JPS6240370A

JPS6240370A - 真空装置の基板移送機構

Info

Publication number: JPS6240370A
Application number: JP17755885A
Authority: JP
Inventors: Keiji Arimatsu; 有松　啓治; Shinzo Oikawa; 及川　新三
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-08-14
Filing date: 1985-08-14
Publication date: 1987-02-21

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の利用分野〕本発明は、スパッタ装置に係シ、特に、ロードロック機
構を適用するのに好適な、基板の移送機構に関する。

〔発明の背景〕

真空室内で、基板にスパッタあるいはイオンビーム加工
などの処理を行う装置では、処理性能の向上及び安定の
ため、処理室は常に真空状態を保ち、処理室以外に予備
真空室を設けて、処理すべき基板の搬入、搬出を行う。

たとえば、特開昭５９−２０８８３６号公報に記載のよ
うに、従来の装置では、複数の真空室で構成されておシ
、上記の機能をもたせている。

第５図によシ、従来装置の運転動作を説明する。

装置は、仕込室１と処理室２から構成されておシゲート
弁７で仕切られている。この構成で、ゲート弁７を閉じ
た状態で、処理室２を真空状態にし仕込室１内の搬送装
置４に基板保持板９ａを置く。

仕込室１を真空状態にした後、ゲート弁７を開放し、基
板９ａは搬送装置４により、処理室２に移送され、さら
に搬送装置５によって所定の位置に移送されて、基板保
持板９ｂとなる。必要な加工処理の後、基板９ｂは搬送
装置５により仕込室ｌに戻され、ゲート弁７を閉じて、
装置外に取出される。この処理プロセスにより、処理室
２は常に真空状態が保持され、安定した加工処理ができ
る。

しかし、このような従来装置では、高価なゲート弁を必
要とする他、２組の搬送機構が必要であシ、仕込室と処
理室との間を、ゲート弁を越えて基板を搬送する機構が
必要である。第６図に、量産を目的とした。仕込室１と
取出室３を別に設けた場合を示すが、必要な搬送機構は
３組、越えなければならないゲート弁は２ケ所になり、
構造はさらに複雑になる。

このように、従来例では、経済性のみならず、２組ある
いは３組の搬送機構を制御するシステムが必要であシ、
部品数の増加とも重なって、信頼性にも問題があった。

〔発明の目的〕本発明の目的は、高価なゲート弁がなく、１組の搬送機
構のみで所定の機能を達成できる。経済性、信頼性にす
ぐれた、ロードロック方式の真空処理装置を提供するこ
とＶＣ６る。

〔発明の概要〕

本発明は、真空シール面に対し直角方向に運動する弁体
を、少なくとも予備真空室側尾設け、この弁体に機械的
に増付けられ、予備真空室側に位置する構造物上に基板
保持板を設置することによシ、予備真空室、真空処理室
間の移送を、弁の開閉動作によって行い、゛特別な搬送
機構、高価なゲート弁を、不要にしたものである。

〔発明の実施例〕

以下１本発明の一実施例を第１図〜第４図によシ説明す
る。

第１図及び第３図に、第５図に対応する本発明の実施例
の横断面図を、第２図及び第４図にそのそれぞれの側断
面図を示す。第１図及び第２図は、仕込室１と処理室２
が弁体２２で真空封止されている。この状態で仕込室１
内の支持装置２３上に基板保持板９を設置し、仕込室１
を真空にする。

処理室２はすてて真空状態になっている。弁体２１と弁
体２２は支持装置２３を介して機械的に接続され、ガイ
ド２４，２５．２６と摺動自由に取付けられており、図
示されてｒない駆動装置により回転運動するネジ２７に
より、弁座３１に対し、垂直方向に移動する。

基板保持板９を、仕込室１内で支持装置２３上に設置し
た後、仕込室１を真空状態にすると、ネジ２７の回転運
動により、基板保持板９は処理室２に移送され、仕込室
１と処理室２は、弁体２１により封止される。基板保持
板９上に設置された基板４０の処理が終了すると、上記
の逆のプロセスで、仕込室１に戻り、取出される。弁体
２１は必ずしも真空封止の機能をもつ必要はない。

〔発明の効果〕

本発明によれば、１）直線運動する弁体によって真空封止を行うので、信
頼性が高く経済的にもすぐれている。

２）弁体の動作に従って、基板が移送されるので特別な
移送機構が不要であシ、経済性が著しく向上するだけで
なく、制御装置も簡単であり、信頼性も高くできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明になる一実施例で、基板が仕込室にある
状態での横断面図、第２図はその縦断面図、第３図は基
板が処理室にある状態での横断面図、第４図はその縦断
面図、第５図及び第６図は従来例の縦断面図である。１・・・仕込室、２・・・処理室、３・・・取出し室、
４−６・・・搬送装置、７，８・・・ゲート弁、１３・
・・ターゲット、１４・・・ヒータ、２１．２２・・・
弁体、２３・・・支　−・・１、持装置、３１・・・弁
座、４０・・・基板。　　　　　　　　　ノーン

Claims

【特許請求の範囲】

１、真空容器内で、基板にスパッタなどの処理を行う装
置で、前記真空容器以外に予備真空容器を設け、前記基
板の前記真空容器内への収納、あるいは、前記真空容器
からの前記基板の取出しに際して、前記予備真空容器を
真空状態にした後に、前記真空容器との基板の搬入、搬
出を行い、該真空容器は常に真空状態を保持する装置に
おいて、前記真空容器と前記予備真空容器とを連絡する
開口部を真空封止する弁体を、少なくとも該真空室側に
設け、該弁体は、前記真空封止面に対しほゞ直角方向に
運動することによって、弁の開閉動作をなし、該弁体に
は、被処理対象である前記基板を支持する装置を、該弁
体の閉止状態で前記予備真空容器側に位置するように設
けたことを特徴とする真空装置の基板移送機構。