JPS6244545Y2 - - Google Patents

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JPS6244545Y2
JPS6244545Y2 JP1980051468U JP5146880U JPS6244545Y2 JP S6244545 Y2 JPS6244545 Y2 JP S6244545Y2 JP 1980051468 U JP1980051468 U JP 1980051468U JP 5146880 U JP5146880 U JP 5146880U JP S6244545 Y2 JPS6244545 Y2 JP S6244545Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案はリニアICやモールドトランジスタ等
の半導体装置に関するものである。
上記半導体装置は1枚のリードフレームの複数
箇所に半導体ペレツト(以下単にペレツトと称
す)をマウントし、このペレツトの各電極とペレ
ツト周辺に配置した複数の対応するリード部とを
金線やアルミニウム線の金属細線で接続してか
ら、要部を樹脂モールドして、複数個が一括して
製造されている。例えば、ICの従来例を第1図
及び第2図に示すと、1はリードフレーム、2は
ペレツト、3は金属細線である。リードフレーム
1はペレツト2を半田付け(マウント)する複数
のペレツト取付部1aと、ペレツト取付部1aの
周辺に複数のリード4を配置した複数のリード部
1bと、ペレツト取付部1aとリード部1bとを
一体に連結する連結部1cとを有する。又、この
リードフレーム1は導電性や熱放散性の良い銅板
を打抜き成形し、その表面にペレツトマウント性
を良好ならしめるためニツケルや銀等をメツキし
たものが使用されている。そして、ペレツト2を
ペレツト取付部1a上に半田5で接着固定し、更
にペレツト2の上面電極とリード部1bの各リー
ド4の先端部とを金属細線3でステツチボンデイ
ングなどによつて接続してから、図示鎖線部分を
樹脂6でモールドしている。
上記金属細線3には金線とアルミニウム線の両
者が使用されている。後者アルミニウム線は銅の
リードフレーム1のリード4に超音波ボンデイン
グで安定に接続固定することが難しく、そのた
め、アルミニウム線の場合は溶接している。とこ
ろで、このアルミニウム線の溶接は、まず一端を
ペレツト2の上面にアルミニウム蒸着によつて形
成した電極に超音波ボンデイングで接続固定し
て、他端をリード4の先端部上方に保持してお
き、後でこのアルミニウム線の他端とリード4の
先端部とを適当な溶接電極で挟持して両者を溶接
している。ところが、トランジスタのようにリー
ド4の数が2〜3本の場合はいいが、ICのよう
にリード4の数が十数本と多くなると、アルミニ
ウムの金属細線3の溶接が非常に困難で、事実上
は不可能に近い。従つて、ICのような場合は銅
のリードフレーム1に例えば熱圧着ボンデイング
が容易で確実な金線を金属細線3に使用してい
た。しかし、金線は高価であり、これを数十本も
使用するとなると製品の価格に占める割合が高く
なり、製品を高価ならしめる問題があつた。
本考案は上記従来の問題点に鑑み、これを改良
除去したもので、リードフレームと金属細線を共
にアルミニウムで形成し、リードフレームの金属
細線接続箇所を除く表面に後述のカツパーライズ
加工した半導体装置を提供する。例えば、第1図
及び第2図に示したタイプの半導体装置に本考案
を適用した例を第3図及び第4図に示すと、7は
ベース地金がアルミニウムのリードフレーム、3
はペレツト、9はアルミニウム線の金属細線、1
0は半田である。
上記リードフレーム7はペレツト取付部7aと
リード部7bを連結部7cで一体に連結した形状
を有し、リード部7bの各リード11の先端部上
面に金属細線9の一端が接続固定される。このリ
ードフレーム7の特徴は地金がアルミニウムであ
ると共に、各リード11の先端部上面である金属
細線接続部7dを除く表面に銅酸化物の粉末を焼
結した(カツパーライズ加工した)焼結体層12
を被着形成し、金属細線接続部7dはアルミニウ
ムの地金を露出させて、ここにアルミニウム線の
金属細線9の超音波ボンデイングを可能ならしめ
た点にある。このようにするとリードフレーム7
そのものは銅地肌で、従来の銅のリードフレーム
と同等に取扱える。
次に上記リードフレーム7の焼結体層12の形
成要領を説明すると、まず第5図に示すように、
アルミニウムの平板13の上面に前記金属細線接
続部7dを覆うマスク14を取付ける。次にこの
平板13の表裏両面にカツパーライズ加工して、
適当な厚さで焼結体層12を形成してから、マス
ク14を取外す。すると第6図に示すように平板
13の金属細線接続部7dを除く全面に焼結体層
12が形成される。次に平板13を所定形状に打
抜き加工すれば上記リードフレーム7が形成され
る(第7図参照)。尚、リードフレーム7の打抜
かれたカツト面はアルミニウムの地金が露出する
が、この部分は半田付け等の処理に用いないので
アルミニウムの地金が露出しても問題はない。
又、このカツト面も焼結体層12を被着形成する
必要があれば平板13を先に打抜き加工してから
カツパーライズ加工すればよい。
このように、焼結体層12を被着形成したリー
ドフレーム7に対し、ペレツト8はパレツト取付
部7a上に半田10で固着する。この場合、ペレ
ツト8は銅の焼結体層12上に半田付けされるか
ら、より半田付け性を良好ならしめるために、ペ
レツト取付部7a上の焼結体層12上に予めニツ
ケルや錫等をメツキしておくことが望ましい。次
にアルミニウム線の金属細線9の取付けはペレツ
ト8の電極や、リード11の金属細線接続部7d
の地金が全てアルミニウムのため、超音波ボンデ
イングで行う。この超音波ボンデイングは金線の
場合と同じようにステツチボンデイング法で行え
ばよい。
尚、リードフレーム7の焼結体層12の形成
時、リードフレーム7との間にアルミニウムと銅
の合金層が0.5μ程度の厚さででき、焼結体層1
2の厚さが2〜3μ程度と薄くなることがある。
このように焼結体層12の厚さが薄いと、その上
に半田を接着すると焼結体層12の銅成分が半田
に拡散して焼結体層12にアルミニウムの地金が
露出したりする恐れがあるため、このような場合
は焼結体層12の上に銅メツキ(約10μ程度)す
れば問題はない。
又、上記説明はリードフレーム7をペレツト取
付部7aとリード部7bを同一平面上で一体化し
たものについて行つたが、他に、例えばペレツト
の放熱性を良くするためにペレツト取付部をリー
ド部と別個な放熱板で形成し、この放熱板とリー
ド部とをかしめ等で一体化したリードフレームで
あつてもよい。尚、この場合の放熱板は従来同様
に銅板を使用してもよい。又、本考案はICに限
らずトランジスタ等の他の半導体装置に十分適用
し得るものである。
以上説明したように、本考案によればペレツト
とリードの接続をアルミニウム線の超音波ボンデ
イングで行えるから、高価な金線を使用する必要
がなくなり、材料費のコストダウンが可能にな
る。又、リード部の金属細線接続部以外は銅の焼
結体層による銅地肌であるため、従来のリードフ
レームと同様に表面にメツキしたり、半田付けす
ることが可能であり、従来の製造装置がそのまま
使用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体装置の一例を示す一部平
面図、第2図は第1図A−A線の一部の拡大断面
図、第3図は本考案による半導体装置の実施例を
示す一部平面図、第4図は第3図B−B線の拡大
断面図、第5図乃至第7図は本考案で用いるリー
ドフレームの形成要領を説明する各工程での一部
断面図である。 7……リードフレーム、7d……金属細線接続
部、8……半導体ペレツト、9……金属細線、1
1……リード、12……焼結体層。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. リード部と半導体ペレツトの電極とを金属細線
    で接続した半導体装置であつて、リード部と金属
    細線をアルミニウムで形成し、リード部の金属細
    線接続部を除く表面に銅酸化物粉末の焼結体層を
    被着形成したことを特徴とする半導体装置。
JP1980051468U 1980-04-14 1980-04-14 Expired JPS6244545Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1980051468U JPS6244545Y2 (ja) 1980-04-14 1980-04-14

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Publication Number Publication Date
JPS56154062U JPS56154062U (ja) 1981-11-18
JPS6244545Y2 true JPS6244545Y2 (ja) 1987-11-25

Family

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JP1980051468U Expired JPS6244545Y2 (ja) 1980-04-14 1980-04-14

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