JPS6242995B2 - - Google Patents

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JPS6242995B2
JPS6242995B2 JP10265980A JP10265980A JPS6242995B2 JP S6242995 B2 JPS6242995 B2 JP S6242995B2 JP 10265980 A JP10265980 A JP 10265980A JP 10265980 A JP10265980 A JP 10265980A JP S6242995 B2 JPS6242995 B2 JP S6242995B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
speed steel
titanium
coating
carbonitride
titanium carbide
Prior art date
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Expired
Application number
JP10265980A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5629670A (en
Inventor
Akinori Kobayashi
Yoshihiko Doi
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication of JPS5629670A publication Critical patent/JPS5629670A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 従来、高速度鋼に対してチタンの炭化物、窒化
物または炭窒化物を被覆し、耐摩耗性の向上をは
かる事が行われているが、その手段としては
CVD法(化学蒸着法)が用いられてきた。しか
しながらCVD法は、900〜1100℃の高温にて反応
させなければならない事から、高速度鋼が焼鈍さ
れてしまい、被覆後に焼入れ、焼戻しを行う必要
があつた。そのため、被覆膜に亀裂を生じたり、
剥離したり、寸法が変化したりする事があり、安
定した精度の良い製品を製造する事が困難であつ
た。またCVD法は反応の際に高速度鋼表層の炭
素を被覆膜中に奪う現象があり、高速度鋼自体の
性能を損う事なく被覆膜を形成する事は極めて困
難であつた。
この現象も同じく反応温度が高いため、炭素原
子の拡散速度が大きくなる事に起因している。こ
れらの欠点があるためにCVD法による高速度鋼
への炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタンの被
覆の実用化は難しかつた。
そこで次に考えられたのがPVD法(物理蒸着
法)である。炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チ
タンのPVD法には反応スパツタリング法、ARE
法(活性化反応蒸着法)、反応イオンプレーテイ
ング法などがある。これらのPVD法によれば高
速度鋼が焼鈍する600℃以下の低い温度で被覆膜
を形成する事が可能になる。中でも反応イオンプ
レーテイング法が他の方法にくらべ最も密着強度
も強く、切削性能も安定し、性能もいいことがわ
かつたので実施例は全てこの方法によつた。
高速度鋼に対する最適被覆膜について述べる。
高速度鋼はその用途が切削条件の変動が大きく且
つ低速重切削の分野である。このためこすり摩耗
及び溶着に強い被覆膜が適し、この点で炭化チタ
ン及び炭窒化チタンが優れている。窒化チタンは
耐溶着性には最も優れているが、通常の高速度鋼
使用条件においては炭化チタン及び炭窒化チタン
との差は認められず、こすり摩耗に弱いので適さ
ない。
さて、以上述べた様に前述のPVD法を用いて
高速度鋼に最適な炭化チタンまたは炭窒化チタン
を被覆するのが最も性能向上を達成する上で最良
である事が明きらかであるが、しかしながら高速
度鋼が焼鈍されない200〜600℃の温度範囲に於い
て炭化チタンまたは炭窒化チタンを被覆した場合
高速度鋼と被覆膜の接着強度が工具用としては不
充分である事が試験の結果判明した。しかるに、
試験の過程に於いて、窒化チタンの場合は600℃
以下の低温でも、実用に耐える接着強度を有する
事を発見した。ここで、窒化チタンと炭窒化チタ
ンまたは炭化チタン界面の接着強度もまた大き
く、また窒化チタンから炭窒化チタンを経て炭化
チタンまで連続に組成を変化させる事も、反応ガ
ス組成を連続に変化させる事が容易に実施でき
る。
即ち高速度鋼にチタン化合物を被覆し、有効な
性能を得るにおいて、本発明によりまず高速度鋼
上に0.01〜2μ望ましくは0.5〜1μの極めて薄
い窒化チタン膜を形成し、その上に炭化チタンま
たは窒化チタンの皮膜を1μ〜10μ望ましくは2
μ〜4μの厚みに被覆する事が必要となる。
ここで第一層の窒化チタン膜の厚みが2μを越
えると耐摩耗性の向上の寄与よりも靭性の劣化が
大きくなるので不適当であり、また第二層の炭化
チタンまたは炭窒化チタン膜の厚みが1μを下回
ると耐摩耗性が不充分となり、10μを越えると靭
性の劣化が甚しく、やはり不適当である。
また本発明に於いて、被覆膜が第一層と第二層
の組合せの多重層であつても、被覆膜中に少量の
鉄族金属が含まれても良いのは勿論である。
以下に実施例を記す。
実施例 1 高速度鋼(SKH4A)をSNP432の形状に加工
し、第1図に示す反応イオンプレーテイング装置
を用いて、電子ビームにて加熱蒸発せしめたチタ
ンをイオン化電圧+60Vでイオン化し、−0.5KV
の基板電圧を印加した。ここで試料No.1は窒素ガ
ス雰囲気中3×10-4Torrにて14分間保持し次に
アセチレンガス雰囲気中4×10-4Torrにて90分
間保持した所、高速度鋼に焼鈍は起きておらず、
TiN層0.5μ、TiC層4.5μの被覆膜を得た。
次に試料No.2としてアセチレンガス雰囲気中4
×10-4Torrにて100分間保持したところ、高速度
鋼に焼鈍は起きておらず、TiC層5μの被覆膜を
得た。また被覆していない高速度鋼を試料No.3と
して旋削耐摩耗性試験を行つた。被削材SCM3工
具FN11R−44Aを用い、切削速度30m/min、切
込2mm、送り0.1mm/revの条件で試験したところ
第2図の結果を得た。
試料No.2は10分間切削後被覆膜が剥離してしま
い、20分後には試料No.3の高速度鋼そのものの性
能になつてしまつたが、本発明の被覆高速度鋼で
ある試料No.1は優れた耐摩耗性を維持している。
実施例 2 実施例1において、同じくSKH4Aを用い試料
No.4として窒素ガス雰囲気中3×10-4Torrにて
20分間保持した後、窒素ガス分圧1×10-4Torr
アセチレンガス分圧3×10-4Torrの雰囲気中に
て80分間保持したところ、高速度鋼に焼鈍は起き
ておらず、TiN層1μ、Ti(CN)層4μの被覆
膜を得た。
この試料No.4を実施例1の切削条件で試験した
結果も第2図に示す様に優れたものであつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例方法を示す説明図で、
図中1は真空槽、2は排気管、3は基板電源、4
は基板、5はイオン化電源、6はイオン化電極、
7は反応ガス導入パイプ、8は蒸発源、9は試料
を示す。 第2図は切削試験結果を示す図表である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 高速度鋼に対しPVD法によりチタンの炭化
    物もしくは炭窒化物の被覆膜を形成せしめるに際
    し、予め600℃以下の温度でチタンの窒化物を0.1
    μ以上2μ以下の厚みに被覆した後、600℃以下
    の温度でチタンの炭化物もしくは炭窒化物を被覆
    する事を特徴とする被覆高速度鋼の製造法。
JP10265980A 1980-07-25 1980-07-25 Preparation of coated high speed steel Granted JPS5629670A (en)

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JP10265980A JPS5629670A (en) 1980-07-25 1980-07-25 Preparation of coated high speed steel

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JP10265980A JPS5629670A (en) 1980-07-25 1980-07-25 Preparation of coated high speed steel

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JP15913276A Division JPS5382672A (en) 1976-12-28 1976-12-28 Coated high speed steel and its manufacture

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Publication Number Publication Date
JPS5629670A JPS5629670A (en) 1981-03-25
JPS6242995B2 true JPS6242995B2 (ja) 1987-09-10

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ID=14333351

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JP10265980A Granted JPS5629670A (en) 1980-07-25 1980-07-25 Preparation of coated high speed steel

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JPH0639398U (ja) * 1992-10-30 1994-05-24 ぺんてる株式会社 紙束の穿孔装置
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