JPS6244732A - マイクロレプリカ作成法 - Google Patents
マイクロレプリカ作成法Info
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- JPS6244732A JPS6244732A JP61192624A JP19262486A JPS6244732A JP S6244732 A JPS6244732 A JP S6244732A JP 61192624 A JP61192624 A JP 61192624A JP 19262486 A JP19262486 A JP 19262486A JP S6244732 A JPS6244732 A JP S6244732A
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/16—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/063—Non-steroidal liquid crystal compounds containing one non-condensed saturated non-aromatic ring, e.g. cyclohexane ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09K19/062—Non-steroidal liquid crystal compounds containing one non-condensed benzene ring
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
- C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はマスターパターンのレプリカ作成法に関する。
レプリカ作成を必要とする情報の三次元パターンを保有
する記録素子には光学およびオーディオ記録素子が含ま
れる。多くの元学記碌素子はビデオおよびオーディオの
双方である。この種の素子はたとえば米国特許第４．３
８０，７６９号、第４．４１５．６２１号および第４．
４４６．２２３号明細書に記載されている。これらの特
許はいわゆる熱変形性光学記鍮層に関するものであり、
これらにおいて変形は記録過程で記録層の表面から融触
された孔またはくぼみの形である。間隔を置いた孔また
はくぼみが符号化された情報を表わす。多数のこの種の
変形が、ディスク上に蓄積された情報のパターンを構成
する。
する記録素子には光学およびオーディオ記録素子が含ま
れる。多くの元学記碌素子はビデオおよびオーディオの
双方である。この種の素子はたとえば米国特許第４．３
８０，７６９号、第４．４１５．６２１号および第４．
４４６．２２３号明細書に記載されている。これらの特
許はいわゆる熱変形性光学記鍮層に関するものであり、
これらにおいて変形は記録過程で記録層の表面から融触
された孔またはくぼみの形である。間隔を置いた孔また
はくぼみが符号化された情報を表わす。多数のこの種の
変形が、ディスク上に蓄積された情報のパターンを構成
する。
種々の理由から、情報のパターンのレプリカを作成する
ことが望まれる。欧州特許出願第０１１８９３０号明細
書（１９８４年９月１９日公開）Ｋは光学記録素子たと
えばレーザービジコンディスク、およびオーディオディ
スクたとえばコンパクトディスクのレプリカ作成法が示
されて（・る。この方法には光硬化性アクリレート、特
にアクリル酸のモノ−、ジー、トリーまたはテトラエス
テルの混合物が用いられる。
ことが望まれる。欧州特許出願第０１１８９３０号明細
書（１９８４年９月１９日公開）Ｋは光学記録素子たと
えばレーザービジコンディスク、およびオーディオディ
スクたとえばコンパクトディスクのレプリカ作成法が示
されて（・る。この方法には光硬化性アクリレート、特
にアクリル酸のモノ−、ジー、トリーまたはテトラエス
テルの混合物が用いられる。
光硬化性組成物はマスター上に塗布され、たとえば紫外
線に露光される。光硬化性組成物は硬化する。次いでこ
れをマスターから取りはずす。硬化した層はマスター上
の情報パターンのネガレプリカを保有する。この１ｉ！
Ｉヲサブマスターとして使用できる。硬化した層を用い
て、ネガサブマスター（金属化または他の方法で処理し
て硬化組成物の剥Ｑｋ容易にしてもよい）上の被膜によ
りポジレプリカ全形成しうる。
線に露光される。光硬化性組成物は硬化する。次いでこ
れをマスターから取りはずす。硬化した層はマスター上
の情報パターンのネガレプリカを保有する。この１ｉ！
Ｉヲサブマスターとして使用できる。硬化した層を用い
て、ネガサブマスター（金属化または他の方法で処理し
て硬化組成物の剥Ｑｋ容易にしてもよい）上の被膜によ
りポジレプリカ全形成しうる。
） しかし問題は、上記の先行技術に用いら
れる光硬化したアクリレート組成物が柔軟性全もたない
点である。これらはもろく、従って破損しやすい。
れる光硬化したアクリレート組成物が柔軟性全もたない
点である。これらはもろく、従って破損しやすい。
さらに、光硬化性組成物中のアクリレート混合物により
、品質管理がより困難になる。
、品質管理がより困難になる。
本発明は、マスターパターンを放射線硬化性成分として
の次式 （式中Ｒは脂環式または芳香族の基を表わし；ＲＩは＋
ＣＤ、す、 ；−ＣＨ，ＣＭ、ＯＣＲ，ＣＩ！、−また
はＲ２は水素原子またはメチル基を表わし；ｎは２〜１
０であり； ｐは３または４である） の構造をもつ化合物からなる放射線硬化性組成物の層で
被覆し；そして この膚を化学線に露光し、これによりマスターパターン
のネガ像ヲ急内に形成させる ことよりなる、マスターパターンのレプリカ作成法を提
供することにより上記の問題を解決する。
の次式 （式中Ｒは脂環式または芳香族の基を表わし；ＲＩは＋
ＣＤ、す、 ；−ＣＨ，ＣＭ、ＯＣＲ，ＣＩ！、−また
はＲ２は水素原子またはメチル基を表わし；ｎは２〜１
０であり； ｐは３または４である） の構造をもつ化合物からなる放射線硬化性組成物の層で
被覆し；そして この膚を化学線に露光し、これによりマスターパターン
のネガ像ヲ急内に形成させる ことよりなる、マスターパターンのレプリカ作成法を提
供することにより上記の問題を解決する。
芳香族とはベンゼン核、ナフタリン核またはアントラ七
ン核を意味する。
ン核を意味する。
本発明の特に有用な実施態様においては、放射線硬化性
組成物の放射線硬化性成分は、Ｒが“ベンゼン核または
シクロヘキサン核”を表わし； ＲＩが＋ＣＨ，す、を衣わし； Ｒ２が水素原子またはメチル基會表わし；そして 九が２である 式Ｉによる構造をもつ。
組成物の放射線硬化性成分は、Ｒが“ベンゼン核または
シクロヘキサン核”を表わし； ＲＩが＋ＣＨ，す、を衣わし； Ｒ２が水素原子またはメチル基會表わし；そして 九が２である 式Ｉによる構造をもつ。
ここに記載された方法に有用な放射線硬化性組成物の放
射線硬化性成分であって式ｌの範囲に含まれるものには
下記のものが含まれる。
射線硬化性成分であって式ｌの範囲に含まれるものには
下記のものが含まれる。
表１の化合物は米国特許第４，３２２，４９０号明細書
に示されている。
に示されている。
有用な放射線硬化性組成物には、式ＩＫより表わされる
放射線硬化性成分のほかに光開始剤組成物が含まれてい
てもよい。光開始剤組成物はたとえばアミン系活性剤お
よび３−ケトクマリン系光増感剤からなる。
放射線硬化性成分のほかに光開始剤組成物が含まれてい
てもよい。光開始剤組成物はたとえばアミン系活性剤お
よび３−ケトクマリン系光増感剤からなる。
いかなる光開始剤組成物も本発明に有用である。
ミヒラーのケトンおよびベンゾフェノンが有用である。
アミン系活性剤および３−ケトクマリン系光増感剤から
なる他の組成物がリサーチ・ディスクロージャー（１９
８０年１２月）２００３６項の“新規な補助開始剤を特
色とする光重合可能な組成物”と題する報文中に記載さ
れている。光開始剤組成物の量は決定的なものではない
と思われる。約０．０００２〜０．２ミリモル／Ｐｃ乾
燥固体） 含量）の童が有効である。特に有効
な量は約０．００１〜約０．０１ミリモル／ｆの範囲で
おる。
なる他の組成物がリサーチ・ディスクロージャー（１９
８０年１２月）２００３６項の“新規な補助開始剤を特
色とする光重合可能な組成物”と題する報文中に記載さ
れている。光開始剤組成物の量は決定的なものではない
と思われる。約０．０００２〜０．２ミリモル／Ｐｃ乾
燥固体） 含量）の童が有効である。特に有効
な量は約０．００１〜約０．０１ミリモル／ｆの範囲で
おる。
以下はｆｔ、開始剤組成物の一成分としてきわめて有用
な代衣的りマリン系元増感剤のリストである。
な代衣的りマリン系元増感剤のリストである。
３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマ
リン； ３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル
）クマリン； ３−ベンゾイル−７−シエチルアミノクマリン：３−（
ｏ−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリ
ン； ３−（ｐ−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチル
アミノクマリン； ３．３′−カルボニルビス（５，７−ジー舊−プロポキ
シクマリン）； ３．３′−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）； ３−ベンゾイル−７−メドキシクマリン；７−ジエチル
アミノー３−（３−（２−チェニル）アクリロイルコク
マリン； ３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン； ３−（ｐ−ジエチルアミノどンナモイル）−７−ジエチ
ルアミノクマリン： ７−メドキシー３−（３−ピリジルカルボニル）クマリ
ンおよび ３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン。
リン； ３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル
）クマリン； ３−ベンゾイル−７−シエチルアミノクマリン：３−（
ｏ−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリ
ン； ３−（ｐ−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチル
アミノクマリン； ３．３′−カルボニルビス（５，７−ジー舊−プロポキ
シクマリン）； ３．３′−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）； ３−ベンゾイル−７−メドキシクマリン；７−ジエチル
アミノー３−（３−（２−チェニル）アクリロイルコク
マリン； ３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン； ３−（ｐ−ジエチルアミノどンナモイル）−７−ジエチ
ルアミノクマリン： ７−メドキシー３−（３−ピリジルカルボニル）クマリ
ンおよび ３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン。
代衣的な有用な上記アミン系活性剤には以下のものが含
まれる。ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル；ｐ−ジメ
チルアミノ安息香酸の他のエステル、たとえばｐ−ジメ
チルアミノ安息香酸外−ブチル、ｐ−ジメチルアミノ安
息香酸フェネチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸−２−
７タルイミドエチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−
メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス＜ｐ
−ジメチルアミノベンゾエート）；４，４’−ビス（ジ
メチルアミノ）ベンゾフェノン；毎−ジメチルアミノ安
息香酸フェネチル−および−ペンタメチレンエステル；
ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド；２−クロル−４
−ジメチルアミノベンズアルデヒド；ｐ−ジメチルアミ
ノアセトフェノン；ｐ−ジメチルアミノベンジルアルコ
ール；（Ｆ−ジメチルアミノ）ベンゾイル酢酸エチル；
ｐ−ピペリジノアセトフェノン；４−ジメチルアミノベ
ンゾイン：Ｎ、Ｎ−ジメチル−、−）ルイジン；Ｎ、Ｎ
−ジエチルーｍ−７エネチジン；トリヘンシルアミン：
ジベンジルフェニルアミン；Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル
ベンジルアミン；ｐ−ブロム−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン；トリドデシルアミン；ならびに４ 、 ＋／、 ４
″−メチリジントリス（ｙ、ｙ−ジメチルアニリン）（
クリスタルバイオレット、ロイコ塩基）。
まれる。ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル；ｐ−ジメ
チルアミノ安息香酸の他のエステル、たとえばｐ−ジメ
チルアミノ安息香酸外−ブチル、ｐ−ジメチルアミノ安
息香酸フェネチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸−２−
７タルイミドエチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−
メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス＜ｐ
−ジメチルアミノベンゾエート）；４，４’−ビス（ジ
メチルアミノ）ベンゾフェノン；毎−ジメチルアミノ安
息香酸フェネチル−および−ペンタメチレンエステル；
ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド；２−クロル−４
−ジメチルアミノベンズアルデヒド；ｐ−ジメチルアミ
ノアセトフェノン；ｐ−ジメチルアミノベンジルアルコ
ール；（Ｆ−ジメチルアミノ）ベンゾイル酢酸エチル；
ｐ−ピペリジノアセトフェノン；４−ジメチルアミノベ
ンゾイン：Ｎ、Ｎ−ジメチル−、−）ルイジン；Ｎ、Ｎ
−ジエチルーｍ−７エネチジン；トリヘンシルアミン：
ジベンジルフェニルアミン；Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル
ベンジルアミン；ｐ−ブロム−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン；トリドデシルアミン；ならびに４ 、 ＋／、 ４
″−メチリジントリス（ｙ、ｙ−ジメチルアニリン）（
クリスタルバイオレット、ロイコ塩基）。
α、β−エチレン性不飽和カルボニル置換脂肪族および
芳香族残基の重合および架橋を熱により、またはＥビー
ムエネルギーを用いて、光開始剤組成物を用いずに誘発
することもできる。４０〜１２０℃の範囲の温度がモノ
マーの重合および架橋を促進するのに有用である。
芳香族残基の重合および架橋を熱により、またはＥビー
ムエネルギーを用いて、光開始剤組成物を用いずに誘発
することもできる。４０〜１２０℃の範囲の温度がモノ
マーの重合および架橋を促進するのに有用である。
本発明方法に用いられる放射線硬化性組成物は、マイク
ロレプリカ作成物質として作用しつる式ＩＫよる放射線
硬化性化合物１種の＆全含有すればよい。しかし場合に
よっては、特定の製造法および特定の製造装置の明細に
合わせるために、放射線硬化性組成物の粘度を調整する
ことが望ましい。
ロレプリカ作成物質として作用しつる式ＩＫよる放射線
硬化性化合物１種の＆全含有すればよい。しかし場合に
よっては、特定の製造法および特定の製造装置の明細に
合わせるために、放射線硬化性組成物の粘度を調整する
ことが望ましい。
粘度の調整は反応性希釈剤を放射線硬化性組成物にブレ
ンドすることにより達成できる。反応性希釈剤とは、実
質的な感度低下なしに重合反応に関与しうる低粘度（１
〜１００ ａｐｅ ）アクリルモノマーを意味する。
ンドすることにより達成できる。反応性希釈剤とは、実
質的な感度低下なしに重合反応に関与しうる低粘度（１
〜１００ ａｐｅ ）アクリルモノマーを意味する。
反応性希釈剤はｐが１または２である式ｌによる化合物
である。ｐが１である物質は米国特許第４．３２２，４
９０号明細書に示されている。その明細書に示される方
法を採用して２価のものをつくることもできる。
である。ｐが１である物質は米国特許第４．３２２，４
９０号明細書に示されている。その明細書に示される方
法を採用して２価のものをつくることもできる。
放射線硬化性組成物は一般に、式Ｉの化合物全所望によ
り増感剤と合わせて高められた温度で溶液が得られるま
で混合することＫより調製される。
り増感剤と合わせて高められた温度で溶液が得られるま
で混合することＫより調製される。
次いで活性剤を溶液に添加し、透明な溶液が得られるま
で混合する。粘度を調整したい場合、反応性希釈剤を添
加する。成分を組合わせる順序は決定的ではない。しか
し透明な溶ａｔ得ることは必要である。
で混合する。粘度を調整したい場合、反応性希釈剤を添
加する。成分を組合わせる順序は決定的ではない。しか
し透明な溶ａｔ得ることは必要である。
一般に放射線硬化性組成物は乾燥重量／重量％において
、選ばれた式ｌのモノマー５０〜９３％；活性剤２〜１
０重量％；および光増感剤１〜５重量％からなる。粘度
を調整するためには、放射線硬化性組成物は５０重量％
までが反応性希釈剤であってもよい。
、選ばれた式ｌのモノマー５０〜９３％；活性剤２〜１
０重量％；および光増感剤１〜５重量％からなる。粘度
を調整するためには、放射線硬化性組成物は５０重量％
までが反応性希釈剤であってもよい。
本発明方法により行われるパターンレプリカ作成法はデ
ィジタルおよびビデオディスク、ならびに他の三次元レ
プリカに有用である。
ィジタルおよびビデオディスク、ならびに他の三次元レ
プリカに有用である。
放射線硬化性組成物は種々の既仰の方法、たとえば手塗
り、回転塗布またはエアナイフ塗布によりマスターパタ
ーン上に塗布し５る。マスターパターンは多様な表面上
にあってもよく、オーディオおよびビデオを含む多様な
型であってもよい。
り、回転塗布またはエアナイフ塗布によりマスターパタ
ーン上に塗布し５る。マスターパターンは多様な表面上
にあってもよく、オーディオおよびビデオを含む多様な
型であってもよい。
パターンは多数のミクロ懺面変形である。
塗布用組成物は塗布を容易にするために、溶剤、たとえ
ばジクロルメタン、２−エトキシエタノール、トルエン
、ヘプタンその他の適切な溶剤をも含有し５る。マスタ
ーパターンに放射線硬化性組成物全塗布したのち、用（
ミた溶剤を蒸発させると、放射線硬化性組成物の実質的
に溶剤不含の塗布層が得られる。
ばジクロルメタン、２−エトキシエタノール、トルエン
、ヘプタンその他の適切な溶剤をも含有し５る。マスタ
ーパターンに放射線硬化性組成物全塗布したのち、用（
ミた溶剤を蒸発させると、放射線硬化性組成物の実質的
に溶剤不含の塗布層が得られる。
塗布された放射線硬化性の層を次いで化学線に露光する
。化学線とはそれに対し式ｌのモノマーが感光性である
か、または光開始剤組成物の使用により感受性とされた
電磁線を意味する。電磁線はたトエば熱、Ｅビームエネ
ルギーまたは紫外線である。化学線は式ｌのモノマーお
よび反応性希釈剤（存在する場合）を重合および架橋さ
せ、これにより層を硬化させる。硬化が完了したのち、
マスターパターンを保有する要素の表面から層を除去す
る。前記の放射線硬化性組成物を用いる本発明方法は、
パターンが符号化された可聴および可視双方の情報ｔ−
表わす浮出しおよび／またはくぼみの特性をもつ変形（
孔またはピットその他の変形）の形である素子のパター
ンのレプリカを作成するのに有用であろう。
。化学線とはそれに対し式ｌのモノマーが感光性である
か、または光開始剤組成物の使用により感受性とされた
電磁線を意味する。電磁線はたトエば熱、Ｅビームエネ
ルギーまたは紫外線である。化学線は式ｌのモノマーお
よび反応性希釈剤（存在する場合）を重合および架橋さ
せ、これにより層を硬化させる。硬化が完了したのち、
マスターパターンを保有する要素の表面から層を除去す
る。前記の放射線硬化性組成物を用いる本発明方法は、
パターンが符号化された可聴および可視双方の情報ｔ−
表わす浮出しおよび／またはくぼみの特性をもつ変形（
孔またはピットその他の変形）の形である素子のパター
ンのレプリカを作成するのに有用であろう。
下記の実施例は当業者がいかにして放射線硬化性組成物
を製造し、これらを本発明のレプリカ作成法に使用しう
るかをさらに明らかにするために提示される。
を製造し、これらを本発明のレプリカ作成法に使用しう
るかをさらに明らかにするために提示される。
実施例１゜
下記の成分を含む放射線硬化性塗布用組成物を調製した
。
。
下記により溶液を得た。
増感剤をびん中の表１の化合物および反応性希釈剤に添
加した。次いでびんを水浴に入れ、１〜２時間超音波に
より混合した。水浴の温度が１１８〜１２０７（４８〜
４９℃）に達し、増感剤が溶解した。活性剤を添加した
。混合を１時間続けたところ、透明な溶液が得られた。
加した。次いでびんを水浴に入れ、１〜２時間超音波に
より混合した。水浴の温度が１１８〜１２０７（４８〜
４９℃）に達し、増感剤が溶解した。活性剤を添加した
。混合を１時間続けたところ、透明な溶液が得られた。
約１．０μ風のトラックピッチをもつほぼマイクロメー
ターサイズおよび深さ０．１μｍのピット（特徴）を含
む直径４．７５インチ（１２０，６５籠）のプラスチッ
ク製ディジタルオーディオ素子を０．０５ミクロンの銅
またはアルミニウムで金属化した。金属化前および金属
化後の鏡検により図形の変化は認められなかった。この
ディスクをマスターパターンとして用いた。
ターサイズおよび深さ０．１μｍのピット（特徴）を含
む直径４．７５インチ（１２０，６５籠）のプラスチッ
ク製ディジタルオーディオ素子を０．０５ミクロンの銅
またはアルミニウムで金属化した。金属化前および金属
化後の鏡検により図形の変化は認められなかった。この
ディスクをマスターパターンとして用いた。
厚さ約０．２０朋（８ミル）のポリマー製スペーサーリ
ングを素子の外径付近に置き、放射線硬化性塗布用組成
物をディスクの周りに注いだ。厚さ４龍の石英ガラスカ
バーシートにディスクおよびスペーサーリングに乗せ、
これにより層をディスク全体に広げることによって組成
物を被覆した。
ングを素子の外径付近に置き、放射線硬化性塗布用組成
物をディスクの周りに注いだ。厚さ４龍の石英ガラスカ
バーシートにディスクおよびスペーサーリングに乗せ、
これにより層をディスク全体に広げることによって組成
物を被覆した。
３６５ｓｙｘ付近で測定出力１５〜３０ ｍＷ／Ｃｍ”
ｔ”もつ１０００Ｗ−Ｈｙ／Ｘ、灯を用いて、塗布さ
れた組成物を観測時間７分間露光した。
ｔ”もつ１０００Ｗ−Ｈｙ／Ｘ、灯を用いて、塗布さ
れた組成物を観測時間７分間露光した。
金属化されたマスターディスクを次いで重合しＩ
た表面から取除くと、マスターパターンに言まれ
ていたディジタル情報の正確なネガレプリカを含む強靭
かつ柔軟なポリマーフィルムが得られた。
た表面から取除くと、マスターパターンに言まれ
ていたディジタル情報の正確なネガレプリカを含む強靭
かつ柔軟なポリマーフィルムが得られた。
１４００倍の培率までの鏡検によりピットの変形は認め
られなかった。
られなかった。
実施例２゜
下記の放射線硬化性組成物を調製した。
化合物 量（？）
化合物４、表１ ６０．０組成物を実
施例１に記載したように混和し、同一のマスターパター
ン上に塗布し、同様に露光した。マスター全強靭かつ柔
軟な重合フィルムから除去すると、フィルムにマスター
パターンの正確なネガレプリカが得られた。この場合も
実施例１の場合のように、鏡検により１４００倍の倍率
までピットの変形は認められなかった。
施例１に記載したように混和し、同一のマスターパター
ン上に塗布し、同様に露光した。マスター全強靭かつ柔
軟な重合フィルムから除去すると、フィルムにマスター
パターンの正確なネガレプリカが得られた。この場合も
実施例１の場合のように、鏡検により１４００倍の倍率
までピットの変形は認められなかった。
実施例３゜
下記のもの？含む放射線硬化性塗布用配合物全調製した
。
。
化合物 量（１）
化合物５、表Ｉ ２０３−ベンゾイ
ル−５，７−０，５ ジプロポキシクマリン 約１．０ミクロンのトラックピッチをもつほぼマイクロ
メーターサイズおよび深さ０．１μ慣のピット１含む直
径１２０．６５ｍｍのプラスチック製ディジタルオーデ
ィオディスク全０．０５ミクロンのアルミニウムで金属
化した。金属化前および金属化後のノマルスキー鏡検に
より図形の変化は認められなかった。ディスク全マスタ
ーパターンとして用いた。
ル−５，７−０，５ ジプロポキシクマリン 約１．０ミクロンのトラックピッチをもつほぼマイクロ
メーターサイズおよび深さ０．１μ慣のピット１含む直
径１２０．６５ｍｍのプラスチック製ディジタルオーデ
ィオディスク全０．０５ミクロンのアルミニウムで金属
化した。金属化前および金属化後のノマルスキー鏡検に
より図形の変化は認められなかった。ディスク全マスタ
ーパターンとして用いた。
厚さ約０．２０朋のポリマー製スペーサーディスクをデ
ィスクの外径付近に置き、放射線硬化性配合物の帝をデ
ィスクの周りに注いだ。厚さ４ｎの石英ガラスカバーシ
ートｉディスクおよびスペーサーリング上に乗せること
により液体は広がった。
ィスクの外径付近に置き、放射線硬化性配合物の帝をデ
ィスクの周りに注いだ。厚さ４ｎの石英ガラスカバーシ
ートｉディスクおよびスペーサーリング上に乗せること
により液体は広がった。
３６５ ｎｍ付近で測定出力１５〜３０ ｍＷ／ｃｍ”
ｋもつ１０００ Ｗ−Ｈｙ／Ｘ、灯を用いて、塗布さ
れた配合物を１２分間露光した。
ｋもつ１０００ Ｗ−Ｈｙ／Ｘ、灯を用いて、塗布さ
れた配合物を１２分間露光した。
金属化されたマスターディスクを次いで重合した表面か
ら取除くと、マスターディスクに含まれていたディジタ
ル情報の正確な（逆転）レプリカ金含むポリマーフィル
ムが得られた。１４００倍までノマルスキー鏡検により
ピットに変形は認められなかった。
ら取除くと、マスターディスクに含まれていたディジタ
ル情報の正確な（逆転）レプリカ金含むポリマーフィル
ムが得られた。１４００倍までノマルスキー鏡検により
ピットに変形は認められなかった。
実施例４
モノアクリレート系反応性希釈剤でちる安息香酸２−ア
クリロイルオキシエチル４９に’Ｒ１の化合物５の１６
ｆと共に用いた点以外は実施例３と同様にして放射線硬
化性塗布用配合物を調製した。
クリロイルオキシエチル４９に’Ｒ１の化合物５の１６
ｆと共に用いた点以外は実施例３と同様にして放射線硬
化性塗布用配合物を調製した。
他のすべての化合物およびそれらの配合量は実施例３の
場合と同じであった。実施例３の場合と同様なミクロレ
プリカ作成を行い、同様な結果を得た。
場合と同じであった。実施例３の場合と同様なミクロレ
プリカ作成を行い、同様な結果を得た。
代 理 人 弁理士 湯 浅 恭 三 □（外５名）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マスターパターンを放射線硬化性成分としての次式 （式中Ｒは脂環式または芳香族の基を表わし；Ｒ＾１は
▲数式、化学式、表等があります▼；−ＣＨ＿２ＣＨ＿
２ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２−または▲数式、化学式、表等が
あります▼を表わし； Ｒ＾２は水素原子またはメチル基を表わし；ｎは２〜１
０であり； ｐは３または４である） の構造をもつ化合物からなる放射線硬化性組成物の層で
被覆し；そして この層を化学線に露光し、これによりマスターパターン
のネガ像を層内に形成させる ことよりなる、マスターパターンのレプリカ作成法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US76699185A | 1985-08-19 | 1985-08-19 | |
| US766991 | 1985-08-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6244732A true JPS6244732A (ja) | 1987-02-26 |
Family
ID=25078142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61192624A Pending JPS6244732A (ja) | 1985-08-19 | 1986-08-18 | マイクロレプリカ作成法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0212271A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6244732A (ja) |
| KR (1) | KR870002484A (ja) |
| CA (1) | CA1284126C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013538249A (ja) * | 2010-07-22 | 2013-10-10 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ポリマー安定化液晶媒体およびディスプレイ |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5340537B2 (ja) * | 1974-12-27 | 1978-10-27 | ||
| DE2647890C2 (de) * | 1975-10-23 | 1982-07-22 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., Tokyo | Härtbare Überzugszusammensetzung |
| US4322490A (en) * | 1980-11-17 | 1982-03-30 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring improved monomers |
| NL8300344A (nl) * | 1983-01-31 | 1984-08-16 | Polygram Bv | Methode voor de vervaardiging van metalen matrijzen. |
-
1986
- 1986-01-27 CA CA000500386A patent/CA1284126C/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-07-17 EP EP86109839A patent/EP0212271A3/en not_active Withdrawn
- 1986-08-18 JP JP61192624A patent/JPS6244732A/ja active Pending
- 1986-08-19 KR KR1019860006826A patent/KR870002484A/ko not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013538249A (ja) * | 2010-07-22 | 2013-10-10 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ポリマー安定化液晶媒体およびディスプレイ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0212271A2 (en) | 1987-03-04 |
| EP0212271A3 (en) | 1989-05-10 |
| CA1284126C (en) | 1991-05-14 |
| KR870002484A (ko) | 1987-03-31 |
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