜鉛などの無機顔料、有機顔料、電荷
移動の錯体、およびそれらの混合物等を適宜選択
して使用することができる。
カルバゾールと同様電子写真用感光体、画像形成
素子等に用いられるが、電子写真用感光体として
用いる場合には、一般の有機光導電物質と同様増
感剤と組み合わせて増感することができる。増感
剤としては、1つは光導電性物質を電子供与体と
し、それとの間に電荷移動錯体を形成する、2,
4,7−トリニトロフルオレン−9−オンで代表
される電子受容体であり他の1つはクリスタルバ
イオレツト、ローダミン6Gで代表される染料で
ある。又、近年電荷発生物質と電荷移送物質とを
組み合わせた高感度な電子写真感光体が提案され
ているが、本発明化合物は有用な電荷移送物質と
もなる。この場合に用いられる電荷発生物質とし
ては例えばセレン、セレン−ラルル、硫化カドミ
ウム、硫化亜鉛などの無機顔料、有機顔料、電荷
移動の錯体、およびそれらの混合物等を適宜選択
して使用することができる。
以下に本発明を実施例により具体的に説明する
が本発明はこれら実施例のみに限定されるもので
はない。
が本発明はこれら実施例のみに限定されるもので
はない。
実施例 1
水素化ナトリウム(油性50%)2.4部(重量部
以下同じ)をジメチルスルホキシド(以下
DMSO)20部に加え、70℃に加熱して水素の発
生が認められなくなるまで撹拌する。室温まで冷
却した後、水浴下撹拌しながら15部のDMSOに
溶解させたフエノチアジン10部を滴下しながら加
える。水浴下30分撹拌した後、5部のDMSOに
溶解させたエチルアイオダイド8.19部を滴下しな
がら加える。室温で3時間撹拌した後、多量の水
に注加することにより粗結晶を得た。得られた粗
結晶をエタノールから再結晶して白色の針状結晶
としてN−エチルフエノチアジン7.96部(収率70
%)を得た。融点104℃(lit103〜104℃)。
以下同じ)をジメチルスルホキシド(以下
DMSO)20部に加え、70℃に加熱して水素の発
生が認められなくなるまで撹拌する。室温まで冷
却した後、水浴下撹拌しながら15部のDMSOに
溶解させたフエノチアジン10部を滴下しながら加
える。水浴下30分撹拌した後、5部のDMSOに
溶解させたエチルアイオダイド8.19部を滴下しな
がら加える。室温で3時間撹拌した後、多量の水
に注加することにより粗結晶を得た。得られた粗
結晶をエタノールから再結晶して白色の針状結晶
としてN−エチルフエノチアジン7.96部(収率70
%)を得た。融点104℃(lit103〜104℃)。
このN−エチルフエノチアジン7部を200部の
酢酸に溶解させる。反応温度を18℃に保ちなが
ら、50部の酢酸に溶解させた臭素9.84部を滴下し
ながら加える。18℃にて3時間撹拌後大量の水酸
化ナトリウム水溶液に注加し、最終的にアルカリ
性になるようにする。得られた粗結晶をエタノー
ルから再結晶して淡黄色結晶として3,7−ジブ
ロモ−N−エチルフエノチアジン4.95部(収率42
%)を得た。融点72℃。
酢酸に溶解させる。反応温度を18℃に保ちなが
ら、50部の酢酸に溶解させた臭素9.84部を滴下し
ながら加える。18℃にて3時間撹拌後大量の水酸
化ナトリウム水溶液に注加し、最終的にアルカリ
性になるようにする。得られた粗結晶をエタノー
ルから再結晶して淡黄色結晶として3,7−ジブ
ロモ−N−エチルフエノチアジン4.95部(収率42
%)を得た。融点72℃。
3,7−ジブロモ−N−エチルフエノチアジン
1.54部、p−ジビニルベンゼン0.521部、トリ−
n−ブチルアミン1.86部、酢酸パラジウム0.018
部、トリ−o−トリルホスフイン0.049部、N−
メチル−2−ピロリドン10部から成る混合物を窒
素雰囲気下で撹拌しながら120℃で20時間加熱し
た。反応混合物が未だ熱い内に過をして不溶物
を除去後メタノールに2回再沈して橙色固体とし
て下記構造を有するポリマー1.51部を得た。
1.54部、p−ジビニルベンゼン0.521部、トリ−
n−ブチルアミン1.86部、酢酸パラジウム0.018
部、トリ−o−トリルホスフイン0.049部、N−
メチル−2−ピロリドン10部から成る混合物を窒
素雰囲気下で撹拌しながら120℃で20時間加熱し
た。反応混合物が未だ熱い内に過をして不溶物
を除去後メタノールに2回再沈して橙色固体とし
て下記構造を有するポリマー1.51部を得た。
またその赤外線スペクトル(KBr法)を第1
図に示す。
図に示す。
実施例 2
エチルアイオダイドの代わりにラウリルブロマ
イドを用いた以外は実施例−1の方法に従つて下
記構造を有するポリマーを得た。
イドを用いた以外は実施例−1の方法に従つて下
記構造を有するポリマーを得た。
第1図は実施例1で製造した本発明フエノチア
ジン誘導体のIRチヤートを示す。
ジン誘導体のIRチヤートを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (ただし、Rは炭素数1〜16のアルキル基、シ
クロアルキル基あるいはアラルキル基、nは正の
整数) で示される平均重合度が5以上であるフエノチア
ジン誘導体。 2 式 (ただし、Rは炭素数1〜16のアルキル基、シ
クロアルキル基あるいはアラルキル基、Xは同一
又は異る臭素あるいは沃素。) で示されるN−置換−3,7ジハロフエノチアジ
ンと式【式】で示される ジビニルベンゼンを触媒およびハロゲン化水素捕
捉剤の存在下で反応させることを特徴とする。 一般式 (ただし、Rは炭素数1〜16のアルキル基、シ
クロアルキル基、あるいはアラルキル基、nは正
の整数) で示されるN−置換−3,7ジハロフエノチアジ
ンとジビニルベンゼンとの縮重合生成物の製造方
法。 3 触媒が酢酸パラジウムおよびトリアリールホ
スフインの組み合せから成ることを特徴とする特
許請求の範囲2の方法。 4 ハロゲン化水素捕捉剤が3級アミンであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲2の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5110381A JPS57165423A (en) | 1981-04-07 | 1981-04-07 | Phenothiazine derivative and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5110381A JPS57165423A (en) | 1981-04-07 | 1981-04-07 | Phenothiazine derivative and its production |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57165423A JPS57165423A (en) | 1982-10-12 |
| JPH031328B2 true JPH031328B2 (ja) | 1991-01-10 |
Family
ID=12877468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5110381A Granted JPS57165423A (en) | 1981-04-07 | 1981-04-07 | Phenothiazine derivative and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57165423A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS581095U (ja) * | 1981-06-24 | 1983-01-06 | 小松フオ−クリフト株式会社 | フオ−クリフトの荷役装置 |
| US4505841A (en) * | 1982-11-17 | 1985-03-19 | Chevron Research Company | Fused 6,6,6-membered heterocyclic electroactive polymers |
| JPH1059952A (ja) * | 1996-08-14 | 1998-03-03 | Takasago Internatl Corp | フェノチアジン誘導体、フェノキサジン誘導体、それを用いた電荷輸送材料及び電子写真感光体 |
-
1981
- 1981-04-07 JP JP5110381A patent/JPS57165423A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57165423A (en) | 1982-10-12 |
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