JPS6241701B2 - - Google Patents
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- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- -1 inorganic acid salts Chemical class 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVGLLYVYRZMJIN-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;rhodium Chemical group [Rh].[Rh].[Rh].[Rh].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] LVGLLYVYRZMJIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBOFHVFMPNNIKN-UHFFFAOYSA-N dimethylquinoline Natural products C1=CC=C2N=C(C)C(C)=CC2=C1 FBOFHVFMPNNIKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N pyridin-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=N1 UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPKHPYQIXCUKQJ-UHFFFAOYSA-N 1-di(piperidin-1-yl)phosphorylpiperidine Chemical compound C1CCCCN1P(N1CCCCC1)(=O)N1CCCCC1 CPKHPYQIXCUKQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGYADSCZTQOAFK-UHFFFAOYSA-N 1-methylbenzimidazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C=NC2=C1 FGYADSCZTQOAFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVVGIUUJYPYENY-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyridin-2-one Chemical compound CN1C=CC=CC1=O DVVGIUUJYPYENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRNAEDHJBNPCEZ-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,2-trimethylpropane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)CC(C)(C)N IRNAEDHJBNPCEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHELJWBGTIKZQW-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC(C)N1CCCC1=O GHELJWBGTIKZQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKQJDWBNQNAJHB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl formate Chemical compound OCCOC=O UKQJDWBNQNAJHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXNBDFWNYRNIBH-UHFFFAOYSA-N 3-fluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(F)=C1 MXNBDFWNYRNIBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co] Chemical compound [Cr].[Co] WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTDQECXVEKMBFD-UHFFFAOYSA-K [Rh+3].CCC([O-])=O.CCC([O-])=O.CCC([O-])=O Chemical compound [Rh+3].CCC([O-])=O.CCC([O-])=O.CCC([O-])=O NTDQECXVEKMBFD-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- YOORNTLJJJVIDT-UHFFFAOYSA-K [Rh+3].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [Rh+3].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 YOORNTLJJJVIDT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GGRQQHADVSXBQN-FGSKAQBVSA-N carbon monoxide;(z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;rhodium Chemical compound [Rh].[O+]#[C-].[O+]#[C-].C\C(O)=C\C(C)=O GGRQQHADVSXBQN-FGSKAQBVSA-N 0.000 description 1
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N ctk1a3526 Chemical class NP(N)(N)=O DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N cyclopentylcyclopentane Chemical group C1CCCC1C1CCCC1 MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLVFOIYZSCGONS-UHFFFAOYSA-N di(propan-2-yl)-trimethylsilylphosphane Chemical compound CC(C)P(C(C)C)[Si](C)(C)C NLVFOIYZSCGONS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZYDBKYFEURFNC-UHFFFAOYSA-N dioxorhodium Chemical compound O=[Rh]=O KZYDBKYFEURFNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRTUSXQDCPTEKJ-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(trimethylsilyl)phosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)[Si](C)(C)C YRTUSXQDCPTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYHLFCABAAMJV-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(trimethylsilylmethyl)phosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C[Si](C)(C)C CWYHLFCABAAMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- FRQONEWDWWHIPM-UHFFFAOYSA-N n,n-dicyclohexylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C1CCCCC1)C1CCCCC1 FRQONEWDWWHIPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNEIVTNMGMUAEX-UHFFFAOYSA-H oxalate rhodium(3+) Chemical compound [Rh+3].[Rh+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O QNEIVTNMGMUAEX-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical class [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triacetate Chemical compound [Rh+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KTEDZFORYFITAF-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Rh+3] KTEDZFORYFITAF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H rhodium(3+);trisulfate Chemical compound [Rh+3].[Rh+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- XBBXDTCPEWHXKL-UHFFFAOYSA-N rhodium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Rh+3].[Rh+3] XBBXDTCPEWHXKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWAKCRNSZSPDTB-UHFFFAOYSA-N rhodocene Chemical compound [Rh+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 IWAKCRNSZSPDTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
技術分野
本発明は、エチレングリコールを製造する方法
に関するものである。 本発明の方法によれば、比較的温和な条件下に
エチレングリコールを生成速度早くかつ高い選択
率で収率よく製造することができる。 公知技術 エチレングリコールは従来よりエチレンの酸化
反応によつて製造されてきた。近年、エチレン価
格の高騰などの要因によつて、より安価な原料で
ある合成ガスからの製造技術が開発されつつあ
る。 例えば特公昭53−31122、同55−43821、同53−
15047、特開昭50−32118、特公昭56−40131、同
55−5497、同55−33694、同55−33697、特開昭51
−125203、特公昭56−10894、同56−40698、特開
昭52−42809、同52−42810、特公昭56−40132、
特開昭53−121714、同54−71094、同54−48703、
同54−92903、同54−16415、同54−122211、同55
−9065、同53−108889、同56−75498、同57−
128645、同57−130941および同57−130942各号公
報、更に米国特許第4013700号、同第4199520号、
同第4133776号、同第4151192号、同第4153623
号、同第4225530号、同第4199521号、同第
4190598号、同第4211719号および同第4302547号
各明細書に開示されているように、ロジウム触媒
を使用し、高温、高圧力下に合成ガスを反応させ
る方法が知られている。 これら公知技術においてロジウム触媒は、単位
触媒量当りのエチレングリコールの生成速度とい
う点で未だ活性が低く、高価なロジウム触媒を使
用して、工業的規模のエチレングリコールを製造
する実用的価値は未だ充分とはいえない。 発明の概要 本発明者らは、ロジウム含有化合物触媒を使用
するエチレングリコールを製造する方法におい
て、単位ロジウム原子当りのエチレングリコール
の生成速度および選択率を高めるべく鋭意検討し
た結果、特定の構造を有する有機リン化合物を反
応系に存在させると、意外にもエチレングリコー
ルを選択的に効率良く製造できることを見い出し
本発明を完成した。 即ち、本発明は、ロジウム含有化合物触媒の存
在下、一酸化炭素及び水素を加熱加圧条件下に反
応させてエチレングリコールを製造する方法にお
いて、反応系に一般式、 (但し、R1及びR2は同一又は異るC3〜12でか
つリン原子に結合する炭素が第2級又は第3級で
あるアルキル基を、R3はC1〜4のアルキル基を、
nは0又は1をそれぞれ示す)で表わされる有機
リン化合物を添加して反応させることを特徴とす
るエチレングリコールを製造する方法を提供する
ものである。 発明の具体的説明 本発明の方法に使用されるロジウム含有化合物
は特に限定されるものではないが、例えば金属ロ
ジウム、ロジウムの酸化物、水酸化物、無機酸
塩、有機酸塩あるいは錯化合物などを例示するこ
とができる。更に具体的には、三酸化二ロジウ
ム、二酸化ロジウム、水酸化ロジウム、シユウ酸
ロジウム、硝酸ロジウム、硫酸ロジウム、ロジウ
ムトリスアセチルアセトナート、酢酸ロジウム、
プロピオン酸ロジウム、安息香酸ロジウム、オク
タン酸ロジウム、ロジウムジカルボニルアセチル
アセトナート、テトラロジウムドデカカルボニ
ル、ヘキサロジウムヘキサデカカルボニル、ビス
(テトラブチルアンモニウム)ドデカロジウムト
リデカカルボニル、ビス(テトラエチルアンモニ
ウム)ヘキサロジウムペンタデカカルボニル、ジ
カルボニル(η−シクロペンタジエニル)ロジウ
ム、(η−シクロペンタジエニル)(η−シクロオ
クタジエン)ロジウム、ロドセンなどを例示する
ことができる。 ロジウム化合物の使用量は、反応液中のロジウ
ム原子の濃度として反応溶液1リツトル当り1×
10-6〜100グラム原子、好ましくは1×10-5〜10
グラム原子である。 本発明の方法に使用される有機リン化合物は下
記一般式()で示される構造を有する化合物で
ある。 (但し、R1及びR2は同一又は異るC3〜12でか
つリン原子に結合する炭素が第2級又は第3級で
あるアルキル基を、R3はC1〜4のアルキル基を、
nは0又は1をそれぞれ示す)。 上記一般式()で表わされる有機リン化合物
の置換基R1及びR2の具体例としては、第2プロ
ピル基、第2ブチル基、第3ブチル基、第2ペン
チル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロオクチル基、シクロドデシル基などを挙げ
ることができ、またR3としては、メチル基、エ
チル基、第1プロピル基、第2プロピル基、第1
ブチル基、第2ブチル基、第3ブチル基、イソブ
チル基などである。 更にこれら有機リン化合物の具体例としては、
ジイソプロピル(トリメチルシリル)ホスフイ
ン、ジ−tert−ブチル(トリメチルシリル)ホス
フイン、ジシクロペンチル(トリ−n−ブチルシ
リル)ホスフイン、ジイソプロピル(トリメチル
シリルメチル)ホスフイン、ジ−tert−ブチル
(トリメチルシリルメチル)ホスフイン、ジシク
ロペンチル(トリ−n−ブチルシリルメチル)ホ
スフイン、ジシクロオクチル(トリエチルシリル
メチル)ホスフイン等が例示できる。 これらの有機リン化合物は、単独でも或いは2
種以上を混合して用いることができる。 これらの有機リン化合物の使用量は、種類によ
つて異なるが一般には、使用するロジウム原子に
対するモル比として0.1〜500倍モル、より好まし
くは0.5〜300倍モルの範囲である。 本発明の方法においては、上記有機リン化合物
の他に第三級アミン類などの塩基性物質又はカル
ボン酸類などの酸性物質を反応系に添加すること
ができる。これらの化合物を添加することにより
前記有機リン化合物添加による効果即ち、エチレ
ングリコールの生成速度及びその選択率を一層高
めることができる。 この様な添加可能な化合物を例示すれば、第三
級アミン類としてはトリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、トリシクロヘキシ
ルアミン、1−メチルピロリジン、1−メチルピ
ペリジン、1−メチルモルホリンなどの脂肪族ア
ミン、ジメチルアニリン、ジメチルキノリンなど
の芳香族アミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ
ピリジン、2−ヒドロキシピリジンなどのピリジ
ン類、1,1,4,4−テトラメチルエチレンジ
アミン、1,1,8,8−テトラメチルヘキサメ
チレンジアミン、1,8−ジアザビシクロ〔5,
4,0〕−ウンデセン−7などの脂肪族ポリアミ
ン、1−メチルイミダゾール、1−メチルベンズ
イミダゾールなどのイミダゾール類などを挙げる
ことができる。またカルボン酸類としては、ギ
酸、酢酸、トリクロル酢酸などの脂肪族カルボン
酸類、安息香酸、3−フルオロ安息香酸などの芳
香族カルボン酸類などが例示できる。 上記第三級アミン類およびカルボン酸類の好ま
しい添加量範囲は、添加する化合物によるが、一
般的には使用するロジウム化合物に対してそれぞ
れ0.1〜500倍モル、より好ましくは0.5〜300倍モ
ルの範囲である。 本発明の方法においては、反応溶媒を使用する
ことが望ましいが、反応溶媒としては、ロジウム
含有化合物触媒及び有機リン化合物、更には上記
添加剤等を溶解するものであれば良く、以下に記
載するようなものを使用することができる。例え
ば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、アセトン、ジエチルケトン、ア
セトフエノン等のケトン類、フエノール、メトキ
シフエノール等のフエノール類、酢酸メチル、酢
酸エチル、エチレングリコールジアセテート、γ
−ブチロラクトン等のエステル類、スルホラン、
ジメチルスルホン等のスルホン類、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシ
ド類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノ
ン、N−イソプロピルピロリジノン、N−メチル
−2−ピリドン等のアミド類、N,N,N′,
N′−テトラメチル尿素、N,N′−ジメチルイミ
ダゾリジノンなどの置換尿素類、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド、トリピペリジノホスフインオキ
シド等のリン酸トリアミド類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、テトラリン等の芳香族炭化水素、
n−ヘキサン、n−オクタン、シクロヘキサン、
デカリンなどの脂肪族あるいは脂環族炭化水素、
ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリ
ル類、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネ
ート等の炭酸エステル類などである。 本発明の方法において反応は加熱加圧条件下で
実施される。反応圧力としては、通常1〜2000
Kg/cm2G、好ましくは30〜1000Kg/cm2G、より好
ましくは50〜500Kg/cm2Gの範囲である。この際
エチレングリコール製造のための原料ガスとして
反応系に供給される一酸化炭素と水素の割合は、
通常水素ガスに対する一酸化炭素のモル比として
0.05〜20、好ましくは0.1〜10の範囲である。ま
た反応温度としては通常50〜350℃、好ましくは
100〜300℃の範囲である。更に反応時間としては
通常0.1〜20時間、好ましくは0.3〜10時間の範囲
が使用される。本法はバツチ式、半連続式又は連
続式で実施することができる。 実験例 実施例 1〜2 反応器は600Kg/cm2G(ゲージ圧)まで耐える
内容積40mlのハステロイC製オートクレーブを使
用した。また反応液の撹拌はテフロンをコーテイ
ングしたマグネツト回転子を反応器中に入れ、こ
れを外部より磁気誘導によつて回転させる方式を
採用した。 アルゴンガス雰囲気下で、反応器にテトラロジ
ウムドデカカルボニル:74.8ミリグラム(ロジウ
ム原子として0.4ミリグラム原子)、表1に示す有
機リン化合物をそれぞれ0.8ミリモル、および溶
媒としてN,N′−ジメチルイミダゾリジノン:
7.5mlをそれぞれ仕込み、反応器を封じた後に一
酸化炭素および水素の等モル混合ガスで反応系内
ガスを数回置換し、室温で370Kg/cm2G(ゲージ
圧)となるまで反応器に該混合ガスを封入した。
この反応器を外部磁気誘導回転で撹拌しつつ、電
気炉を用いて反応液の温度が220℃となるまで加
熱した。この温度を1時間保つて反応を行なつた
ところ、時間の経過とともにガスの吸収が認めら
れた。220℃での最高到達圧力および反応終了時
の圧力を表1に最高圧−最低圧として示した。 反応終了後反応器を急冷し室温とした後、未反
応ガスをパージして均一な反応液を得た。これを
ガスクロマトグラフイーによつて定量分析した結
果、主な生成物としてエチレングリコールおよび
メタノールが得られ、また若干の二酸化炭素、ギ
酸メチル、1,2−プロピレングリコール、エチ
レングリコールモノギ酸エステル、グリセリンな
どが得られた。エチレングリコールとメタノール
の収量を表1に示した。 比較例 1 有機リン化合物を添加しないことの他は実施例
1と同様に反応を行い、得られた反応液を分析し
た結果を表1に示した。
に関するものである。 本発明の方法によれば、比較的温和な条件下に
エチレングリコールを生成速度早くかつ高い選択
率で収率よく製造することができる。 公知技術 エチレングリコールは従来よりエチレンの酸化
反応によつて製造されてきた。近年、エチレン価
格の高騰などの要因によつて、より安価な原料で
ある合成ガスからの製造技術が開発されつつあ
る。 例えば特公昭53−31122、同55−43821、同53−
15047、特開昭50−32118、特公昭56−40131、同
55−5497、同55−33694、同55−33697、特開昭51
−125203、特公昭56−10894、同56−40698、特開
昭52−42809、同52−42810、特公昭56−40132、
特開昭53−121714、同54−71094、同54−48703、
同54−92903、同54−16415、同54−122211、同55
−9065、同53−108889、同56−75498、同57−
128645、同57−130941および同57−130942各号公
報、更に米国特許第4013700号、同第4199520号、
同第4133776号、同第4151192号、同第4153623
号、同第4225530号、同第4199521号、同第
4190598号、同第4211719号および同第4302547号
各明細書に開示されているように、ロジウム触媒
を使用し、高温、高圧力下に合成ガスを反応させ
る方法が知られている。 これら公知技術においてロジウム触媒は、単位
触媒量当りのエチレングリコールの生成速度とい
う点で未だ活性が低く、高価なロジウム触媒を使
用して、工業的規模のエチレングリコールを製造
する実用的価値は未だ充分とはいえない。 発明の概要 本発明者らは、ロジウム含有化合物触媒を使用
するエチレングリコールを製造する方法におい
て、単位ロジウム原子当りのエチレングリコール
の生成速度および選択率を高めるべく鋭意検討し
た結果、特定の構造を有する有機リン化合物を反
応系に存在させると、意外にもエチレングリコー
ルを選択的に効率良く製造できることを見い出し
本発明を完成した。 即ち、本発明は、ロジウム含有化合物触媒の存
在下、一酸化炭素及び水素を加熱加圧条件下に反
応させてエチレングリコールを製造する方法にお
いて、反応系に一般式、 (但し、R1及びR2は同一又は異るC3〜12でか
つリン原子に結合する炭素が第2級又は第3級で
あるアルキル基を、R3はC1〜4のアルキル基を、
nは0又は1をそれぞれ示す)で表わされる有機
リン化合物を添加して反応させることを特徴とす
るエチレングリコールを製造する方法を提供する
ものである。 発明の具体的説明 本発明の方法に使用されるロジウム含有化合物
は特に限定されるものではないが、例えば金属ロ
ジウム、ロジウムの酸化物、水酸化物、無機酸
塩、有機酸塩あるいは錯化合物などを例示するこ
とができる。更に具体的には、三酸化二ロジウ
ム、二酸化ロジウム、水酸化ロジウム、シユウ酸
ロジウム、硝酸ロジウム、硫酸ロジウム、ロジウ
ムトリスアセチルアセトナート、酢酸ロジウム、
プロピオン酸ロジウム、安息香酸ロジウム、オク
タン酸ロジウム、ロジウムジカルボニルアセチル
アセトナート、テトラロジウムドデカカルボニ
ル、ヘキサロジウムヘキサデカカルボニル、ビス
(テトラブチルアンモニウム)ドデカロジウムト
リデカカルボニル、ビス(テトラエチルアンモニ
ウム)ヘキサロジウムペンタデカカルボニル、ジ
カルボニル(η−シクロペンタジエニル)ロジウ
ム、(η−シクロペンタジエニル)(η−シクロオ
クタジエン)ロジウム、ロドセンなどを例示する
ことができる。 ロジウム化合物の使用量は、反応液中のロジウ
ム原子の濃度として反応溶液1リツトル当り1×
10-6〜100グラム原子、好ましくは1×10-5〜10
グラム原子である。 本発明の方法に使用される有機リン化合物は下
記一般式()で示される構造を有する化合物で
ある。 (但し、R1及びR2は同一又は異るC3〜12でか
つリン原子に結合する炭素が第2級又は第3級で
あるアルキル基を、R3はC1〜4のアルキル基を、
nは0又は1をそれぞれ示す)。 上記一般式()で表わされる有機リン化合物
の置換基R1及びR2の具体例としては、第2プロ
ピル基、第2ブチル基、第3ブチル基、第2ペン
チル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロオクチル基、シクロドデシル基などを挙げ
ることができ、またR3としては、メチル基、エ
チル基、第1プロピル基、第2プロピル基、第1
ブチル基、第2ブチル基、第3ブチル基、イソブ
チル基などである。 更にこれら有機リン化合物の具体例としては、
ジイソプロピル(トリメチルシリル)ホスフイ
ン、ジ−tert−ブチル(トリメチルシリル)ホス
フイン、ジシクロペンチル(トリ−n−ブチルシ
リル)ホスフイン、ジイソプロピル(トリメチル
シリルメチル)ホスフイン、ジ−tert−ブチル
(トリメチルシリルメチル)ホスフイン、ジシク
ロペンチル(トリ−n−ブチルシリルメチル)ホ
スフイン、ジシクロオクチル(トリエチルシリル
メチル)ホスフイン等が例示できる。 これらの有機リン化合物は、単独でも或いは2
種以上を混合して用いることができる。 これらの有機リン化合物の使用量は、種類によ
つて異なるが一般には、使用するロジウム原子に
対するモル比として0.1〜500倍モル、より好まし
くは0.5〜300倍モルの範囲である。 本発明の方法においては、上記有機リン化合物
の他に第三級アミン類などの塩基性物質又はカル
ボン酸類などの酸性物質を反応系に添加すること
ができる。これらの化合物を添加することにより
前記有機リン化合物添加による効果即ち、エチレ
ングリコールの生成速度及びその選択率を一層高
めることができる。 この様な添加可能な化合物を例示すれば、第三
級アミン類としてはトリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、トリシクロヘキシ
ルアミン、1−メチルピロリジン、1−メチルピ
ペリジン、1−メチルモルホリンなどの脂肪族ア
ミン、ジメチルアニリン、ジメチルキノリンなど
の芳香族アミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ
ピリジン、2−ヒドロキシピリジンなどのピリジ
ン類、1,1,4,4−テトラメチルエチレンジ
アミン、1,1,8,8−テトラメチルヘキサメ
チレンジアミン、1,8−ジアザビシクロ〔5,
4,0〕−ウンデセン−7などの脂肪族ポリアミ
ン、1−メチルイミダゾール、1−メチルベンズ
イミダゾールなどのイミダゾール類などを挙げる
ことができる。またカルボン酸類としては、ギ
酸、酢酸、トリクロル酢酸などの脂肪族カルボン
酸類、安息香酸、3−フルオロ安息香酸などの芳
香族カルボン酸類などが例示できる。 上記第三級アミン類およびカルボン酸類の好ま
しい添加量範囲は、添加する化合物によるが、一
般的には使用するロジウム化合物に対してそれぞ
れ0.1〜500倍モル、より好ましくは0.5〜300倍モ
ルの範囲である。 本発明の方法においては、反応溶媒を使用する
ことが望ましいが、反応溶媒としては、ロジウム
含有化合物触媒及び有機リン化合物、更には上記
添加剤等を溶解するものであれば良く、以下に記
載するようなものを使用することができる。例え
ば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、アセトン、ジエチルケトン、ア
セトフエノン等のケトン類、フエノール、メトキ
シフエノール等のフエノール類、酢酸メチル、酢
酸エチル、エチレングリコールジアセテート、γ
−ブチロラクトン等のエステル類、スルホラン、
ジメチルスルホン等のスルホン類、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシ
ド類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノ
ン、N−イソプロピルピロリジノン、N−メチル
−2−ピリドン等のアミド類、N,N,N′,
N′−テトラメチル尿素、N,N′−ジメチルイミ
ダゾリジノンなどの置換尿素類、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド、トリピペリジノホスフインオキ
シド等のリン酸トリアミド類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、テトラリン等の芳香族炭化水素、
n−ヘキサン、n−オクタン、シクロヘキサン、
デカリンなどの脂肪族あるいは脂環族炭化水素、
ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリ
ル類、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネ
ート等の炭酸エステル類などである。 本発明の方法において反応は加熱加圧条件下で
実施される。反応圧力としては、通常1〜2000
Kg/cm2G、好ましくは30〜1000Kg/cm2G、より好
ましくは50〜500Kg/cm2Gの範囲である。この際
エチレングリコール製造のための原料ガスとして
反応系に供給される一酸化炭素と水素の割合は、
通常水素ガスに対する一酸化炭素のモル比として
0.05〜20、好ましくは0.1〜10の範囲である。ま
た反応温度としては通常50〜350℃、好ましくは
100〜300℃の範囲である。更に反応時間としては
通常0.1〜20時間、好ましくは0.3〜10時間の範囲
が使用される。本法はバツチ式、半連続式又は連
続式で実施することができる。 実験例 実施例 1〜2 反応器は600Kg/cm2G(ゲージ圧)まで耐える
内容積40mlのハステロイC製オートクレーブを使
用した。また反応液の撹拌はテフロンをコーテイ
ングしたマグネツト回転子を反応器中に入れ、こ
れを外部より磁気誘導によつて回転させる方式を
採用した。 アルゴンガス雰囲気下で、反応器にテトラロジ
ウムドデカカルボニル:74.8ミリグラム(ロジウ
ム原子として0.4ミリグラム原子)、表1に示す有
機リン化合物をそれぞれ0.8ミリモル、および溶
媒としてN,N′−ジメチルイミダゾリジノン:
7.5mlをそれぞれ仕込み、反応器を封じた後に一
酸化炭素および水素の等モル混合ガスで反応系内
ガスを数回置換し、室温で370Kg/cm2G(ゲージ
圧)となるまで反応器に該混合ガスを封入した。
この反応器を外部磁気誘導回転で撹拌しつつ、電
気炉を用いて反応液の温度が220℃となるまで加
熱した。この温度を1時間保つて反応を行なつた
ところ、時間の経過とともにガスの吸収が認めら
れた。220℃での最高到達圧力および反応終了時
の圧力を表1に最高圧−最低圧として示した。 反応終了後反応器を急冷し室温とした後、未反
応ガスをパージして均一な反応液を得た。これを
ガスクロマトグラフイーによつて定量分析した結
果、主な生成物としてエチレングリコールおよび
メタノールが得られ、また若干の二酸化炭素、ギ
酸メチル、1,2−プロピレングリコール、エチ
レングリコールモノギ酸エステル、グリセリンな
どが得られた。エチレングリコールとメタノール
の収量を表1に示した。 比較例 1 有機リン化合物を添加しないことの他は実施例
1と同様に反応を行い、得られた反応液を分析し
た結果を表1に示した。
【表】
実施例 3〜5
実施例1において、有機リン化合物として表2
に示す化合物をそれぞれ0.8ミリモル使用し、第
二の添加物として1,1,8,8−テトラメチル
ヘキサメチレンジアミン:0.8ミリモルをそれぞ
れの反応系に加えた他は、実施例1と同様にして
反応を行なつた。その結果を表2に示した。
に示す化合物をそれぞれ0.8ミリモル使用し、第
二の添加物として1,1,8,8−テトラメチル
ヘキサメチレンジアミン:0.8ミリモルをそれぞ
れの反応系に加えた他は、実施例1と同様にして
反応を行なつた。その結果を表2に示した。
【表】
発明の効果
上述の実験例から、本発明の方法によれば目的
とするエチレングリコールを生成速度早くかつ高
い選択率で収率よく製造できることは明らかであ
る。
とするエチレングリコールを生成速度早くかつ高
い選択率で収率よく製造できることは明らかであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ロジウム含有化合物触媒の存在下、一酸化炭
素及び水素を加熱加圧条件下に反応させてエチレ
ングリコールを製造する方法において、反応系に
一般式、 (但し、R1及びR2は同一又は異るC3〜12でか
つリン原子に結合する炭素が第2級又は第3級で
あるアルキル基を、R3はC1〜4のアルキル基を、
nは0又は1をそれぞれ示す)で表わされる有機
リン化合物を添加して反応させることを特徴とす
るエチレングリコールを製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60056072A JPS61215339A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | エチレングリコ−ルを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60056072A JPS61215339A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | エチレングリコ−ルを製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61215339A JPS61215339A (ja) | 1986-09-25 |
| JPS6241701B2 true JPS6241701B2 (ja) | 1987-09-04 |
Family
ID=13016876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60056072A Granted JPS61215339A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | エチレングリコ−ルを製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61215339A (ja) |
-
1985
- 1985-03-22 JP JP60056072A patent/JPS61215339A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61215339A (ja) | 1986-09-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |