JPH0566603B2 - - Google Patents
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- JPH0566603B2 JPH0566603B2 JP60182450A JP18245085A JPH0566603B2 JP H0566603 B2 JPH0566603 B2 JP H0566603B2 JP 60182450 A JP60182450 A JP 60182450A JP 18245085 A JP18245085 A JP 18245085A JP H0566603 B2 JPH0566603 B2 JP H0566603B2
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- JP
- Japan
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- temperature
- internal temperature
- reactor
- evaluation function
- reaches
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、反応器の内部温度制御方法に関す
る。詳しくは、内部温度をジヤケツト温度により
制御するバツチ式反応器の昇温の際に、内部温度
を学習機能により最適値に制御する方法に関す
る。
る。詳しくは、内部温度をジヤケツト温度により
制御するバツチ式反応器の昇温の際に、内部温度
を学習機能により最適値に制御する方法に関す
る。
重合反応器等の内部温度は、ジヤケツト温度で
調節するカスケード方式のフイードバツク制御に
より調節されている。
調節するカスケード方式のフイードバツク制御に
より調節されている。
このようなプロセスでは、ジヤケツト温度を変
化させてから内部温度が応答するまで数10分の時
間遅れがあり、かつフイードバツク制御のため行
き過ぎ制御となりやすい。その結果、ジヤケツト
温度が大きく変動し、反応器の内部温度が不安定
になりやすい。
化させてから内部温度が応答するまで数10分の時
間遅れがあり、かつフイードバツク制御のため行
き過ぎ制御となりやすい。その結果、ジヤケツト
温度が大きく変動し、反応器の内部温度が不安定
になりやすい。
また、このような制御に当つては、オペレータ
が経験をもとにジヤケツト温度の温度調整量、温
度変化速度および温度切替のための設定時間等の
パラメータを決定し、手動設定で運転していたた
め、オペレータの熟練度の差により温度制御に大
きな個人差が生じていた。
が経験をもとにジヤケツト温度の温度調整量、温
度変化速度および温度切替のための設定時間等の
パラメータを決定し、手動設定で運転していたた
め、オペレータの熟練度の差により温度制御に大
きな個人差が生じていた。
ここに、本発明の目的は、このような従来の欠
点を解消し、ジヤケツト温度の大幅な変動を抑
え、かつオペレータの熟練度による差をなくし、
反応器の内部温度を正確に最適値に制御可能な反
応器の内部温度制御方法を提供することにある。
点を解消し、ジヤケツト温度の大幅な変動を抑
え、かつオペレータの熟練度による差をなくし、
反応器の内部温度を正確に最適値に制御可能な反
応器の内部温度制御方法を提供することにある。
本発明では、ジヤケツト温度を、予め設定した
温度まで上昇させた後その温度に維持させ、反応
器の内部温度が発熱点に達した時点で予め設定し
た温度調整量だけ下降させ、続いて、前記反応器
の内部温度が発熱点に達した時点から設定時間経
過後に設定温度変化速度で下降させた後、徐々に
上昇させることにより、反応器の内部温度を予め
設定された内部温度基準パターンに制御する反応
器の内部温度制御方法において、前記反応器の内
部温度が発熱点に達してからの温度上昇領域を、
前記反応器の内部温度が発熱点に達してから設定
時間経過するまでの第１の区間と、その設定時間
経過後から前記内部温度が飽和点に達するまでの
第２の区間とに区分し、前記第１の区間および第
２の区間について、反応器の内部温度を検出し、
その内部温度検出パターンと予め設定された内部
温度基準パターンとの差を積分して評価関数をそ
れぞれ求め、前記第１の区間の評価関数に応じて
前記温度調整量を修正するとともに、前記第２の
区間の評価関数に応じて前記温度変化速度を修正
することにより、上記目的を達成しようとするも
のである。
温度まで上昇させた後その温度に維持させ、反応
器の内部温度が発熱点に達した時点で予め設定し
た温度調整量だけ下降させ、続いて、前記反応器
の内部温度が発熱点に達した時点から設定時間経
過後に設定温度変化速度で下降させた後、徐々に
上昇させることにより、反応器の内部温度を予め
設定された内部温度基準パターンに制御する反応
器の内部温度制御方法において、前記反応器の内
部温度が発熱点に達してからの温度上昇領域を、
前記反応器の内部温度が発熱点に達してから設定
時間経過するまでの第１の区間と、その設定時間
経過後から前記内部温度が飽和点に達するまでの
第２の区間とに区分し、前記第１の区間および第
２の区間について、反応器の内部温度を検出し、
その内部温度検出パターンと予め設定された内部
温度基準パターンとの差を積分して評価関数をそ
れぞれ求め、前記第１の区間の評価関数に応じて
前記温度調整量を修正するとともに、前記第２の
区間の評価関数に応じて前記温度変化速度を修正
することにより、上記目的を達成しようとするも
のである。
そこで、本発明の方法を第１図を用いて具体的
に述べる。第１図は目標とする反応器の内部温度
特性曲線（内部温度基準パターン）に対するジヤ
ケツト温度制御曲線（ジヤケツト温度制御パター
ン）を示している。
に述べる。第１図は目標とする反応器の内部温度
特性曲線（内部温度基準パターン）に対するジヤ
ケツト温度制御曲線（ジヤケツト温度制御パター
ン）を示している。
即ち、反応器の実際の内部温度を内部温度基準
パターンに制御するには、ジヤケツト温度制御パ
ターンを、まず急激に上昇させ、温度PVBに達し
た後その温度PVBに維持させ、やがて内部温度が
発熱点PVAに達した時点t0で温度調整量ΔSVだけ
下降させ、設定時間t1経過後設定量dSV／dtだけ
急激に下降させた後、徐々に上昇させるようなパ
ターンにすればよいことが判る。
パターンに制御するには、ジヤケツト温度制御パ
ターンを、まず急激に上昇させ、温度PVBに達し
た後その温度PVBに維持させ、やがて内部温度が
発熱点PVAに達した時点t0で温度調整量ΔSVだけ
下降させ、設定時間t1経過後設定量dSV／dtだけ
急激に下降させた後、徐々に上昇させるようなパ
ターンにすればよいことが判る。
反応器の内部温度を制御するに当たつて、発熱
点PVA未満の温度領域（昇温開始からジヤケツト
温度が温度PVBに達するまでの昇温区間Ａおよび
温度PVBを維持する定温区間Ｂ）についての制御
はさほど重要でないが、発熱点PVA以上の温度上
昇領域（内部温度が発熱点PVAに達してから設定
時間t1までの区間Ｃおよびt1から内部温度が飽和
点に達する時点t2までの区間Ｄ）についての制御
は、異常反応等を防止する点からみても極めて重
要である。
点PVA未満の温度領域（昇温開始からジヤケツト
温度が温度PVBに達するまでの昇温区間Ａおよび
温度PVBを維持する定温区間Ｂ）についての制御
はさほど重要でないが、発熱点PVA以上の温度上
昇領域（内部温度が発熱点PVAに達してから設定
時間t1までの区間Ｃおよびt1から内部温度が飽和
点に達する時点t2までの区間Ｄ）についての制御
は、異常反応等を防止する点からみても極めて重
要である。
区間Ｃにおける温度制御は温度調整量ΔSVに
よつて、区間Ｄにおける温度制御は温度変化速度
dSV／dtによつて、区間Ｃ，Ｄに亘る温度制御は
設定時間t1によつて、それぞれ行われる。しか
し、従来では、これらのパラメータをオペレータ
が経験を基に手動設定していたため、温度制御に
個人差が生じていた。
よつて、区間Ｄにおける温度制御は温度変化速度
dSV／dtによつて、区間Ｃ，Ｄに亘る温度制御は
設定時間t1によつて、それぞれ行われる。しか
し、従来では、これらのパラメータをオペレータ
が経験を基に手動設定していたため、温度制御に
個人差が生じていた。
本発明は、反応器の実際の内部温度と基準パタ
ーンとの差を積分して得られた評価関数を、各区
間毎に求め、各区間毎の評価関数に応じて各区間
の制御パラメータを修正しようとするものであ
る。
ーンとの差を積分して得られた評価関数を、各区
間毎に求め、各区間毎の評価関数に応じて各区間
の制御パラメータを修正しようとするものであ
る。
即ち、反応器から検出された内部温度検出パタ
ーンをTR、区間Ｃ（t0〜t1）の内部温度基準パタ
ーンをTR′とすると、区間Ｃにおける評価関数J1
は、 J1＝∫t 1t0（TR−TR′）dt で求めることができる。これによつて求められた
評価関数J1の絶対値｜J1｜が、予め設定されたし
きい値ε1を越えていた場合には前記温度調整量
ΔSVが修正され、しきい値ε1以下の場合には温
度調整量ΔSVはそのままに保たれる。
ーンをTR、区間Ｃ（t0〜t1）の内部温度基準パタ
ーンをTR′とすると、区間Ｃにおける評価関数J1
は、 J1＝∫t 1t0（TR−TR′）dt で求めることができる。これによつて求められた
評価関数J1の絶対値｜J1｜が、予め設定されたし
きい値ε1を越えていた場合には前記温度調整量
ΔSVが修正され、しきい値ε1以下の場合には温
度調整量ΔSVはそのままに保たれる。
いま、第２図に示す如く、評価関数J1が＋で、
かつその絶対値｜J1｜がしきい値ε1を越えていた
場合には、前記温度調整量ΔSVが小さ過ぎるた
め、それを増加する方向に修正する。例えば、ｎ
回目のバツチ処理時の評価関数および温度調整量
をJ1(o)，ΔSV(o)、定数をβとすると、次回のバツ
チ処理時の温度調整量ΔSV(o+1)は、 ΔSV(o+1)＝ΔSV(o)＋J1(o)・β に修正、設定される。従つて、次回のバツチ処理
では、区間Ｃにおける内部温度の検出パターンが
下がり基準パターンTR′に近づくので、内部温度
を目標値に制御できる。
かつその絶対値｜J1｜がしきい値ε1を越えていた
場合には、前記温度調整量ΔSVが小さ過ぎるた
め、それを増加する方向に修正する。例えば、ｎ
回目のバツチ処理時の評価関数および温度調整量
をJ1(o)，ΔSV(o)、定数をβとすると、次回のバツ
チ処理時の温度調整量ΔSV(o+1)は、 ΔSV(o+1)＝ΔSV(o)＋J1(o)・β に修正、設定される。従つて、次回のバツチ処理
では、区間Ｃにおける内部温度の検出パターンが
下がり基準パターンTR′に近づくので、内部温度
を目標値に制御できる。
また、区間Ｄ（t1〜t2）の内部温度基準パター
ンをTR″とすると、区間Ｄにおける評価関数J2
は、 J2＝∫t2 t1（TR−TR″）dt で求めることができる。これによつて求められた
評価関数J2の絶対値｜J2｜が、予め設定されたし
きい値ε2を越えていた場合には前記温度変化速度
dSV／dtが修正され、しきい値ε2以下の場合には
温度変化速度dSV／dtはそのままに保たれる。
ンをTR″とすると、区間Ｄにおける評価関数J2
は、 J2＝∫t2 t1（TR−TR″）dt で求めることができる。これによつて求められた
評価関数J2の絶対値｜J2｜が、予め設定されたし
きい値ε2を越えていた場合には前記温度変化速度
dSV／dtが修正され、しきい値ε2以下の場合には
温度変化速度dSV／dtはそのままに保たれる。
いま、第３図に示す如く、評価関数J2が＋で、
かつその絶対値｜J2｜がしきい値ε2を越えていた
場合には、前記温度変化速度dSV／dtが小さ過ぎ
るため、それを大きくする方向に修正する。例え
ば、ｎ回目のバツチ処理時の評価関数および温度
変化速度をJ22(o)，dSV(o)／dt、定数をγとする
と、次回のバツチ処理時の温度変化速度
dSV(o+1)／dtは、 dSV(o+1)／dt＝dsv(o)／dt＋J2(o)・γ に修正、設定される。従つて、次回のバツチ処理
では、区間Ｄにおける内部温度の検出パターンが
下がり基準パターンTR″に近づくので、内部温度
を目標値に制御できる。
かつその絶対値｜J2｜がしきい値ε2を越えていた
場合には、前記温度変化速度dSV／dtが小さ過ぎ
るため、それを大きくする方向に修正する。例え
ば、ｎ回目のバツチ処理時の評価関数および温度
変化速度をJ22(o)，dSV(o)／dt、定数をγとする
と、次回のバツチ処理時の温度変化速度
dSV(o+1)／dtは、 dSV(o+1)／dt＝dsv(o)／dt＋J2(o)・γ に修正、設定される。従つて、次回のバツチ処理
では、区間Ｄにおける内部温度の検出パターンが
下がり基準パターンTR″に近づくので、内部温度
を目標値に制御できる。
更に、評価関数J1、J2の絶対値｜J1｜、｜J2｜
が共にしきい値ε1、ε2を越えている場合には、両
パラメータの修正回数Ｋが設定回数Ｍに達したと
き、両区間Ｃ，Ｄに亘る評価関数J3を求める。両
区間Ｃ，Ｄ（t0〜t2）の内部温度基準パターンを
TRとすると、両区間Ｃ，Ｄにおける評価関数
J3は、 J3＝∫t2 t0（TR−TR）dt で求めることができる。これによつて求められた
評価関数J3の絶対値｜J3｜が、予め設定されたし
きい値ε3を越えていた場合には前記設定時間t1が
修正され、しきい値ε3以下の場合には前記設定時
間t1はそのままに保たれる。
が共にしきい値ε1、ε2を越えている場合には、両
パラメータの修正回数Ｋが設定回数Ｍに達したと
き、両区間Ｃ，Ｄに亘る評価関数J3を求める。両
区間Ｃ，Ｄ（t0〜t2）の内部温度基準パターンを
TRとすると、両区間Ｃ，Ｄにおける評価関数
J3は、 J3＝∫t2 t0（TR−TR）dt で求めることができる。これによつて求められた
評価関数J3の絶対値｜J3｜が、予め設定されたし
きい値ε3を越えていた場合には前記設定時間t1が
修正され、しきい値ε3以下の場合には前記設定時
間t1はそのままに保たれる。
いま、第４図に示す如く、評価関数J3が＋で、
かつその絶対値｜J3｜がしきい値ε3を越えていた
場合には、設定時間t1が大きすぎるため、それを
小さくする方向に修正する。例えば、ｎ回目のバ
ツチ処理時の評価関数および設定時間をJ3(o)、
t1(o)、定数をδとすると、次回のバツチ処理時の
設定時間t1(o+1)は、 t1(o+1)＝t1(o)＋J3(o)・δ に修正、設定される。設定時間t1が修正される
と、次回のバツチ処理では、区間Ｃ，Ｄに亘る内
部温度の検出パターンが下がり基準パターンに近
づく。従つて、以後区間Ｃおよび区間Ｄにおける
パラメータ、つまり温度調整量ΔSVおよび温度
変化速度dSV／dtの修正頻度を少なくでき、かつ
その修正回数も一定範囲内に抑えることができ
る。
かつその絶対値｜J3｜がしきい値ε3を越えていた
場合には、設定時間t1が大きすぎるため、それを
小さくする方向に修正する。例えば、ｎ回目のバ
ツチ処理時の評価関数および設定時間をJ3(o)、
t1(o)、定数をδとすると、次回のバツチ処理時の
設定時間t1(o+1)は、 t1(o+1)＝t1(o)＋J3(o)・δ に修正、設定される。設定時間t1が修正される
と、次回のバツチ処理では、区間Ｃ，Ｄに亘る内
部温度の検出パターンが下がり基準パターンに近
づく。従つて、以後区間Ｃおよび区間Ｄにおける
パラメータ、つまり温度調整量ΔSVおよび温度
変化速度dSV／dtの修正頻度を少なくでき、かつ
その修正回数も一定範囲内に抑えることができ
る。
第５図は本発明の方法を反応器に適用した一実
施例を示している。同図において、反応器１の内
部温度は、その周囲に取付けられたジヤケツト２
内へ供給される蒸気と冷水との割合いによつて調
節される。
施例を示している。同図において、反応器１の内
部温度は、その周囲に取付けられたジヤケツト２
内へ供給される蒸気と冷水との割合いによつて調
節される。
ジヤケツト２には途中に循環ポンプ３を有する
循環路４が接続され、この循環路４にはジヤケツ
ト温度調節計７によつて開閉される弁５，６を通
じて蒸気と冷水とが供給されるようになつてい
る。ジヤケツト温度調節計７は、前記ジヤケツト
２内の温度を検出するジヤケツト温度検出端８か
らの値が予め設定されたジヤケツト温度制御パタ
ーンに一致するように、前記弁５，６の開度を調
節する。
循環路４が接続され、この循環路４にはジヤケツ
ト温度調節計７によつて開閉される弁５，６を通
じて蒸気と冷水とが供給されるようになつてい
る。ジヤケツト温度調節計７は、前記ジヤケツト
２内の温度を検出するジヤケツト温度検出端８か
らの値が予め設定されたジヤケツト温度制御パタ
ーンに一致するように、前記弁５，６の開度を調
節する。
反応器１の内部温度、例えば反応器１内のポリ
マー温度は、内部温度検出端１１によつて検出さ
れた後、演算部１２、バイアス制御部２０および
スイツチ開閉器３１へそれぞれ送られる。演算部
１２では、内部温度検出端１１からの検出値と記
憶部１３内の内部温度基準パターンとの差を求め
る。この差は、パターン制御部４０へ与えられる
とともに、温度調節計１４に指示された後、シー
ケンス制御部１８へ与えられる。シーケンス制御
部１８へ与えられた前記差は、演算部１５におい
て前記バイアス制御部２０から与えられるジヤケ
ツト温度のバイアス値と合成され、続いてスイツ
チ１６（スイツチ開閉器３１からの信号により内
部温度検出値が発熱点PVAに達した時点t0でオン
される。）を経て演算部１７において前記パター
ン制御部４０から与えられるジヤケツト温度制御
パターンと合成された後、前記ジヤケツト温度調
節計７へ与えられる。これにより、ジヤケツト温
度調節計７は、これを設定値として前記弁５，６
の開度を調節する。
マー温度は、内部温度検出端１１によつて検出さ
れた後、演算部１２、バイアス制御部２０および
スイツチ開閉器３１へそれぞれ送られる。演算部
１２では、内部温度検出端１１からの検出値と記
憶部１３内の内部温度基準パターンとの差を求め
る。この差は、パターン制御部４０へ与えられる
とともに、温度調節計１４に指示された後、シー
ケンス制御部１８へ与えられる。シーケンス制御
部１８へ与えられた前記差は、演算部１５におい
て前記バイアス制御部２０から与えられるジヤケ
ツト温度のバイアス値と合成され、続いてスイツ
チ１６（スイツチ開閉器３１からの信号により内
部温度検出値が発熱点PVAに達した時点t0でオン
される。）を経て演算部１７において前記パター
ン制御部４０から与えられるジヤケツト温度制御
パターンと合成された後、前記ジヤケツト温度調
節計７へ与えられる。これにより、ジヤケツト温
度調節計７は、これを設定値として前記弁５，６
の開度を調節する。
前記バイアス制御部２０では、まず変化率算出
部２１において、前記内部温度検出端１１からの
内部温度検出値を一定サンプル周期（例えば、１
〜２分周期）毎に取込み、その各時点の内部温度
変化率α（＝dPV／dt）を求める。変化率αを求
めるには、例えば第６図に示す如く、各サンプル
時点の内部温度検出値をPV1，PV2、内部温度基
準パターンの値をSV1，SV2とし、かつ、 E1＝PV1−SV1 E2＝PV2−SV2 とおくと、内部温度変化率αは、 α＝E2−E1／ｔ〔℃／分または秒〕 で求められる。
部２１において、前記内部温度検出端１１からの
内部温度検出値を一定サンプル周期（例えば、１
〜２分周期）毎に取込み、その各時点の内部温度
変化率α（＝dPV／dt）を求める。変化率αを求
めるには、例えば第６図に示す如く、各サンプル
時点の内部温度検出値をPV1，PV2、内部温度基
準パターンの値をSV1，SV2とし、かつ、 E1＝PV1−SV1 E2＝PV2−SV2 とおくと、内部温度変化率αは、 α＝E2−E1／ｔ〔℃／分または秒〕 で求められる。
これによつて求められた各サンプル時点の内部
温度変化率α1〜αoが予め設定されたしきい値εを
越えていたとき、バイアス調整部２２によつてジ
ヤケツト温度がバイアス制御される。
温度変化率α1〜αoが予め設定されたしきい値εを
越えていたとき、バイアス調整部２２によつてジ
ヤケツト温度がバイアス制御される。
例えば、第７図Ａにおいて、内部温度変化率α1
〜α3がしきい値εを越えていたとすると、第７図
Ｂの如く、各内部温度変化率α1〜α3に定数ｘを掛
けた値だけジヤケツト温度がバイアス制御され
る。
〜α3がしきい値εを越えていたとすると、第７図
Ｂの如く、各内部温度変化率α1〜α3に定数ｘを掛
けた値だけジヤケツト温度がバイアス制御され
る。
また、第８図Ａに示す如く、各サンプル時点
（例えば、30秒周期）の内部温度変化率のうち、
内部温度変化率α(k)，α(k+1)，α(k+2)がしきい値ε
を越えていたとすると、ジヤケツト温度制御パタ
ーンは、第８図Ｂに示す如く、これらの内部温度
変化率に定数ｘを掛けた値だけバイアス制御され
る。さらに、これにカスケードえ出力を加える
と、ジヤケツト温度制御パターンは第８図Ｃのよ
うになる。
（例えば、30秒周期）の内部温度変化率のうち、
内部温度変化率α(k)，α(k+1)，α(k+2)がしきい値ε
を越えていたとすると、ジヤケツト温度制御パタ
ーンは、第８図Ｂに示す如く、これらの内部温度
変化率に定数ｘを掛けた値だけバイアス制御され
る。さらに、これにカスケードえ出力を加える
と、ジヤケツト温度制御パターンは第８図Ｃのよ
うになる。
一方、パターン制御部４０では、第９図のフロ
ーチヤートに従つて、まずパターン記憶部４３の
ジヤケツト温度制御パターンのパラメータ、ここ
では温度調整量ΔSV、温度変化速度dSV／dtお
よび設定時間t1のほか修正の設定回数Ｍをそれぞ
れ初期値として設定し、その後前記評価関数
J1(o)，J2(o)を求める。ここで求められた評価関数
J1(o)，J2(o)は、評価部４２において、その絶対値
｜J1(o)｜，｜J2(o)｜がしきい値ε1，ε2より大きいか
否かが判断される。
ーチヤートに従つて、まずパターン記憶部４３の
ジヤケツト温度制御パターンのパラメータ、ここ
では温度調整量ΔSV、温度変化速度dSV／dtお
よび設定時間t1のほか修正の設定回数Ｍをそれぞ
れ初期値として設定し、その後前記評価関数
J1(o)，J2(o)を求める。ここで求められた評価関数
J1(o)，J2(o)は、評価部４２において、その絶対値
｜J1(o)｜，｜J2(o)｜がしきい値ε1，ε2より大きいか
否かが判断される。
評価関数J1(o)の絶対値｜J1(o)｜がしきい値ε1よ
り大きい場合は次回のバツチ処理時の温度調整量
はΔSV(o+1)＝ΔSV(o)＋J1(o)・βに修正される一
方、絶対値｜J1(o)｜がしきい値ε1以下の場合は次
回のバツチ処理時の温度調整量はそのまま、つま
りΔSV(o+1)＝ΔSV(o)に保たれる。
り大きい場合は次回のバツチ処理時の温度調整量
はΔSV(o+1)＝ΔSV(o)＋J1(o)・βに修正される一
方、絶対値｜J1(o)｜がしきい値ε1以下の場合は次
回のバツチ処理時の温度調整量はそのまま、つま
りΔSV(o+1)＝ΔSV(o)に保たれる。
また、評価関数J2(o)の絶対値｜J2(o)｜がしきい
値ε2より大きい場合は次回のバツチ処理時の温度
変化速度はdSV(o+1)／dt＝dSV(o)／dt＋J2(o)・γ
に修正される一方、絶対値｜J2(o)｜がしきい値ε2
以下の場合は次回のバツチ処理時の温度変化速度
はそのまま、つまりdSV(o+1)／dt＝dSV(o)／dtに
保たれる。
値ε2より大きい場合は次回のバツチ処理時の温度
変化速度はdSV(o+1)／dt＝dSV(o)／dt＋J2(o)・γ
に修正される一方、絶対値｜J2(o)｜がしきい値ε2
以下の場合は次回のバツチ処理時の温度変化速度
はそのまま、つまりdSV(o+1)／dt＝dSV(o)／dtに
保たれる。
さらに、前記絶対値｜J1(o)｜がしきい値ε1以下
で、かつ絶対値｜J2(o)｜がしきい値ε1以下の場合
には、バツチ処理回数ｎに１を加えた後、評価関
数の算出へ戻る。
で、かつ絶対値｜J2(o)｜がしきい値ε1以下の場合
には、バツチ処理回数ｎに１を加えた後、評価関
数の算出へ戻る。
一方、前記絶対値｜J1(o)｜がしきい値ε1より大
きく、かつ絶対値｜J2(o)｜がしきい値ε2より大き
い場合には、続いて温度調整量ΔSVおよび温度
変化速度dSV／dtを修正した修正回数Ｋが予め設
定された設定回数Ｍに達したか否かが判断され
る。
きく、かつ絶対値｜J2(o)｜がしきい値ε2より大き
い場合には、続いて温度調整量ΔSVおよび温度
変化速度dSV／dtを修正した修正回数Ｋが予め設
定された設定回数Ｍに達したか否かが判断され
る。
修正回数Ｋが設定回数Ｍに達していない場合に
は、修正回数Ｋに１を加え、続いてバツチ処理回
数ｎに１を加えた後、評価関数の算出へ戻る。
は、修正回数Ｋに１を加え、続いてバツチ処理回
数ｎに１を加えた後、評価関数の算出へ戻る。
修正回数Ｋが設定回数Ｍに達した場合には、修
正回数Ｋを０にリセツトした後、評価関数J3(o)を
求める。ここで求められた評価関数J3(o)は、評価
部４２において、その絶対値｜J3(o)｜がしきい値
ε3より大きいか否かが判断される。
正回数Ｋを０にリセツトした後、評価関数J3(o)を
求める。ここで求められた評価関数J3(o)は、評価
部４２において、その絶対値｜J3(o)｜がしきい値
ε3より大きいか否かが判断される。
絶対値｜J3(o)｜がしきい値ε3より大きい場合に
は次回のバツチ処理時の設定時間はt1(o+1)＝t1(o)
＋J3(o)・δに修正される一方、絶対値｜J3(o)｜が
しきい値ε3以下の場合には次回のバツチ処理時の
設定時間はそのまま、つまりt1(o+1)＝t1(o)に保た
れる。その後、バツチ処理回数ｎに１を加えた
後、評価関数の算出へ戻る。
は次回のバツチ処理時の設定時間はt1(o+1)＝t1(o)
＋J3(o)・δに修正される一方、絶対値｜J3(o)｜が
しきい値ε3以下の場合には次回のバツチ処理時の
設定時間はそのまま、つまりt1(o+1)＝t1(o)に保た
れる。その後、バツチ処理回数ｎに１を加えた
後、評価関数の算出へ戻る。
従つて、本実施例によれば、反応器１の内部温
度検出パターンと内部温度基準パターンとの差を
積分して評価関数を求め、この評価関数に応じて
ジヤケツト温度の制御パラメータを修正するよう
にしたので、従来のようにオペレータの経験に頼
ることがないので、反応器の内部温度を容易かつ
正確に最適値に制御できる、そのため、反応器の
異常反応を防止でき、かつ反応器の温度制御の自
動化による省力化がはかれる。
度検出パターンと内部温度基準パターンとの差を
積分して評価関数を求め、この評価関数に応じて
ジヤケツト温度の制御パラメータを修正するよう
にしたので、従来のようにオペレータの経験に頼
ることがないので、反応器の内部温度を容易かつ
正確に最適値に制御できる、そのため、反応器の
異常反応を防止でき、かつ反応器の温度制御の自
動化による省力化がはかれる。
また、反応器の内部温度の上昇温度領域を区分
し、各区間毎に評価関数を求め、例えば第１図中
のＣ区間における評価関数J1の絶対値がしきい値
ε1を越えていたとき、温度調整量ΔSVを修正し、
Ｄ区間における評価関数J2がしきい値ε2を越えて
いたとき、温度変化速度dSV／dtを修正するよう
にしたので、内部温度の温度上昇曲線を細かくか
つ精度よく制御できる。
し、各区間毎に評価関数を求め、例えば第１図中
のＣ区間における評価関数J1の絶対値がしきい値
ε1を越えていたとき、温度調整量ΔSVを修正し、
Ｄ区間における評価関数J2がしきい値ε2を越えて
いたとき、温度変化速度dSV／dtを修正するよう
にしたので、内部温度の温度上昇曲線を細かくか
つ精度よく制御できる。
さらに、両評価関数J1，J2の絶対値がそれぞれ
のしきい値ε1，ε2を超え、かつ修正回数Ｋが設定
回数Ｍに達していた場合には、評価関数J3を求
め、この評価関数J3の絶対値に応じて設定時間t1
を修正するようにしたので、温度調整量ΔSVお
よび温度変化速度dSV／dtの修正が頻繁なときで
も、それが設定回数Ｍに達する毎に設定時間t1が
修正されるため、以後頻繁な修正処理をおこなわ
なくてもよい上、これらの修正量を一定範囲内に
抑えることができる。
のしきい値ε1，ε2を超え、かつ修正回数Ｋが設定
回数Ｍに達していた場合には、評価関数J3を求
め、この評価関数J3の絶対値に応じて設定時間t1
を修正するようにしたので、温度調整量ΔSVお
よび温度変化速度dSV／dtの修正が頻繁なときで
も、それが設定回数Ｍに達する毎に設定時間t1が
修正されるため、以後頻繁な修正処理をおこなわ
なくてもよい上、これらの修正量を一定範囲内に
抑えることができる。
以上の通り、本発明によれば、ジヤケツト温度
の大幅な変動を抑えつつ、反応器の内部温度を、
オペレータによる個人差なく、正確に最適値に制
御できる。
の大幅な変動を抑えつつ、反応器の内部温度を、
オペレータによる個人差なく、正確に最適値に制
御できる。
第１図から第４図は本発明を説明するための図
で、第１図は内部温度基準パターンとジヤケツト
温度制御パターンとの関係を示す図、第２図から
第４図は各区間における評価関数とパラメータと
の関係を示す図である。第５図から第９図は本発
明の一実施例を示すもので、第５図はシステム全
体を示すブロツク図、第６図は温度変化率を求め
る際の説明図、第７図はバイアス制御を示す説明
図、第８図はバイアス制御の他の例を示す説明
図、第９図はジヤケツト温度のパターン制御を示
すフローチヤートである。 １……反応器、２……ジヤケツト、４０……パ
ターン制御部。
で、第１図は内部温度基準パターンとジヤケツト
温度制御パターンとの関係を示す図、第２図から
第４図は各区間における評価関数とパラメータと
の関係を示す図である。第５図から第９図は本発
明の一実施例を示すもので、第５図はシステム全
体を示すブロツク図、第６図は温度変化率を求め
る際の説明図、第７図はバイアス制御を示す説明
図、第８図はバイアス制御の他の例を示す説明
図、第９図はジヤケツト温度のパターン制御を示
すフローチヤートである。 １……反応器、２……ジヤケツト、４０……パ
ターン制御部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ジヤケツト温度を、予め設定した温度まで上
昇させた後その温度に維持させ、反応器の内部温
度が発熱点に達した時点で予め設定した温度調整
量だけ下降させ、続いて、前記反応器の内部温度
が発熱点に達した時点から設定時間経過後に設定
温度変化速度で下降させた後、徐々に上昇させる
ことにより、反応器の内部温度を予め設定された
内部温度基準パターンに制御する反応器の内部温
度制御方法において、 前記反応器の内部温度が発熱点に達してからの
温度上昇領域を、前記反応器の内部温度が発熱点
に達してから設定時間経過するまでの第１の区間
と、その設定時間経過後から前記内部温度が飽和
点に達するまでの第２の区間とに区分し、 前記第１の区間および第２の区間について、反
応器の内部温度を検出し、その内部温度検出パタ
ーンと予め設定された内部温度基準パターンとの
差を積分して評価関数をそれぞれ求め、 前記第１の区間の評価関数に応じて前記温度調
整量を修正するとともに、前記第２の区間の評価
関数に応じて前記温度変化速度を修正する、 ことを特徴とする反応器の内部温度制御方法。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の反応器の内部温
度制御方法において、前記温度調整量および温度
変化速度の修正回数が予め設定された設定回数に
達したとき、前記内部温度が発熱点に達してから
飽和点に達するまでの第３の区間について評価関
数を求め、この評価関数に応じて前記設定時間を
修正することを特徴とする反応器の内部温度制御
方法。 ３ 特許請求の範囲第２項記載の反応器の内部温
度制御方法において、前記温度調整量、温度変化
速度および設定時間の修正を、それぞれの評価関
数が予め設定されたしきい値を越えたとき行うこ
とを特徴とする反応器の内部温度制御方法。 ４ 特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれ
かに記載の反応器の内部温度制御方法において、
前記修正に当たつて、前記評価関数と定数との積
を前の値に加えることを特徴とする反応器の内部
温度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18245085A JPS6242202A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反応器の内部温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18245085A JPS6242202A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反応器の内部温度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242202A JPS6242202A (ja) | 1987-02-24 |
| JPH0566603B2 true JPH0566603B2 (ja) | 1993-09-22 |
Family
ID=16118476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18245085A Granted JPS6242202A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 反応器の内部温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6242202A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0830966B2 (ja) * | 1987-04-27 | 1996-03-27 | 出光石油化学株式会社 | 反応器の内部温度制御方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4938075A (ja) * | 1972-08-25 | 1974-04-09 | ||
| JPS55102004A (en) * | 1979-01-31 | 1980-08-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Optimum parameter search unit for control unit |
| JPS56111906A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-04 | Toshiba Corp | Sampling control method |
| JPS5775306A (en) * | 1980-10-29 | 1982-05-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Retrieving device for optimum parameter of controller |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP18245085A patent/JPS6242202A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6242202A (ja) | 1987-02-24 |
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