JPS6242202A - 反応器の内部温度制御方法 - Google Patents
反応器の内部温度制御方法Info
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- JPS6242202A JPS6242202A JP18245085A JP18245085A JPS6242202A JP S6242202 A JPS6242202 A JP S6242202A JP 18245085 A JP18245085 A JP 18245085A JP 18245085 A JP18245085 A JP 18245085A JP S6242202 A JPS6242202 A JP S6242202A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、反応器の内部温度制御方法に関する。
詳しくは、内部温度をジャケラ）４度により制御するバ
ッチ式反応器の昇温の際に、内部温度を学習機能により
量適値に制御する方法に関する。
ッチ式反応器の昇温の際に、内部温度を学習機能により
量適値に制御する方法に関する。
重合反応器等の内部温度は、ジャケット温度で調節する
カスケード方式のフィードバック制御により調節されて
いる。
カスケード方式のフィードバック制御により調節されて
いる。
このようなプロセスでは、ジャケット温度を変化させて
から内部温度が応答するまでＢｔｏ分の時間遅れがあり
、かつフィードバック制御のため行き過ぎ制御となりや
すい、その結果、ジャケット温度が大きく変動し、反応
器の内部温度が不安定になりやすい。
から内部温度が応答するまでＢｔｏ分の時間遅れがあり
、かつフィードバック制御のため行き過ぎ制御となりや
すい、その結果、ジャケット温度が大きく変動し、反応
器の内部温度が不安定になりやすい。
また、このような制御卸に当たっては、オペレータが経
験をもとにジャケット温度の温度調整量、温度変化速度
および温度切替のための設定時間等のノ）ラメータを決
定し、手動設定で運転していたため、オペレータの熟練
度の差により温度制御に大きな個人差が生じていた。
験をもとにジャケット温度の温度調整量、温度変化速度
および温度切替のための設定時間等のノ）ラメータを決
定し、手動設定で運転していたため、オペレータの熟練
度の差により温度制御に大きな個人差が生じていた。
ここに、本発明の目的は、このような従来の欠点を解消
し、ジャケット温度の大幅な変動を抑え、かつオペレー
タの熟練度による差をなくし、反応器の内部温度を正確
に最適値に制御可能な反応器の内部温度制御方法を提供
することにある。
し、ジャケット温度の大幅な変動を抑え、かつオペレー
タの熟練度による差をなくし、反応器の内部温度を正確
に最適値に制御可能な反応器の内部温度制御方法を提供
することにある。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明では
、反応器の内部温度を検出し、この内部温度検出パター
ンと予め設定された反応器の内部温度基準パターンとの
差を積分し、この結果を評価関数として制御パラメータ
を修正し、この制御パラメータに基づいてジャケット温
度を制御することにより、上記目的を達成しようとする
ものである。
、反応器の内部温度を検出し、この内部温度検出パター
ンと予め設定された反応器の内部温度基準パターンとの
差を積分し、この結果を評価関数として制御パラメータ
を修正し、この制御パラメータに基づいてジャケット温
度を制御することにより、上記目的を達成しようとする
ものである。
そこで、本発明の方法を第１図を用いて具体的に述べる
。第１図は目標とする反応器の内部温度特性曲線（内部
温度基準パターン）に対するジャケット温度制御面１（
ジャケット温度制御パターン）を示している。
。第１図は目標とする反応器の内部温度特性曲線（内部
温度基準パターン）に対するジャケット温度制御面１（
ジャケット温度制御パターン）を示している。
即ち、反応器の実際の内部温度を内部温度基準パターン
に制御するには、ジャケット温度制御パターンを、まず
急激に上昇させ、温度ＰｖＩＩに達した後その温度ＰＶ
ｌに維持させ、やがて内部温度が発”熱点ｐｖ、に達し
た時点１．で温度調整量ΔＳＶだけ下降させ、設定時間
ｔ１経過後設定量ｄｓＶ／ｄｔだけ急激に下降させた後
、徐々に上昇させるようなパターンにすればよいことが
判る。
に制御するには、ジャケット温度制御パターンを、まず
急激に上昇させ、温度ＰｖＩＩに達した後その温度ＰＶ
ｌに維持させ、やがて内部温度が発”熱点ｐｖ、に達し
た時点１．で温度調整量ΔＳＶだけ下降させ、設定時間
ｔ１経過後設定量ｄｓＶ／ｄｔだけ急激に下降させた後
、徐々に上昇させるようなパターンにすればよいことが
判る。
反応器の内部温度を制御するに当たって、発熱点ＰＶＡ
未満の温度領域（昇温開始からジャケット温度が温度Ｐ
ｖ、に達するまでの昇温区間Ａおよび温度ＰＶ、を維持
する定温区間Ｂ）についての制御はさほど重要でないが
、発熱点ＰｖＡ以上の温度上昇領域（内部温度が発熱点
ＰＶａに達してから設定時間ｔ１までの区間Ｃおよびｔ
ｌから内部温度が飽和点に達する時点ｔ２までの区間Ｄ
）についての制御は、異常反応等を防止する点からみて
も極めて重要である。
未満の温度領域（昇温開始からジャケット温度が温度Ｐ
ｖ、に達するまでの昇温区間Ａおよび温度ＰＶ、を維持
する定温区間Ｂ）についての制御はさほど重要でないが
、発熱点ＰｖＡ以上の温度上昇領域（内部温度が発熱点
ＰＶａに達してから設定時間ｔ１までの区間Ｃおよびｔ
ｌから内部温度が飽和点に達する時点ｔ２までの区間Ｄ
）についての制御は、異常反応等を防止する点からみて
も極めて重要である。
区間Ｃにおける温度制御は温度調整量ΔＳＶによって、
区間りにおける温度制御は温度変化速度ｄｓＶ／ｄｔに
よって、区間Ｃ，Ｄに亘る温度制御は設定時間り、によ
って、それぞれ行われる。
区間りにおける温度制御は温度変化速度ｄｓＶ／ｄｔに
よって、区間Ｃ，Ｄに亘る温度制御は設定時間り、によ
って、それぞれ行われる。
しかし、従来では、これらのパラメータをオペレータが
経験を基に手動設定していたため、温度制御に個人差が
生じていた。
経験を基に手動設定していたため、温度制御に個人差が
生じていた。
本発明は、反応器の実際の内部温度と基準パターンとの
差を積分して得られた評価関数を、各区間毎に求め、各
区間毎の評価関数に応じて各区間の制御パラメータを修
正しようとするものである。
差を積分して得られた評価関数を、各区間毎に求め、各
区間毎の評価関数に応じて各区間の制御パラメータを修
正しようとするものである。
即ち、反応器から検出・された内部温度検出パターンを
Ｔ１、区間Ｃ（ｔＯ〜１＋）の内部温度基準パターンを
Ｔ、′ とすると、区間Ｃにおける評価関数Ｊ１ は、 で求めることができる。これによって求められた評価関
数Ｊ ＋ の絶対値ＩＪ１１ が、予め設定されたしき
い値ε１を越えていた場合には前記温度調整量ΔＳＶが
修正され、しきい値ε、以下の場合には温度調整量ΔＳ
■はそのままに保たれる。
Ｔ１、区間Ｃ（ｔＯ〜１＋）の内部温度基準パターンを
Ｔ、′ とすると、区間Ｃにおける評価関数Ｊ１ は、 で求めることができる。これによって求められた評価関
数Ｊ ＋ の絶対値ＩＪ１１ が、予め設定されたしき
い値ε１を越えていた場合には前記温度調整量ΔＳＶが
修正され、しきい値ε、以下の場合には温度調整量ΔＳ
■はそのままに保たれる。
いま、第２図に示す如く、評価関数Ｊ１が十で、かつそ
の絶対値ＩＪ１１ がしきい値ε、を越えていた場合
には、前記温度調整量ΔＳＶが小さ過ぎるため、それを
増加する方向に修正する。例えば、ｎ回目のバッチ処理
時の評価関数および温度調整量をＪ、、１．ΔＳＶい２
、定数をβとすると、次回のバッチ処理時の温度調整量
ΔＳＶ、、、、、 は、Δ３ Ｖ （ｓｅｌ＋ ＝
ΔＳ Ｖ ｌ１ｌ） ” Ｊ Ｉ＋ｎ＋ ’βに修正
、設定される。従って、次回のバッチ処理では、区間Ｃ
における内部温度の検出パターンが下がり基４もパター
ンＴＲ′ に近づくので、内部温度を目標値に制御で
きる。
の絶対値ＩＪ１１ がしきい値ε、を越えていた場合
には、前記温度調整量ΔＳＶが小さ過ぎるため、それを
増加する方向に修正する。例えば、ｎ回目のバッチ処理
時の評価関数および温度調整量をＪ、、１．ΔＳＶい２
、定数をβとすると、次回のバッチ処理時の温度調整量
ΔＳＶ、、、、、 は、Δ３ Ｖ （ｓｅｌ＋ ＝
ΔＳ Ｖ ｌ１ｌ） ” Ｊ Ｉ＋ｎ＋ ’βに修正
、設定される。従って、次回のバッチ処理では、区間Ｃ
における内部温度の検出パターンが下がり基４もパター
ンＴＲ′ に近づくので、内部温度を目標値に制御で
きる。
また、区間Ｄ （ｔ＋ 〜ｔｚ）の内部温度基準パター
ンをＴ、″とすると、区間りにおける評価関数Ｊ２は、 で求めることができる。これによって求められた評価関
数Ｊ２の絶対ｉｆｔｌＪｇｌ が、予め設定されたしき
い値ε２を越えていた場合には前記温度変化速度ｄＳＶ
／ｄｔが修正され、しきい値６２以下の場合には温度変
化速度ｄＳＶ／ｄｔはそのままに保たれる。
ンをＴ、″とすると、区間りにおける評価関数Ｊ２は、 で求めることができる。これによって求められた評価関
数Ｊ２の絶対ｉｆｔｌＪｇｌ が、予め設定されたしき
い値ε２を越えていた場合には前記温度変化速度ｄＳＶ
／ｄｔが修正され、しきい値６２以下の場合には温度変
化速度ｄＳＶ／ｄｔはそのままに保たれる。
いま、第３図に示す如く、評価関数Ｊｔが十で、かつそ
の絶対値Ｉ Ｊ ２１ がしきい値ε、を越えていた場
合には、前記温度変化速度ｄＳＶ／ｄｔが小さ過ぎるた
め、それを大きくする方向に修正する０例えば、ｎ回目
のバッチ処理時の評価関数および温度変化速度をＪ ｚ
＋Ａ） 、 ｄ Ｓ Ｖ Ｃ＋＋ｌ ／ ｄ ｔ、定
数をＴとすると、次回のハツチ処理時の温度変化速度ｄ
Ｓ Ｖ ＋ｎ＋＋ｌ ／ ｄ ｔは、に修正、設定さ
れる。従って、次回のバッチ処理では、区間りにおける
内部温度の検出パターンが下がり基準パターンＴ、″に
近づくので、内部温度を目標値に制御できる。
の絶対値Ｉ Ｊ ２１ がしきい値ε、を越えていた場
合には、前記温度変化速度ｄＳＶ／ｄｔが小さ過ぎるた
め、それを大きくする方向に修正する０例えば、ｎ回目
のバッチ処理時の評価関数および温度変化速度をＪ ｚ
＋Ａ） 、 ｄ Ｓ Ｖ Ｃ＋＋ｌ ／ ｄ ｔ、定
数をＴとすると、次回のハツチ処理時の温度変化速度ｄ
Ｓ Ｖ ＋ｎ＋＋ｌ ／ ｄ ｔは、に修正、設定さ
れる。従って、次回のバッチ処理では、区間りにおける
内部温度の検出パターンが下がり基準パターンＴ、″に
近づくので、内部温度を目標値に制御できる。
更に、評価関数Ｊ、、Ｊ、の絶対値ＩＪ１１ ．１Ｊ２
１が共にしきい値ε５、ε２を越えている場合には、両
パラメータの修正回数Ｋが設定回数Ｍに達したとき、両
区間Ｃ，Ｄに亘る評価関数Ｊ３を求める。両区間Ｃ，Ｄ
（ｔｏ〜ｔｚ）の内部温度基準パターンをＴＲ″′と
すると、両区間Ｃ，Ｄにおける評価関数Ｊ、は、 で求めることができる。これによって求められた評価関
数Ｊ、の絶対値ＩＪ、１が、予め設定されたしきい値ε
、を越えていた場合には前記設定時間ｔ１が修正され、
しきい値ε３以下の場合には前記設定時間ｔ、はそのま
まに保たれる。
１が共にしきい値ε５、ε２を越えている場合には、両
パラメータの修正回数Ｋが設定回数Ｍに達したとき、両
区間Ｃ，Ｄに亘る評価関数Ｊ３を求める。両区間Ｃ，Ｄ
（ｔｏ〜ｔｚ）の内部温度基準パターンをＴＲ″′と
すると、両区間Ｃ，Ｄにおける評価関数Ｊ、は、 で求めることができる。これによって求められた評価関
数Ｊ、の絶対値ＩＪ、１が、予め設定されたしきい値ε
、を越えていた場合には前記設定時間ｔ１が修正され、
しきい値ε３以下の場合には前記設定時間ｔ、はそのま
まに保たれる。
いま、第４図に示す如く、評価間数Ｊ３が十で、かつそ
の絶対値ＩＪ、１ がしきい値ε、を越えていた場合に
は、設定時間１．が大きすぎるため、それを小さくする
方向に修正する。例えば、ｎ回目のバッチ処理時の評価
関数および設定時間をＪ、。ｌ ｌ ＬＩＬａｌ、定
数をδとすると、次回のバッチ処理時の設定時間ｔ、（
７゜１．は、ＬＩＩｎ・目＝ Ｌ ｌ＋１１１ ＋Ｊ
３ ＋＋＋１ ’δに修正、設定される。設定時間
Ｌ１が修正されると、次回のバッチ処理では、区間Ｃ，
Ｄに亘る内部温度の検出パターンが下がり基準パターン
に近づく。従って、以後区間Ｃおよび区間りにおけるパ
ラメータ、つまり温度調整量ΔＳＶおよび温度変化速度
ｄＳＶ／ｄｔの修正頻度を少なくでき、かつその修正回
数も一定範囲内に抑えることができる。
の絶対値ＩＪ、１ がしきい値ε、を越えていた場合に
は、設定時間１．が大きすぎるため、それを小さくする
方向に修正する。例えば、ｎ回目のバッチ処理時の評価
関数および設定時間をＪ、。ｌ ｌ ＬＩＬａｌ、定
数をδとすると、次回のバッチ処理時の設定時間ｔ、（
７゜１．は、ＬＩＩｎ・目＝ Ｌ ｌ＋１１１ ＋Ｊ
３ ＋＋＋１ ’δに修正、設定される。設定時間
Ｌ１が修正されると、次回のバッチ処理では、区間Ｃ，
Ｄに亘る内部温度の検出パターンが下がり基準パターン
に近づく。従って、以後区間Ｃおよび区間りにおけるパ
ラメータ、つまり温度調整量ΔＳＶおよび温度変化速度
ｄＳＶ／ｄｔの修正頻度を少なくでき、かつその修正回
数も一定範囲内に抑えることができる。
第５図は本発明の方法を反応器に適用した一実施例を示
している。同図において、反応器１の内部温度は、その
周囲に取付けられたシャケ・２ト２内へ供給される蒸気
と冷水との割合いによって調節される。
している。同図において、反応器１の内部温度は、その
周囲に取付けられたシャケ・２ト２内へ供給される蒸気
と冷水との割合いによって調節される。
ジャケット２には途中に循環ポンプ３を有する循環路４
が接続され、この循環路４にはジャケット温度調節計７
によって開閉される弁５．６を通して蒸気と冷水とが供
給されるようになっている。
が接続され、この循環路４にはジャケット温度調節計７
によって開閉される弁５．６を通して蒸気と冷水とが供
給されるようになっている。
ジャケット温度調節計７は、前記ジャゲット２内の温度
を検出するジャケット温度検出部；８からの値が予め設
定されたジャケット温度制御パターンに一敗するように
、前記弁５，６の開度を調節する。
を検出するジャケット温度検出部；８からの値が予め設
定されたジャケット温度制御パターンに一敗するように
、前記弁５，６の開度を調節する。
反応器１の内部温度、例えば反応器１内のポリマ一温度
は、内部温度検出端１１によって検出された後、演算部
１２、バイアス制御部２０およびスイッチ開閉器３１へ
それぞれ送られる。演算部１２では、内部温度検出Ｉｌ
ｌからの検出値と記憶部１３内の内部温度基準パターン
との差を求める。この差は、パターン制御部４０へ与え
られるとともに、温度調節計１４に指示された後、シー
ケンス部１８へ与えられる。シーケンス制御部１８へ与
えられた前記差は、演算部１５において前記バイアス制
御部２０から与えられるジャケット＞Ｌ 度のバイアス
値と合成され、続いてスイッチ１６ （スイッチ開閉器
３１からの信号により内部温度検出値が発熱点ＰＶＡに
達した時点ｔ。でオンされる。）を経て演算部１７にお
いて…１記パターン制御部４０から与えられるジャケッ
ト温度制御パターンと合成された後、前記ジャケット温
度調節計７へ与えられる。これにより、シャケ、１・温
度調節計７は、これを設定値として前記弁５，６の開度
を調節する。
は、内部温度検出端１１によって検出された後、演算部
１２、バイアス制御部２０およびスイッチ開閉器３１へ
それぞれ送られる。演算部１２では、内部温度検出Ｉｌ
ｌからの検出値と記憶部１３内の内部温度基準パターン
との差を求める。この差は、パターン制御部４０へ与え
られるとともに、温度調節計１４に指示された後、シー
ケンス部１８へ与えられる。シーケンス制御部１８へ与
えられた前記差は、演算部１５において前記バイアス制
御部２０から与えられるジャケット＞Ｌ 度のバイアス
値と合成され、続いてスイッチ１６ （スイッチ開閉器
３１からの信号により内部温度検出値が発熱点ＰＶＡに
達した時点ｔ。でオンされる。）を経て演算部１７にお
いて…１記パターン制御部４０から与えられるジャケッ
ト温度制御パターンと合成された後、前記ジャケット温
度調節計７へ与えられる。これにより、シャケ、１・温
度調節計７は、これを設定値として前記弁５，６の開度
を調節する。
前記バイアス制御部２０では、まず変化率算出部２１に
おいて、前記内部温度検出端１１からの内部温度検出値
を一定サンプル周期（例えば、１〜２分周期）毎に取込
み、その各時点の内部温度変化率α（＝ｄＰＶ／ｄｔ）
を求める。変化率αを求めるには、例えば第６図に示す
如く、各サンプル時点の内部温度検出値を”／＋ 、Ｐ
Ｖ２ 、内部温度基準パターンの値をＳ Ｖ＋ 、Ｓ
Ｖ２ とし、かつ、 Ｅ＋ ＝ Ｐ ”／＋ Ｓ ＶＺＥ Ｚ ＝ Ｐ
Ｖ ｚ Ｓ Ｖ ｚα＝−（’Ｃ／分または秒〕 で求められる。
おいて、前記内部温度検出端１１からの内部温度検出値
を一定サンプル周期（例えば、１〜２分周期）毎に取込
み、その各時点の内部温度変化率α（＝ｄＰＶ／ｄｔ）
を求める。変化率αを求めるには、例えば第６図に示す
如く、各サンプル時点の内部温度検出値を”／＋ 、Ｐ
Ｖ２ 、内部温度基準パターンの値をＳ Ｖ＋ 、Ｓ
Ｖ２ とし、かつ、 Ｅ＋ ＝ Ｐ ”／＋ Ｓ ＶＺＥ Ｚ ＝ Ｐ
Ｖ ｚ Ｓ Ｖ ｚα＝−（’Ｃ／分または秒〕 で求められる。
これによって求められた各サンプル時点の内部温度変化
率α１〜α７が予め設定されたしきい値εを越えていた
とき、バイアス制御部２２によってジャケノトメ晶度が
バイアス制御される。
率α１〜α７が予め設定されたしきい値εを越えていた
とき、バイアス制御部２２によってジャケノトメ晶度が
バイアス制御される。
例えば、第７図（Ａ）において、内部温度変化率α１〜
α３がしきい値εを越えていたとすると、第７図（Ｂ）
の如く、各内部温度変化率α１〜α３に定数Ｘを掛けた
値だけジャケット温度がバイアス制御される。
α３がしきい値εを越えていたとすると、第７図（Ｂ）
の如く、各内部温度変化率α１〜α３に定数Ｘを掛けた
値だけジャケット温度がバイアス制御される。
また、第８図に示す如く、各サンプル時点（例えば、３
０秒周期）の内部温度変化率のうち、内部温度変化率α
。７．α。。１１．α。。。がしきい値εを越えていた
とすると、ジャケット温度制御パターンは、第８図（Ｂ
）に示す如く、これらの内部温度変化率に定数Ｘを掛け
た値だけバイアス制御される。さらに、これにカスケー
ド出力を加えると、ジャケットｍ度制御パターンは第８
図（Ｃ）のようになる。
０秒周期）の内部温度変化率のうち、内部温度変化率α
。７．α。。１１．α。。。がしきい値εを越えていた
とすると、ジャケット温度制御パターンは、第８図（Ｂ
）に示す如く、これらの内部温度変化率に定数Ｘを掛け
た値だけバイアス制御される。さらに、これにカスケー
ド出力を加えると、ジャケットｍ度制御パターンは第８
図（Ｃ）のようになる。
一方、パターン制御部４０では、第９図のフローチャー
トに従って、まずパターン記憶部４３のジャケット温度
制御パターンのパラメータ、ここでは温度調整量ΔＳＶ
、温度変化速度ｄｓＶ／ｄｔおよび設定時間ｔ、のほか
修正の設定回数Ｍをそれぞれ初期値として設定し、その
後前記評価関数Ｊ ｌ１ｎｌ、Ｊｏｉ、、）を求める。
トに従って、まずパターン記憶部４３のジャケット温度
制御パターンのパラメータ、ここでは温度調整量ΔＳＶ
、温度変化速度ｄｓＶ／ｄｔおよび設定時間ｔ、のほか
修正の設定回数Ｍをそれぞれ初期値として設定し、その
後前記評価関数Ｊ ｌ１ｎｌ、Ｊｏｉ、、）を求める。
ここで求められた評価関数Ｊ Ｉ ｆ＋ｌ、Ｊ２１．は
、評価部４２において、その絶対値ＩＪＩ＋−１１、ｌ
Ｊｚ＋。ｉ がしきい値ε９．ε２より大きいか否かが
判断される。
、評価部４２において、その絶対値ＩＪＩ＋−１１、ｌ
Ｊｚ＋。ｉ がしきい値ε９．ε２より大きいか否かが
判断される。
評価関数Ｊｌ＜ｆｉｌの絶対値Ｉ Ｊ ｌｔ−口 がし
きい値ε１より大きい場合は次回のハツチ処理時の温度
調整量はΔＳＶＬ、、。５．＝ΔＳＶ＋ｎ＋ ＋Ｊｌ
＋Ｉ＋１・βに（ぎ正される一方、絶対値ＩＪＩ。、１
がしきい値ε１以下の場合は次回のバッチ処理時の温
度調整量はそのまま、つまりΔＳＶｏ。１．−ΔＳ Ｖ
、ｎ。
きい値ε１より大きい場合は次回のハツチ処理時の温度
調整量はΔＳＶＬ、、。５．＝ΔＳＶ＋ｎ＋ ＋Ｊｌ
＋Ｉ＋１・βに（ぎ正される一方、絶対値ＩＪＩ。、１
がしきい値ε１以下の場合は次回のバッチ処理時の温
度調整量はそのまま、つまりΔＳＶｏ。１．−ΔＳ Ｖ
、ｎ。
に保たれる。
また、評価関数Ｊｚ（ｆｉｌの絶対値ＩＪｔ＋−＋ｌ
がしきい値ε２より大きい場合は９次回のバッチ処理時
の温度変化速度はｄＳ”１ｎ−１１／ｄｔ＝ｄｓｖ、。
がしきい値ε２より大きい場合は９次回のバッチ処理時
の温度変化速度はｄＳ”１ｎ−１１／ｄｔ＝ｄｓｖ、。
／ｄｔ＋Ｊ２い、・Ｔに修正される一方、絶対値ＩＪ
Ｚ （ａｌ ｌ がしきい値８２以下の場合は次回のバ
ッチ処理時の温度変化速度はそのまま、つまりｄｓＶ＋
ＩＴ、＋１ ／ｄ ｔ＝ｄｓＶ＋ｎ＋ ／ｄ ｔに
保たれる。
Ｚ （ａｌ ｌ がしきい値８２以下の場合は次回のバ
ッチ処理時の温度変化速度はそのまま、つまりｄｓＶ＋
ＩＴ、＋１ ／ｄ ｔ＝ｄｓＶ＋ｎ＋ ／ｄ ｔに
保たれる。
さらに、前記絶対値ＩＪ ｌｆ〜１ がしきい値ε。
以下で、かつ絶対値ＩＪＺ（−１１がしきい値ε１以下
の場合には、バッチ処理回数ｎに１を加えた後、評価関
数の算出へ戻る。
の場合には、バッチ処理回数ｎに１を加えた後、評価関
数の算出へ戻る。
一方、前記絶対値ＩＪ ｌ ＋ｆｉｌ １ がしきい値
ε、より大きく、かつ絶対値 ｌＪｚ＋。、１ がしき
い値ε２より大きい場合には、続いて温度調整債ΔＳＶ
および温度変化速度ｄＳＶ／ｄｔを修正した修正回数Ｋ
が予め設定された設定回数Ｍに達したか否かが判断され
る。
ε、より大きく、かつ絶対値 ｌＪｚ＋。、１ がしき
い値ε２より大きい場合には、続いて温度調整債ΔＳＶ
および温度変化速度ｄＳＶ／ｄｔを修正した修正回数Ｋ
が予め設定された設定回数Ｍに達したか否かが判断され
る。
修正回数Ｋが設定回数Ｍに達していない場合には、修正
回数Ｋに１を加え、続いてバッチ処理回数ｎに１を加え
た後、評価関数の算出へ戻る。
回数Ｋに１を加え、続いてバッチ処理回数ｎに１を加え
た後、評価関数の算出へ戻る。
修正回数Ｋが設定回数Ｍに達した場合には、修正回数Ｋ
をＯにリセットした後、評価関数Ｊ３（ｎ）を求める。
をＯにリセットした後、評価関数Ｊ３（ｎ）を求める。
ここで求められた評価関数Ｊ ３ ＋Ｉｌ＋は、評価部
４２において、その絶対値Ｉ Ｊ ｙ ｔ−＋ ｌ が
しきい値ε、より大きいか否かが判断される。
４２において、その絶対値Ｉ Ｊ ｙ ｔ−＋ ｌ が
しきい値ε、より大きいか否かが判断される。
絶対値 ｌＪｓい、１ がしきい値ε、より大きい場合
には次回のハツチ処理時の設定時間はｊ Ｉ ｔｗｉｌ
ｌ＝Ｌｌ（ｆｉｌ→Ｊ ＊ （Ｉｌｌ・δに修正される
一方、絶対値ｌＪｓ＋ｎ＋ｌ がしきい値ε、以下の
場合には次回のハツチ処理時の設定時間はそのまま、つ
まり１゜０＋ｌｌ ” ｔｌ ＋ｎ＋に保たれる。その
後、バッチ処理回数ｎに１を加えた後、評価関数の算出
へ戻る。
には次回のハツチ処理時の設定時間はｊ Ｉ ｔｗｉｌ
ｌ＝Ｌｌ（ｆｉｌ→Ｊ ＊ （Ｉｌｌ・δに修正される
一方、絶対値ｌＪｓ＋ｎ＋ｌ がしきい値ε、以下の
場合には次回のハツチ処理時の設定時間はそのまま、つ
まり１゜０＋ｌｌ ” ｔｌ ＋ｎ＋に保たれる。その
後、バッチ処理回数ｎに１を加えた後、評価関数の算出
へ戻る。
従って、本実施例によれば、反応器１の内部温度検出パ
ターンと内部温度基準パターンとの差を積分して評価関
数を求め、この評価関数に応じてジャケット温度の制御
パラメータを修正するようにしたので、従来のようにオ
ペレータの経験に頼ることがないので、反応器の内部温
度を容易かつ正確に最適値に制御できる。そのため、反
応器の異常反応を防止でき、かつ反応器の温度制御の自
動化による省力化がはかれる。
ターンと内部温度基準パターンとの差を積分して評価関
数を求め、この評価関数に応じてジャケット温度の制御
パラメータを修正するようにしたので、従来のようにオ
ペレータの経験に頼ることがないので、反応器の内部温
度を容易かつ正確に最適値に制御できる。そのため、反
応器の異常反応を防止でき、かつ反応器の温度制御の自
動化による省力化がはかれる。
また、反応器の内部温度の上昇温度領域を区分し、各区
間毎に評価関数を求め、例えば第１図中のＣ区間におけ
る評価関数Ｊ、の絶対値がしきい値ε１を越えていたと
き、温度調整量ΔＳＶを修正し、Ｄ区間における評価関
数Ｊ２がしきい値ε２を越えていたとき、温度変化速度
ｄｓＶ／ｄｔを修正するようにしたので、内部温度の温
度上昇曲線を細かくかつ精度よく制御できる。
間毎に評価関数を求め、例えば第１図中のＣ区間におけ
る評価関数Ｊ、の絶対値がしきい値ε１を越えていたと
き、温度調整量ΔＳＶを修正し、Ｄ区間における評価関
数Ｊ２がしきい値ε２を越えていたとき、温度変化速度
ｄｓＶ／ｄｔを修正するようにしたので、内部温度の温
度上昇曲線を細かくかつ精度よく制御できる。
さらに、再評価関数、Ｊ＋ 、Ｊｚの絶対値がそれぞれ
のしきい値ε１．ε２を超え、かつ修正回数■（が設定
回ｆｊ１Ｍに達していた場合には、評価関数Ｊ、を求め
、この評価関数Ｊ、の絶対値に応じて設定時間ｔ１を修
正するようにしたので、温度調整量ΔＳＶおよび温度変
化速度ｄＳＶ／ｄｔの修正が頻繁なときでも、それが設
定回数Ｍに達する毎に設定時間ｔ１が修正されるため、
以後頻繁な修正処理をおこなわなくてもよい上、これら
の修正量を一定範囲内に抑えることができる。
のしきい値ε１．ε２を超え、かつ修正回数■（が設定
回ｆｊ１Ｍに達していた場合には、評価関数Ｊ、を求め
、この評価関数Ｊ、の絶対値に応じて設定時間ｔ１を修
正するようにしたので、温度調整量ΔＳＶおよび温度変
化速度ｄＳＶ／ｄｔの修正が頻繁なときでも、それが設
定回数Ｍに達する毎に設定時間ｔ１が修正されるため、
以後頻繁な修正処理をおこなわなくてもよい上、これら
の修正量を一定範囲内に抑えることができる。
〔発明の効果〕
以上の通り、本発明によれば、ジャケット温度の大幅な
変動を抑えつつ、反応器の内部温度を、オペレータによ
る個人差なく、正確に最適値に制御できる。
変動を抑えつつ、反応器の内部温度を、オペレータによ
る個人差なく、正確に最適値に制御できる。
第１図から第４図は本発明を説明するための図で、第１
図は内部温度基準パターンとシャケ、ト温度制御パター
ンとの関係を示す図、第２図から第４図は各区間におけ
る評価関数とパラメータとの関係を示す図である。第５
図から第９図は本発明の一実施例を示すもので、第５図
はソステム全体を示すブロック図、第６図は温度変化率
を求める際の説明図、第７図はバイアス制御を示す説明
図、第８図はバイアス制御の他の例を示す説明図、第９
図はジャケット温度のパターン制御を示すフローチャー
トである。 １・・・反応器、２・・・ジャケット、４０・・・パタ
ーン制御部。
図は内部温度基準パターンとシャケ、ト温度制御パター
ンとの関係を示す図、第２図から第４図は各区間におけ
る評価関数とパラメータとの関係を示す図である。第５
図から第９図は本発明の一実施例を示すもので、第５図
はソステム全体を示すブロック図、第６図は温度変化率
を求める際の説明図、第７図はバイアス制御を示す説明
図、第８図はバイアス制御の他の例を示す説明図、第９
図はジャケット温度のパターン制御を示すフローチャー
トである。 １・・・反応器、２・・・ジャケット、４０・・・パタ
ーン制御部。
Claims (6)
- （１）反応器の内部温度をジャケット温度により制御す
る方法において、反応器の内部温度を検出し、この内部
温度検出パターンと予め設定された内部温度基準パター
ンとの差を積分して評価関数を求め、この評価関数に応
じてジャケット温度の制御パラメータを修正し、この制
御パラメータに基づいてジャケット温度を制御すること
を特徴とする反応器の内部温度制御方法。 - （２）特許請求の範囲第１項において、前記制御パラメ
ータは、前記内部温度が発熱点に達した後ジャケット温
度を下降させる際の温度調整量、前記内部温度が発熱点
に達してから設定時間経過後ジャケット温度を下降させ
る際の温度変化速度および前記設定時間のうち少なくと
も１以上のパラメータであることを特徴とする反応器の
内部温度制御方法。 - （３）特許請求の範囲第２項において、前記反応器の内
部温度が発熱点に達してから設定時間経過するまでの第
１の区間およびその設定時間経過後から前記内部温度が
飽和点に達するまでの第２の区間についてそれぞれ評価
関数を求め、前記第１の区間の評価関数に応じて前記温
度調整量を修正するとともに、前記第２の区間の評価関
数に応じて前記温度変化速度を修正することを特徴とす
る反応器の内部温度制御方法。 - （４）特許請求の範囲第３項において、前記温度調整量
および温度変化速度の修正回数が予め設定された設定回
数に達したとき、前記内部温度が発熱点に達してから飽
和点に達するまでの第３の区間について評価関数を求め
、この評価関数に応じて前記設定時間を修正することを
特徴とする反応器の内部温度制御方法。 - （５）特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに
おいて、前記制御パラメータの修正を、評価関数が予め
設定されたしきい値を越えたとき、行うことを特徴とす
る反応器の内部温度制御方法。 - （６）特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに
おいて、前記修正に当たって、前記評価関数と定数との
積を前の値に加えることを特徴とする反応器の内部温度
制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18245085A JPS6242202A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反応器の内部温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18245085A JPS6242202A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反応器の内部温度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242202A true JPS6242202A (ja) | 1987-02-24 |
| JPH0566603B2 JPH0566603B2 (ja) | 1993-09-22 |
Family
ID=16118476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18245085A Granted JPS6242202A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反応器の内部温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6242202A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63268001A (ja) * | 1987-04-27 | 1988-11-04 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 反応器の内部温度制御方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4938075A (ja) * | 1972-08-25 | 1974-04-09 | ||
| JPS55102004A (en) * | 1979-01-31 | 1980-08-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Optimum parameter search unit for control unit |
| JPS56111906A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-04 | Toshiba Corp | Sampling control method |
| JPS5775306A (en) * | 1980-10-29 | 1982-05-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Retrieving device for optimum parameter of controller |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP18245085A patent/JPS6242202A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4938075A (ja) * | 1972-08-25 | 1974-04-09 | ||
| JPS55102004A (en) * | 1979-01-31 | 1980-08-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Optimum parameter search unit for control unit |
| JPS56111906A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-04 | Toshiba Corp | Sampling control method |
| JPS5775306A (en) * | 1980-10-29 | 1982-05-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Retrieving device for optimum parameter of controller |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63268001A (ja) * | 1987-04-27 | 1988-11-04 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 反応器の内部温度制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0566603B2 (ja) | 1993-09-22 |
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