JPS6239813B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6239813B2 JPS6239813B2 JP56093843A JP9384381A JPS6239813B2 JP S6239813 B2 JPS6239813 B2 JP S6239813B2 JP 56093843 A JP56093843 A JP 56093843A JP 9384381 A JP9384381 A JP 9384381A JP S6239813 B2 JPS6239813 B2 JP S6239813B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- corner
- signals
- binary
- patterns
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はLSIホトマスク等の回路パターン欠陥
をより精度良く検出するための装置に関するもの
である。
をより精度良く検出するための装置に関するもの
である。
第１図は従来一般的に行なわれているパターン
欠陥検出方式におけるパターン図を示し、同図
ａ，ｂに示す同じ形状の２つのパターン１および
２を同図ｃに示す如く互に比較し、パターン１と
２との不一致部ａ，ｂがあると、この部分はパタ
ーン１と２との形状の不一致部即ち欠陥と見なす
ことができる。理想的には同図ｃの如く重ね合せ
により小さな不一致部も検出できるものである
が、実際には２つのパターン１，２を完全に位置
合せすることが困難であるので、例えば位置合せ
誤差をＤとすると、第２図に示すようにカド部に
ある小さな欠陥ａは検出することが困難であり、
大きな欠陥ｂしか検出することができない。
欠陥検出方式におけるパターン図を示し、同図
ａ，ｂに示す同じ形状の２つのパターン１および
２を同図ｃに示す如く互に比較し、パターン１と
２との不一致部ａ，ｂがあると、この部分はパタ
ーン１と２との形状の不一致部即ち欠陥と見なす
ことができる。理想的には同図ｃの如く重ね合せ
により小さな不一致部も検出できるものである
が、実際には２つのパターン１，２を完全に位置
合せすることが困難であるので、例えば位置合せ
誤差をＤとすると、第２図に示すようにカド部に
ある小さな欠陥ａは検出することが困難であり、
大きな欠陥ｂしか検出することができない。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなく
し、角部にある小さな欠陥をも検出することがで
きるようになしたパターン欠陥検出装置を提供す
ることにある。
し、角部にある小さな欠陥をも検出することがで
きるようになしたパターン欠陥検出装置を提供す
ることにある。
即ち本発明は、上記目的を達成するために、位
置合せされた本来同一であるべき二つのパターン
の各々を同期走査して撮像する第１及び第２の撮
像装置と、該第１及び第２の撮像装置の各々より
得られる映像信号を２値絵素化信号に変換する第
１及び第２の２値化回路と、該第１及び第２の２
値化回路から得られる２値絵素化信号の各々を同
期、且つ対応させてある間隔離して複数の記憶因
子を直線的に配列して形成したＬ型の１組の記憶
因子群に順次記憶する第１及び第２のメモリと、
該第１及び第２のメモリの各々に記憶された外側
のＬ型の記憶因子群（P1〜Pn）に記憶された２
値絵素化信号（P1）〜（Pn）が（P1）＝…＝（Pn）
であり、内側のＬ型の記憶因子群（q1〜qm）に
記憶された２値絵素化信号（q1）〜（qm）が
（q1）＝（q2）＝…＝（qm）であり、しかも（P1）≠
（q1）であるか否かにより角部が切出された否かを
検知する第１及び第２の特定パターン検知手段と
該第１及び第２の特定パターン検知手段の一方か
らＸ，Ｙ座標において角部が検知され、他方から
（Ｘ±Ｄ、Ｙ±Ｄ）の範囲内において角部が検知
されなかつたとき一方のパターンに欠陥があると
判定する比較手段とを備え付けたことを特徴とす
るパターン欠陥検出装置である。
置合せされた本来同一であるべき二つのパターン
の各々を同期走査して撮像する第１及び第２の撮
像装置と、該第１及び第２の撮像装置の各々より
得られる映像信号を２値絵素化信号に変換する第
１及び第２の２値化回路と、該第１及び第２の２
値化回路から得られる２値絵素化信号の各々を同
期、且つ対応させてある間隔離して複数の記憶因
子を直線的に配列して形成したＬ型の１組の記憶
因子群に順次記憶する第１及び第２のメモリと、
該第１及び第２のメモリの各々に記憶された外側
のＬ型の記憶因子群（P1〜Pn）に記憶された２
値絵素化信号（P1）〜（Pn）が（P1）＝…＝（Pn）
であり、内側のＬ型の記憶因子群（q1〜qm）に
記憶された２値絵素化信号（q1）〜（qm）が
（q1）＝（q2）＝…＝（qm）であり、しかも（P1）≠
（q1）であるか否かにより角部が切出された否かを
検知する第１及び第２の特定パターン検知手段と
該第１及び第２の特定パターン検知手段の一方か
らＸ，Ｙ座標において角部が検知され、他方から
（Ｘ±Ｄ、Ｙ±Ｄ）の範囲内において角部が検知
されなかつたとき一方のパターンに欠陥があると
判定する比較手段とを備え付けたことを特徴とす
るパターン欠陥検出装置である。
以下第３図乃至第６図に示した実施例によつて
本発明を詳細に説明する。
本発明を詳細に説明する。
第３図は本発明によるパターン欠陥検出装置の
具体的ハード構成例を示すものである。図におい
て位置決めされ、本来同一であるパターン１およ
び２はレンズ３，３′を介してパターン映像器
４，４′によつて検出され、撮像器４，４′から得
られるビデオ信号５，５′はそれぞれ２値化回路
６，６′によつて２値絵素化され、特開昭50−
131469号公報等に記載されているように周知技術
によつてメモリ７，７′に各々初出されて入力さ
れる。ここで画像は空間的に量子化（２次元的に
切出されて）されてメモリされる。すなわち画像
はある最小単位の升目（記憶因子）で分割されメ
モリされる。ひとつの升目（記憶因子）を絵素と
呼ぶ。２値化画像の場合、絵素の内容は“１”あ
るいは“０”である。即ちメモリ７，７′の各々
は、例えば第７図に示すように一ラスタ分記憶す
るシフトレジスタ群７ａ，７a′とシフトレジスタ
群から出力された２値絵素化信号をパラレルイ
ン、パラレルアウトで切出して記憶するように縦
横に複数の記憶因子を有するメモリ７ｂ，７b′と
で構成されている。
具体的ハード構成例を示すものである。図におい
て位置決めされ、本来同一であるパターン１およ
び２はレンズ３，３′を介してパターン映像器
４，４′によつて検出され、撮像器４，４′から得
られるビデオ信号５，５′はそれぞれ２値化回路
６，６′によつて２値絵素化され、特開昭50−
131469号公報等に記載されているように周知技術
によつてメモリ７，７′に各々初出されて入力さ
れる。ここで画像は空間的に量子化（２次元的に
切出されて）されてメモリされる。すなわち画像
はある最小単位の升目（記憶因子）で分割されメ
モリされる。ひとつの升目（記憶因子）を絵素と
呼ぶ。２値化画像の場合、絵素の内容は“１”あ
るいは“０”である。即ちメモリ７，７′の各々
は、例えば第７図に示すように一ラスタ分記憶す
るシフトレジスタ群７ａ，７a′とシフトレジスタ
群から出力された２値絵素化信号をパラレルイ
ン、パラレルアウトで切出して記憶するように縦
横に複数の記憶因子を有するメモリ７ｂ，７b′と
で構成されている。
次に各々メモリされた画像から、局所的なパタ
ーンの形状が特定パターン検知手段８，８′の
各々によつて検知される。特定パターン検知手段
８，８′の各々における特定パターンとしては、
例えば、第４図に示すような複数の記憶因子を直
線的に並べたＬ型の絵素群１０，１０′が所定の
間隔離して設けられている。即ちメモリ７，７′
の各々に記憶された全絵素のうち、第４図に示す
ように外側Ｌ部１０′（P1、P2、…Pn）と内側Ｌ
部１０（q1、q2…qm）に記憶された２値絵素化
信号（P1）〜（Pn）、（q1）〜（qm）が の関係を満足するとき、特定パターン検知手段
８，８′の各々において角部１１があるものと判
定する。この特定パターン検知手段８，８′の
各々を上記(1)式にもとづいて、例えば理論回路
（AND回路８ａ，８a′、NOR回路８ｂ，８b′、
OR回路８ｃ，８c′）で示せば第７図に示すよう
に構成される。なお、Ｌ部の例としては第４図即
ち第５図の１２の方向の角部のほかに、第５図１
３，１４，１５の例もあり、これらの角部は、メ
モリ７，７′の各々からの読出しパターンを適宜
設定することによつて、例えば、ある間隔離され
た２組のＬ型の窓内のデータ内容のチエツクによ
つて、パターンの角部の存在を検知することがで
きる。
ーンの形状が特定パターン検知手段８，８′の
各々によつて検知される。特定パターン検知手段
８，８′の各々における特定パターンとしては、
例えば、第４図に示すような複数の記憶因子を直
線的に並べたＬ型の絵素群１０，１０′が所定の
間隔離して設けられている。即ちメモリ７，７′
の各々に記憶された全絵素のうち、第４図に示す
ように外側Ｌ部１０′（P1、P2、…Pn）と内側Ｌ
部１０（q1、q2…qm）に記憶された２値絵素化
信号（P1）〜（Pn）、（q1）〜（qm）が の関係を満足するとき、特定パターン検知手段
８，８′の各々において角部１１があるものと判
定する。この特定パターン検知手段８，８′の
各々を上記(1)式にもとづいて、例えば理論回路
（AND回路８ａ，８a′、NOR回路８ｂ，８b′、
OR回路８ｃ，８c′）で示せば第７図に示すよう
に構成される。なお、Ｌ部の例としては第４図即
ち第５図の１２の方向の角部のほかに、第５図１
３，１４，１５の例もあり、これらの角部は、メ
モリ７，７′の各々からの読出しパターンを適宜
設定することによつて、例えば、ある間隔離され
た２組のＬ型の窓内のデータ内容のチエツクによ
つて、パターンの角部の存在を検知することがで
きる。
次に特定パターン検知手段８，８′の各々によ
つて判定されたパターンの角部の比較を比較手段
９にて行う。両方のパターンに角部が存在すれば
パターンは正常、片側にのみ存在するときパター
ンは欠陥と判定する。すなわち、特定パターン検
知手段８（あるいは８′）でパターン１（あるい
は２）の座標Ｘ，Ｙ部に角部の存在が検知された
場合、他方の特定パターン検知手段８′（あるい
は８）によつてパターン２（あるいは１）の座標
（Ｘ±Ｄ、Ｙ±Ｄ）の範囲内（Ｄは位置ずれを許
容した値である。）で同じ方向の角部が検知され
ているか否かをチエツクする。同じ方向の角部が
見い出されなかつた場合比較手段９は欠陥信号を
出力する。
つて判定されたパターンの角部の比較を比較手段
９にて行う。両方のパターンに角部が存在すれば
パターンは正常、片側にのみ存在するときパター
ンは欠陥と判定する。すなわち、特定パターン検
知手段８（あるいは８′）でパターン１（あるい
は２）の座標Ｘ，Ｙ部に角部の存在が検知された
場合、他方の特定パターン検知手段８′（あるい
は８）によつてパターン２（あるいは１）の座標
（Ｘ±Ｄ、Ｙ±Ｄ）の範囲内（Ｄは位置ずれを許
容した値である。）で同じ方向の角部が検知され
ているか否かをチエツクする。同じ方向の角部が
見い出されなかつた場合比較手段９は欠陥信号を
出力する。
検出される角部の欠陥の形状は第４図に示す配
置によつて決められる。例えば第６図の実線１６
に示す角部は式(1)を満さないので、角部とは判定
されない。従つて、他の比較パターン形状が破線
で示すように角部１７を持つ場合、パターン１６
は欠陥と判定される。
置によつて決められる。例えば第６図の実線１６
に示す角部は式(1)を満さないので、角部とは判定
されない。従つて、他の比較パターン形状が破線
で示すように角部１７を持つ場合、パターン１６
は欠陥と判定される。
なお上記実施例においては、特定パターンとし
て角部を例にとつて説明したが、微細な凹凸、鋭
角的な屈曲部等の欠陥検出に応用できることは勿
論である。
て角部を例にとつて説明したが、微細な凹凸、鋭
角的な屈曲部等の欠陥検出に応用できることは勿
論である。
本発明による検出方式によれば、例えば第６図
に示すわずかなパターン角部の変形も欠陥と判定
し得、従来の検査方式では検出できなかつたよう
な微小変形の欠陥も発見できるようになり、この
発見した欠陥を修正（修正できない場合は廃棄）
することによつて、より品質の良いマスクを
IC、LSI製造に利用できるようになる。その結果
IC、LSI製造の歩留りは向上し、より能率良く製
造を行うことができるようになり、その工業的価
値は非常に大なるものがある。
に示すわずかなパターン角部の変形も欠陥と判定
し得、従来の検査方式では検出できなかつたよう
な微小変形の欠陥も発見できるようになり、この
発見した欠陥を修正（修正できない場合は廃棄）
することによつて、より品質の良いマスクを
IC、LSI製造に利用できるようになる。その結果
IC、LSI製造の歩留りは向上し、より能率良く製
造を行うことができるようになり、その工業的価
値は非常に大なるものがある。
第１図は一般的なパターン欠陥検出方式のパタ
ーン図であり、第２図は第１図の方式において位
置合せ誤差があつた場合のパターン図である。第
３図乃至第７図は本発明に係わり、第３図はパタ
ーン欠陥検出装置の一実施例を示すブロツク図、
第４図は角部の存在を検知するためのパターンの
一例図、第５図は角部の種類（方向）を示す図、
第６図は角部の検知例と角部と検知しない例を示
す図、第７図は第３図に示す装置の一実施例を更
に具体的に一例を示した図である。 １，２…パターン、７，７′…メモリ、８，
８′…特定パターン検知手段、９…比較手段、１
０…内側Ｌ部、１０′…外側Ｌ部、１１〜１５…
Ｌ部。
ーン図であり、第２図は第１図の方式において位
置合せ誤差があつた場合のパターン図である。第
３図乃至第７図は本発明に係わり、第３図はパタ
ーン欠陥検出装置の一実施例を示すブロツク図、
第４図は角部の存在を検知するためのパターンの
一例図、第５図は角部の種類（方向）を示す図、
第６図は角部の検知例と角部と検知しない例を示
す図、第７図は第３図に示す装置の一実施例を更
に具体的に一例を示した図である。 １，２…パターン、７，７′…メモリ、８，
８′…特定パターン検知手段、９…比較手段、１
０…内側Ｌ部、１０′…外側Ｌ部、１１〜１５…
Ｌ部。
Claims (1)
- １ 位置合わせされた本来同一であるべき二つの
パターンの各々を同期走査して撮像する第１及び
第２の撮像装置と、該第１及び第２の撮像装置の
各々より得られる映像信号を２値絵素化信号に変
換する第１及び第２の２値化回路と、該第１及び
第２の２値化回路から得られる２値絵素化信号の
各々を同期、且つ対応させてある間隔離して複数
の記憶因子を直線的に配列して形成したＬ型の１
組の記憶因子群に順次記憶する第１及び第２のメ
モリと、該第１及び第２のメモリの各々に記憶さ
れた外側のＬ型の記憶因子群（P1〜Pn）に記憶
された２値絵素化信号（P1）〜（Pn）が（P1）＝
（P2）＝…＝（Pn）であり、内側のＬ型の記憶因子
群（q1〜qm）に記憶された２値絵素化信号
（q1）〜（qm）が（q1）＝（q2）＝…＝（qm）であ
り、しかも（P1）≠（q1）であるか否かにより角部
が切出された否かを検知する第１及び第２の特定
パターン検知手段と、該第１及び第２の特定パタ
ーン検知手段の一方からＸ，Ｙ座標において角部
が検知され、他方から（Ｘ±Ｄ、Ｙ±Ｄ）の範囲
内において角部が検知されなかつたとき一方のパ
ターンに欠陥があると判定する比較手段とを備え
付けたことを特徴とするパターン欠陥検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9384381A JPS57210627A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Detecting method for defect of pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9384381A JPS57210627A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Detecting method for defect of pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57210627A JPS57210627A (en) | 1982-12-24 |
| JPS6239813B2 true JPS6239813B2 (ja) | 1987-08-25 |
Family
ID=14093675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9384381A Granted JPS57210627A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Detecting method for defect of pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57210627A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5924361B2 (ja) * | 1974-04-03 | 1984-06-08 | 株式会社日立製作所 | ２次元画像比較検査装置 |
| JPS53117978A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-14 | Hitachi Ltd | Automatic mask appearance inspection apparatus |
-
1981
- 1981-06-19 JP JP9384381A patent/JPS57210627A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57210627A (en) | 1982-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4589139A (en) | Apparatus for detecting defects in pattern | |
| US4776023A (en) | Pattern inspection method | |
| US4547895A (en) | Pattern inspection system | |
| EP0117559A2 (en) | Pattern checking apparatus | |
| TWI234649B (en) | Visual inspection apparatus and method | |
| JPH0621769B2 (ja) | パタ−ン欠陥検出方法およびその装置 | |
| TW392069B (en) | Visual inspection apparatus and method | |
| US4472738A (en) | Pattern testing apparatus | |
| JPS5924361B2 (ja) | ２次元画像比較検査装置 | |
| JPS6239813B2 (ja) | ||
| JP3207931B2 (ja) | 画像検査装置 | |
| JPH0727708A (ja) | ウエハの欠陥検査方法 | |
| JPH0160766B2 (ja) | ||
| JP3116438B2 (ja) | プリント配線基板の検査装置および検査方法 | |
| JPS6057929A (ja) | パターン欠陥検出装置 | |
| JP3684707B2 (ja) | レチクルパターン検査方法 | |
| JP5075306B2 (ja) | ウエハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法 | |
| JP2765339B2 (ja) | スルーホール検査装置 | |
| JP2002365233A (ja) | 欠陥検査方法 | |
| JPS5860538A (ja) | パタ−ン検査方法 | |
| JPS59167782A (ja) | ２次元画像比較検査装置 | |
| JPH0417361B2 (ja) | ||
| JPS6160635B2 (ja) | ||
| JPH0325357A (ja) | 画像欠陥検出方法 | |
| JPH0410565B2 (ja) |