JPS6243128A - 投影光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） 本発明はマスクのパターン金被投影基板（半導体ウェハ
等）に所定の倍率で投影する投影光学装置■ 置に貴し、特に半導体素子等を製造するための縮小投影
型露光装置に関する。

（発明の背景） 近年、半導体素子（超ＬＳＩ等）上に形成される線幅は
増々微細化が進み、これに伴ってそれら半導体素子全製
造するための露光装置、特に縮小投影型露光装置にも高
解像なものが要求されてきた。この種の縮小投影型露光
装置（以下ステッパーと呼ぶ）ｉ−１ｔ、マスク上に描
かれ友回路パターン等？、所定の縮小倍率を持つ投影レ
ンズを用いて半導体ウェハ等の被投影物体上に投影ｇ元
するものである。線幅の微細化に対応するためには、投
影レンズの解像力を高めｇばよい訳であるが、これに伴
なって、ステッパーとしての重ね合わせ露光の精度も高
め々ければならない。重ね合わせ精度全悪化させる１つ
の要因に、投影レンズの倍率誤差が考えられる。倍率誤
差が生じるとウエノ・上にすでに形成されたパター７と
、祈念に重ね合わせ露光する投影パターン像とが相対的
に微小量だけ伸縮し、特にパター７像の周辺での重ね合
わせ精度が著しく低下するといった欠点が生じる。倍率
誤差を引き起こす原因としては、露光光が投影し／ズゲ
透過することＶこ上る熱的な変動と、大気圧変動のよう
な空気の屈折率の変動とに大別できる。いずれの場合も
、何らかの方法で倍率変動？検出し、所定の補正をカロ
兄ないと、重ね合わせ精度全向上させることは難しい。

倍率を微小憤補正する手段として、投影レンズ内の空気
間隔内の圧力全調整する装置が、本願出題人により先に
出願され、特開昭６０−２８６１３号公報として公知で
ある。ま九倍率変＠は、マスク（レチクル）上のマーク
とウェノ１上のマークとを投影レンズを介して位置合わ
せし念後の、残存アライメント誤差から予測する方法等
が知られている。しかし・シがらこの方法で（１、ウエ
ノ飄自体にプロセスによる伸縮が生じるので、必らずし
も正確な変動値金求めることができない。さらにこの方
ａｈウエノ・上のマーク金柑いる之め、ウェハ表面の状
咋によってマークの光電検出の精度がばらつくといつ九
問題もある。

（発明の目的） そこで本発明は倍率の調整、あるいはコノトロール全正
確に行なうために、倍率の変動（倍率誤差）１ｋＷＡ単
に、迅速に測定し舟る工うにし九投影光学装ｆｉｋ提供
するＯとを目的とする。

（発明のａ隻） 本発明は、投影′ｊｔ、学糸の元軸（ＡＸ）力・ら離れ
文位置に中心点（Ｃ，ｉ有し、この中心点（Ｃ，）と光
軸（ＡＸ）と金結ぶ延長線Ｃ１，）ｋ対角線とするよう
な実質的に四辺形の光透過マーク（工１ジＥ、、Ｅ童、
Ｅ、　、Ｅ４による窓Ｒ８）金備えたマスク（レチクル
Ｒ）（ｒ保持する保持手段（２）と、投影光学系の結１
求面に配置可能であり、光透過マークの投影像と位置合
わせし友とき、その投影ｆ象の形状と相似で、かつ投影
１象の四辺の夫々と所定の間隔で平行になるような四辺
Ｌ［する基準マーク（ＦＭ）ｔ−備えた物体（基準マー
ク板３０）と、光透過マークと基準マークとが位置合わ
せされ九とき、延長線（ｌ、）とほぼ直交する方向に光
電走査し、両マークの四辺の夫々の走査方向に関する間
隔（Ｗ、、Ｗ、、Ｗ、、Ｗ、　）　’に検出する間隔検
出手段（２１ａ、２１ｂ、４０．４１）と、その四辺の
各間隔値に基づいて投影光学系の投影倍率の誤差全検出
する倍率誤差検出手段（４２）とを設けること金技術的
要点としている。

（実施例） 第１図は本発明の実施例による縮小投影型露光装置の概
略的な構成金示す斜視図、第２図はその装置に装着され
るレチクルに設けらｎ友アライメノト用の窓の形状を示
す平面図、第３図はウェハステージ上に設けられた基準
マークの形状を示す平面図であり、第４図は第１図の装
置における倍率誤差１ｊｌ１１足やレチクル位置測定の
友めの回路ブロック図である。

第１図において、所定の回路パターン等が描かれたパタ
ーン領域Ｐｒｋ有するレチクルＲは、レチクルホルダー
２上に載置される。ンチクルホルダー２には、パターン
領域ｐｒと、その周辺に設けられｔアライメント又は倍
率誤差測定用の光透過性の窓Ｒ３とが投影レンズｌに工
って投影露光可能なように開口２ａが形成されている。

第１因において、レチクルＲはパターン領域ｐｒの中心
に、投影レンズ１の光軸ＡＸが通るように、位置決めさ
れているものとする。この位置決めはレチクル凡の周辺
のアライメ／トマークＲｍｋアライメント顕微鏡１５で
検出して行なわれる。窓ＩｔＳはパター／領域ｐｒの外
側に、光軸ＡＸから一定の距離の位置に配置され、パタ
ー／領域Ｐｌ−挟む２ケ所に設けられている。投影され
友パターン領域ｐｒ、又は２つの窓Ｒ８の像は、本来な
らはウェハＷ上に露光される。ウエノ・Ｗはウエノ・ホ
ルダー３上に載ｌｔ嘔れ、ウエノ・ホルダー３は元軸Ａ
Ｘ方向に上下動するＺステージ４に設けられる。

Ｚステージ４はモータ５によってＸ方向に一次元移動す
るＸステージ６上に設けられ、Ｘステージ６はモータ７
によってＸ方向に一次元移動するｙステージ８上に設け
られる。ウェハホルダー３上には本発明における物体と
しての基準板３０が固定されている。そしてエステ−シ
ロ、ｙステージ８の各移動による基準板３０の２次元的
な位置は。

レーザ干渉計９．１０によって検出される。−万、レチ
クルＲ上の窓Ｒ８と投影レンズ１とを介して基準板３０
の表面に設けられ定基準マーク全観察するために、窓Ｒ
８の上方にはミラー２Ｑａ。

２０ｂが配置され、窓Ｒ８と基準マークの画像は。

顕微鏡対物レンズとテレビカメラ等の光電走査型上フサ
−を含む、アライメントセンサー２１ａ。

２１ｂに工って光電検出される。

ここで第２図ケ用いて、窓Ｒ８の形状を説明する。レチ
クルＲが正確に位置決めされ定状態で、アライメントセ
ンサー２１　（２１ａ、２１ｂ）は第２図中で破線で示
す工うに、窓Ｒ８ｔ−含む矩形領域ＳＦを走査領域とし
て撮像する。そして窓Ｒ８の中心点ＣＩとパターン領域
Ｐｒの中心点。

、と。

すなわち光軸ＡＸとを結ぶ延長線ｔ１としたとき、窓Ｒ
８は線Ａｔに関して線対称な形状となっている。この線
ｔｌ＆’！、Ｚｉ／座標系の２軸と平行であり、アライ
メントセンサー２１の光電走査の方向、すなわちｙ軸と
平行な走査線ＳＬＩ、ＳＬ２と直交するように定められ
ている。さて窓Ｒ８内には本発明における四辺形を規定
する４つの工・ＩジＥｌ。

Ｅ、、Ｅ、、Ｅ、が形成されている。第２図中。

斜線部はクロム等による遮光部である。エツジＥ１とＥ
、の両延長線は線ｔ、上で９０°で交差し。

エツジＥ、とＥ、の両延長線も線ｔＩ上で９０゜で交差
する。セして工９ジＥ、とＥ、の成す角。

及びエツジＥ、とＥ４の成す角はともに９０°である。

このためエツジＥ、　、Ｅ、、Ｅ、、Ｅ、かう成る四辺
形は正方形であり、その対角線の一本が線ｔ、と一致し
ている。また各エツジＥｔ、Ｅ＊、Ｅ、、Ｅ、は走査＃
ＳＩ、１、ＳＬ２と４５°で交差するように定められて
いる。

次に第３図全周いて、基準板３０上に形成された基準マ
ークＦＭの形状全説明する。マークＦＭはステージ上に
一体に設けられ友ものであり、窓Ｒ８内の四辺形に合わ
せて相似形状の正方形にしである。そしてマークＦＭの
中心Ｃ１通る対角線！、はＸ軸と平行になる工うに定め
られ、四辺の各エツジＢ）　’％　Ｂ１＠＠　Ｅｌｌ、
Ｅ４゜の夫々はｘ軸、ｙ軸に対して４５°　傾いている
。このマークＦＭの寸法は、レチクル几上の窓Ｒ８内の
四辺形の投影像の寸法ニジも小さく定められている。

さて、第４図は第１図に示した装置における信号処理系
の回路ブロック図である。テレビカメラ等を含むアライ
メントセ／サー２１ａ、２１ｂの夫々からの画１＃！信
号は１間隔検出手段としての信号処理回路４０．４１に
入力する。信号処理回路４０．４１の夫々は、第２図に
示すように走査領域ＳＦ内の２ケ所の走査線ＳＬＩ、８
Ｌ２に対応し良画像信号に基づいて、窓Ｒ８内の四辺形
の各エツジＥ、％Ｅ皇、Ｅａ　％　Ｅ４　ｓ及び乙の窓
Ｒ，Ｓ内に位置合わせされ九マークＦＭの各エツジＥｌ
１１、Ｅ、。、　Ｅｌｌ　、Ｅ４・の走査方向の各種間
隔を検出するものである。検出された各種間隔値は、倍
率誤差検出手段としての演算回路４２に入力する。

演算回路４２は倍率誤差の他にレチクルＲのアライメン
ト誤差も演算可能である。さらに演算回路４２には、レ
ーザ干渉計９，１０からの位置情報が入力するとともに
、ｘｙステージを移動させるモータ５，７に所定の駆動
信号を出力する。

次に本実施例の動作全第５図、第６図？参照して説明す
る。まずレチクルＲ’に第１図に示すようにレチクルホ
ルダー２上に載置し、レチクルアライメント手段として
のアライメント顕微鏡１５を用いて、光軸ＡＸがレチク
ルＲの中心と一致するようにアライメントを行なう。こ
のアライメントが完了した時点でレチクル凡の２ケ所の
窓Ｒ８の夫々は第２図に示すような配置となり、アライ
メントセ／サー２１８．２１ｂの走査領域５ＦＰ１３に
位置する。九だし、窓Ｒ８内の四辺形の中心０１を通る
対角線が正確に線ｌ、と一致するかどうかは、レチクル
アライメントの精度によるものであリ、この精度は借で
述べるようにマークＦＭ金使ってチェックすることがで
きる。

次にステージケ移動させて、第５図に示すように、ｇ架
板３０上のマークＦＭがレチクルＲの２つの窓Ｒ８の一
万の投影像と重なり合うように位（ｎ決め２行なう。第
５図はアライメントセンサー２１ａで観察され定態Ｒ８
とマークＦＭとの配置関係？示す図であり、窓Ｒ８内の
四辺形の中心Ｃ１とマークＦ’Ｍの中上−Ｃ，とかわず
かにＸ方向にずれてイ立置決めされている。また同図中
で角度θは不実施例では４５°である。第５図のような
状態でアライメ／トセ／サー２１ａに工６走査線ＳＬＩ
に基づいた画像信号は第６図（ａ）のような波形となり
、走査線ＳＬ２に基づいた画像信号Ｖｉ第６図（ｂ）の
ような波形となる。第６図において、横軸は走在方同（
ｙ方向）を表わし、縦軸は光電レベルニゲ表わす。走査
線ＳＬＩに沿った光電走査が窓Ｉｔ　８円のエツジＥ、
？横切った瞬間に光電レベル１１は立ち上がり、マーク
ＦＭのエツジＥ、・勿横切った瞬間に、マークＦＭの反
射率に応じたレベルまで低下し、さらにマークＰＭのエ
ツジＥ＋ｏ　ｆ横切っ之とき再び光′ｔｌｌンベルＩ、
は立ち上がり、そして窓Ｒ８内のエン／Ｅ改１黄切った
とき、はぼ零まで立下がる。走査線ＳＬ２に対応した画
像信号の光電レベル１１も全く同様の波形となり、エツ
ジＥ、とＥ、。の間、及びエツジＥ、。とＥ、の間で昼
レベルになる。信号処理回路４０は第６図ｔａ＋、（ｂ
）に示したような２つの画像信号？読み込み１例えば一
定のスライスレベルＩｒとの比較に工って、エツジＥ１
とＥ３．の間隔Ｗ３．エツジＥ、。とＥ、の間隔Ｗ１１
エツジＥ、とＥ、・の間隔ＷＩ、及びエツジＥ−とＥ４
の間隔Ｗ、の夫々ケ、投影レンズｌの投影結像面上の寸
法に換算して検出する。

そして演算回路４２はマークＦＭの中心Ｃ１と窓Ｒ８の
四辺形の中上・Ｃ１とのＸ方向のずれ扉ΔＡを以下の（
１）式によって求める。

ｔａｎθ ｊＡ＝　−（（Ｗ、＋Ｗ、　）−（Ｗ、　＋Ｗ、　））
・ｉｌ１次にステージをｙ座ｖＡ値は変えずに、Ｘ方向
のみに直線移動させ、他方の窓Ｒ８の投影像とマークＦ
Ｍとが重なる工うに位置決めする。このときのステージ
のＸ方向の移動量は一義的に定められている。ここでレ
チクルＲ上の２つの窓Ｒ８の中心のＸ方向の間隔金Ｘ・
とし、投影レンズ１の設計ト（倍率誤差が々い時）の倍
率４１（通常１１５又は１／１０）とし九とき、投影像
面上での窓Ｒ８の中心の投影点の１方向における間隔は
Ｘ、・Ｍになる。従ってステージは第５図に示した位置
関係からＸ方向に正確にＸ、・Ｍだけ移動して位置決め
される。この位置決めはレーザ干渉計９の計測分解能に
よって決筐る精度で達成可能であり、例えば±０．０２
μｍで位置決めされる。

そして、他方の窓Ｒ８円の四辺形の各エツジと、マーク
ＦＭの各エツジとの間隔ケ第５図、第６図と同様に、ア
ライメントセンサー２１ｂ、信号処理回路４１によって
検出して、他方の窓Ｒ８の中心点とマークＰＭの中心点
とのＸ方向のずれ量ΔＢ金、演算回路４２によって（１
）式と同じ様に算出する。尚、（１）式においてθ＝４
５°であるからｔａｎθ＝１である。′また（１）式か
らも明ら力）な工うに、マークＰＭの中心Ｃ２と窓Ｒ８
の中−ｃｒｃ、とのＸ方向の位置が一致している場合は
、両中心Ｃ１、Ｃ５のｙ方向への位置ずれにかかわらず
、ｖｖ’、＋ｗ、とＷ。

＋Ｗ４の両加算値は等しくなり、結局ずれ量ΔＡ、又は
ΔＢは零になる。このように、マークＦＭと窓Ｒ８との
ｙ方向の位置決め誤差によるずれ墳ΔんΔＢの計測誤差
は、４つの間隔値Ｗ、　、　Ｗ、　、Ｗ、、Ｗ、　　ｋ
（１）式のように演算することによって本質的に含まれ
なくなる。ま几、マークＦ’Ｍの中心Ｃ１が第５図の工
うに窓Ｒ８の中心Ｃ１に対して光軸ＡＸから遠ざかる方
向にずれている場合は、ずれ量ΔＡ、ΔＢはともに負の
値となり、逆の方向にずれている場合は、ともに正の値
となる。

さて、投影し／ズｌの倍率誤差ΔＭは先に求めた２つの
ずれ危ΔＡとΔＢから（２）式のように算出される。

ΔＭ二ΔＡ＋ΔＢ　　・・・・・・　（２）例えば倍率
誤差がないものとすると、ずれ祉ΔＡとΔＢの各絶対値
は共に等しい値となり、かつ正負の極性のみが異なる。

ｔｆｃ倍率誤差によって、２つの窓Ｒ８の投影点の間隔
が設計値よりも広がっ几鳴合は、ずれｔΔＡ、ｊＢの両
刀が正の値、もしくはいずれか−万が正の値で、他方が
負の値となり、正の値の絶対値が負の値の・絶対値より
も大きくなるようにｉｌ側され、結局倍率誤差１Ｍは正
の値となる。逆の場合は、ずれ撤ｊＡ、Ｂの両刀が負の
値、もしくは−万が正の値で、他方が負の値で、かつ負
の値の絶対値が正の値の絶対値↓りも大きくなるように
計測され、結局倍率誤差ΔＭは負の値となる。こうして
得られた倍率誤差ΔＭは、投影し／ズ１の光軸ＡＸから
一定圧１１ｍ（例えば９ｍｍ）だけ離れ文意孔Ｓの投影
点における１象の伸縮量であり、投影し／ズ１そのもの
の倍率値（イづ分の１）全人わすものではない。本夾施
例においては、レチクルＲ上の２つの窓孔Ｓは、レチク
ルアライメントの完了時に元軸ＡＸからそれぞれ等しい
距離に配置し友ため、先の（２）式のような簡単な演算
で倍率誤差が求められるが、等しい距離にない場合は、
複雑々演算式音用いることになる。通常、倍率誤差を測
定する際の基準点は光軸に定められるから、光軸から等
しい距離の少なくとも２つの投影点を使うことが精度を
上げるためには望ましい。またこの種の高解像な投影レ
ンズでおっても、多かれ少なかれ、ディストーショ／（
像歪み）が存在する。そのディスト−ショア黛は極めて
小さいが、計測され几ずれ童ΔＡ、ΔＢの夫々にはその
ディストーショ／Ｉｋも含まれてくる。このため倍率誤
差ΔＭにも七のディストーション盆が含まれて測定され
ることになる。

さて、窓Ｒ８とマークＦ’Ｍとをそのｗｔ用いて、レチ
クルＲのアライメント誤差’ａ−１Ｕ１１定することが
可能である。このためには、第１図に示し几レチクルア
ライメント手段としてのレチクルアライメント顕微鏡（
以下几−Ｍｉｃと呼ぶ）１５の光軸位置が投影渫面円で
予めわ〃為っていることが必須である。すなわち几−Ｍ
ｉＣ１５の元軸の投影し／ズ１ｔｌ−介した投影点とマ
ークＦＭの中心Ｃ８とが一致する工つなステージの位置
が求められていれｆｆ、よい。そしてレチクルＲは七の
周辺に設けられ九マークＲ，ｍが几−ＭｉＣ１５の元軸
に位置合わせされる工うに位置決めされる。マーク１ｍ
と窓Ｒ８とのレチクルＲ上での配置及び間隔等は予めわ
かっている。そこでＲ−ＭｉＣ１５の元軸の投影点全基
準にして、窓Ｒ８が本来投影されるべき位置にマークＦ
Ｍ’（位置決めする、このときレチクルＲにアライメン
ト誤差がなければ、マークＦＭの中心ＣＩと窓孔Ｓの中
心Ｃ５とは一致するはずである。しかし中心Ｃ１，Ｃ會
がずれていれば、それはレチクル凡のアライメント誤差
とみなすことができる。まず−万の窓Ｒ８の本来投影さ
れるべき位置にマークＦＭ？位置決めしｆｃ後、アライ
メントセンサー２１ａによって第６図に示した工うな画
像信号を得て、信号処理回路４０１Ｃｊって間隔ｗ、　
、ｗ、　、　ｗ、　、　ｗ。

全検出する。そして演算回路４２はそれらの値を用いて
（３）式の計算上行ない、−万の窓孔Ｓの中心ＣＩの光
電走査方向（すなわちＸ方向）のマークＦＭに対する位
置ずれ量ａＹ＋ｔ−求める。

ｊＹｌ　＝　１７４　（（ｗｔ　＋Ｗ、　）−（Ｗｌ　
＋Ｗｓ月・・・・・・・・・（３） この演算式によると、マークＦＭのＸ方向の位置決め誤
差が相殺され、Ｘ方向のずれ量のみが正確に求まる。

同様に、ステージのｙ座標値は変化させずに、ステージ
ｆｘ方向Ｖｒ−Ｘ、・Ｍだけ移動させ、他方の窓Ｒ，８
の本来投影されるべき位置にマークＦＭ全位置決めしｔ
後、アライメントセンサー２１ｂ。

信号処理回路４１によって４つの間隔を検出し、演算回
路４２によシ、他方の窓几Ｓの中心ＣＩと光電走査方向
（Ｘ方向）のマークＦＭに対する位置動等）は、倍率誤
差ΔＭ’に求める九めの計測動作と全く同じなので、−
回の動作で４つの間隔が求められ、後は演算のみでレチ
クルのアライメント誤差としてのずれｔｊＹｌ、ｌＹ、
と、倍率誤差ΔＭとの両刀が求められる。

さて、ずれ量ｊＹｌ　、ｊＹｔがともに零の場合は当然
Ｘ方向のアライメント誤差も零である。またｌＹ、とｌ
Ｙ８との正負が同極性で絶対値が等しいときは、Ｘ方向
のみにその絶対値に応じ九アライメント誤差が生じてい
ることになり、　　ｉＹ＋とΔＹ、の差が零でないとき
は、レチクルＲに回転ケ伴なったアライメント誤差（レ
チクルローチー７ヨ／誤差）が生じていることになる。

また、倍率誤差が光軸ＡＸケ中心昏て点対称に生じるも
のとすると、レチクルＲのＸ方向のアライ、Ｉ　／トＦ
ｒＫ差ΔＸは（４）式によって求められる。

ΔＸ二ΔＡ−ΔＢ　　・・・・・・・・・　　＋４）こ
の（４）式は倍率誤差のσ１１］定時に求めたずれ量Δ
Ａ、ＪＢのみケ使うので、計測動作（マークＦＭの移動
）はことでら８委としない。

以上本発明では四辺形のマーフケ正方形としたが、窓Ｒ
Ｓ内の四辺形、基準マークＦＭの夫々は線１．、ｌ！、
に灯して線対称のひし形であっても１へ特に倍率誤差の
計が１１精度を上げる九めには、第５図中に示した角度
θ全４５°工りも小さくすると工い。

（発明の効果） １：Ｊ土木発明によれば、マスク上の実質的に四辺形と
なる光透過マークと物体上の四辺形の基準マークと？重
ね合わせ、四辺の各間隔のみ？計６１１１すること（で
よって、投影光学系の倍率誤差が正確に計測できるとと
もに、マスクの位置決め誤差も検出できるといった効果
がある。さらに光透過マークと基準マークとは四辺形に
なっているため、光電走査に工って得られる画［＃！倍
信号単純な明暗に応じ九波形となり、波形処理が単純に
なるといった利点がある。

さらに本発明の実施例に工れは光透過マーク（窓Ｒ８の
四辺形）内に基準マーク（ＦＭ）ｋ位置させて、両マー
クの明視野１象金元電走査し、基準マークは暗部として
検出し、四辺の間隔部は明部として検出する工うにした
ので、光透過マーク内に他のアライメントのための小マ
ーク金設けることができる。これは窓Ｒ８内に小マーク
を入れても、基準マークが窓Ｒ８内にくると小マークと
基準マークとでコントラスト（明暗）のちがいが生じず
、どちらも暗部となるからである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による縮小投影ｉＭ露光装置の
概略的な購成金示す斜視図、第２図はレチクル上の光透
過マークとしての窓の形状全示す平面図、第３図は基準
マークの形状を示す平面図、第４図は各種誤差の計測の
ための信号処理回路示す回路ブロック図、第５図は倍率
誤差計測時の各マークの配（ｌ示す平面図、第６図は光
電走査によって得られる画ｆ象信号の波形金示す波形図
である。 〔主要部分の符号の説明〕

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）マスクのパターンを投影光学系によって被投影物
   体に所定の倍率で投影する装置において、 前記投影光学系の光軸から離れた位置に中 心点を有し、該中心点と光軸とを結ぶ延長線を対角線と
   するような実質的に四辺形の光透過マークを備えたマス
   クを保持する保持手段と；前記投影光学系の結像面に配
   置可能であり、前記光透過マークの投影像と位置合わせ
   したとき、該投影像の形状と相似で、かつ該投影像の四
   辺の夫々と所定の間隔で平行になるような四辺を有する
   基準マークを備えた物体と；前記光透過マークと基準マ
   ークとが位置合わせされたとき、前記延長線とほぼ直交
   する方向に光電走査し、両マークの四辺の夫々の該走査
   方向に関する間隔を検出する間隔検出手段と；該検出さ
   れた四辺の各間隔値に基づいて、前記投影光学系の投影
   倍率の誤差を検出する倍率誤差検出手段とを備えたこと
   を特徴とする投影光学装置。