JPS6246526B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6246526B2 JPS6246526B2 JP59272105A JP27210584A JPS6246526B2 JP S6246526 B2 JPS6246526 B2 JP S6246526B2 JP 59272105 A JP59272105 A JP 59272105A JP 27210584 A JP27210584 A JP 27210584A JP S6246526 B2 JPS6246526 B2 JP S6246526B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rhodium
- compound
- catalyst
- manganese
- scandium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 28
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 15
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 6
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 6
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 6
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 6
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 4
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003326 scandium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- -1 organic acid salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- VXJIMUZIBHBWBV-UHFFFAOYSA-M lithium;chloride;hydrate Chemical compound [Li+].O.[Cl-] VXJIMUZIBHBWBV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- TYLYVJBCMQFRCB-UHFFFAOYSA-K trichlororhodium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] TYLYVJBCMQFRCB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- CNFDGXZLMLFIJV-UHFFFAOYSA-L manganese(II) chloride tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Mn+2] CNFDGXZLMLFIJV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical compound CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKZFOHABAHJDIK-UHFFFAOYSA-K trichloroscandium;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Sc+3] FKZFOHABAHJDIK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の目的及び産業上の利用分野)
本発明は合成ガスから、エチレン、プロピレン
を主成分とする低級炭化水素を製造する方法に関
するものである。 (従来技術) 一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを鉄系触媒
やコバルト系触媒の存在下接触的に反応させた場
合、ある程度選択的に不飽和炭化水素が生成する
ことが知られている(例えば特開昭51−131809
号、同56−25117号、同56−136890号、同57−
82323号等参照)が、エチレン、プロピレンの選
択率の点で十分満足すべきものではなかつた。 一方、一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを実
質上金属ロジウムよりなる不均一系触媒の存在下
接触的に反応させた場合の主生成物は、炭素数2
の含酸素化合物である(特開昭51−80806号、同
52−14706号、同57−62233号等参照)。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明は、高選択率をもつて、合成ガスからエ
チレン、プロピレンを主成分とした低級炭化水素
を製造する方法を提供するものである。 本発明者等は(イ)ポリオール、(ロ)ロジウム化合
物、アルカリ金属化合物及びマンガン化合物又は
スカンジウム化合物、及び(ハ)金属アルコキシドを
反応させ、次いで反応混合物を加水分解して得ら
れる固体を加熱処理することにより、ロジウム、
アルカリ金属及びマンガン又はスカンジウム担持
金属酸化物を調製し、このものを一酸化炭素と水
素とからエチレン、プロピレンを主成分とする低
級炭化水素製造用の触媒として用いたところ高選
択的に該化合物が得られることを見出し、本発明
を完成した。 尚、このような特定のロジウム含有触媒の反応
条件下における動的な状態での真の活性種は必ず
しも明らかではないが、実施例に示すように本発
明の触媒を用いれば、公知のロジウム含有触媒を
用いた場合と異なる主生成物である低級炭化水素
が選択的に得られること、さらに、比較例に示す
ように従来の含浸法で調製した触媒は、低級炭化
水素を与えるものの選択性で本発明の触媒には及
ばないことから、化学混合法により担体上に新規
な活性型のロジウムが形成されたものと考えられ
る。 本発明の触媒は(イ)ポリオール、(ロ)ロジウム化合
物、アルカリ金属化合物及びマンガン化合物又は
スカンジウム化合物、及び(ハ)金属アルコキシドを
反応させ、次いで反応混合物を加水分解して得ら
れる固体を加熱処理し調製するものである。ここ
で使用するポリオールとしては、エチレングリコ
ール、プロパンジオール、シクロヘキサンジオー
ル等を例示することができる。ロジウム化合物と
しては、例えば、塩化物、硝酸塩、硫酸塩等の無
機塩、酢酸塩、シユウ酸塩、アセチルアセトナー
ト塩等の有機酸塩、酸化物あるいはアンミン錯
塩、クラスター、ロジウムカルボニル及びロジウ
ムカルボニルアセチルアセトナート等の通常の貴
金属触媒調製に用いられる化合物がいずれも使用
できるが、取扱いの容易さから塩化物が推奨され
る。 アルカリ金属化合物としては、例えばハロゲン
酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩、水
酸化物、酢酸塩、ギ酸塩、シユウ酸塩等の有機酸
塩等が用いられるが特に制限はない。しかし触媒
調製時の反応を容易ならしめるためポリオールに
可溶性の化合物が好ましく用いられる。 マンガン及びスカンジウム化合物としては、例
えば塩化物、硝酸塩、酸化物、炭酸塩等の無機
塩、酢酸塩、シユウ酸塩、アセチルアセトナート
塩等の有機塩又はカルボニル化合物、シクロペン
タジエニル化合物等が用いられるが特に制限はな
い。しかし触媒調製時の反応を容易ならしめるた
め、ポリオールに可溶の化合物が好ましく用いら
れる。 また、金属アルコキシドとしてはシリコン、ア
ルミニウム、チタン、ジルコニウム、タンタル、
ニオビウム、バナジウム、トリウム、マグネシウ
ム等のアルコキシドを使用することができ、単独
又は複合して使用することができる。 本発明の触媒調製にあたつては前記三者を40〜
80℃の温度条件において反応後、得られる反応混
合物を加水分解するものである。加水分解は40〜
80℃において行うことができる。加水分解後、得
られるゲルは乾燥後、加熱処理により微細に分散
したロジウム及び前記金属を担持した触媒とする
ことができる。 上述の手法によつて調製された触媒は通常還元
処理を行うことにより活性化し次いで反応に供せ
られる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であつて好ましい。こ
の際還元温度として、ロジウム及び前記金属の還
元される温度、即ち100℃程度の温度条件下でも
還元処理ができるが、好ましくは200℃〜600℃の
温度下で還元処理を行う。この際触媒の各成分の
分散を十分に行わせる目的で低温より徐々に、あ
るいは段階的に昇温しながら水素還元を行つても
よい。また還元剤を用いて、化学的に還元を行う
こともできる。 例えば一酸化炭素と水を用いたり、ヒドラジ
ン、水素化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化
合物などの還元剤を用いた還元処理を行つてもよ
い。 ロジウムの担体に対する比率は重量比で0.0001
〜0.5、好ましくは0.001〜0.3である。アルカリ金
属とロジウムの比率は、アルカリ金属/ロジウム
(原子比)で0.001〜10、好ましくは0.01〜3の範
囲である。さらにマンガン又はスカンジウムとロ
ジウムの比率はマンガン又はスカンジウム/ロジ
ウム(原子比)で0.001〜10、好ましくは、0.01
〜3の範囲である。 上記のような触媒を用いて、合成ガス即ち一酸
化炭素と水素の混合ガスを不飽和炭化水素に転化
させる。 反応は通常気相で行なわれ、例えば触媒を充填
した固定床式反応器に一酸化炭素と水素を含む原
料ガスを導通させる。この場合原料ガスには一酸
化炭素と水素以外に、例えば二酸化炭素、窒素、
アルゴン、ヘリウム、メタン、水蒸気等の他の成
分を含んでいてもよい。また、触媒反応器は固定
床式に限らず、移動床式や流動床式等他の形成で
あつてもよい。また、場合によつては触媒を適当
な溶媒中に懸濁して原料ガスを導通して反応させ
る液相反応でも実施することができる。 反応条件は広い範囲で変えることができる。好
適な範囲として一酸化炭素と水素のモル比は20:
1から1:5、好ましくは10:1から1:5、反
応温度は200〜400℃、好ましくは220〜350℃、圧
力は1から300気圧、好ましくは20から200気圧、
空間速度は標準状態換算(0℃、1気圧)で102
から107Hr-1、好ましくは103から106Hr-1であ
る。 以下、実施例によつて本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれにより何ら限定されるもの
ではない。 (発明の効果) これらの具体例における反応の結果はまとめて
第1表に示した。転化率は一酸化炭素の供給モル
数に対する消費モル数の比で表わされる。 選択率(%)は次の式で定義される。 特定の生成物へ変換されたCOのモル数×100/消費
されたCOのモル数 エステル類はそれぞれ酸とアルコールに振分け
て計算し、酢酸、エタノール、アセトアルデヒド
は一括して含酸素化合物として示した。 第1表でわかるように化学混合法を用いて調製
された触媒の使用により、エチレン、プロピレン
を含む低級炭化水素への選択率が向上する。 実施例 1 三塩化ロジウム三水塩0.84g、塩化マンガン四
水塩0.019g、塩化リチウム−水塩0.0386gを脱
水したエチレングリコール10mlに完全に溶解させ
た後、テトラエチルオルトシリケート24.24gを
加え撹拌し、完全な均一溶液とする。蒸留水8.39
mlを加え溶液がゲル化するまで撹拌する。 ゲルを真空乾燥させた後、石英ガラス製還元管
に充填し、窒素希釈水素(H2:N2=150:75ml/
毎分)を流しながら室温から除々に昇温し、450
℃で6時間水素還元して触媒を調製した。 この触媒3mlをチタン製反応管に充填し圧力30
Kg/cm2G、温度300℃の条件で原料ガス(CO:
H2=2:3)を69Nl/時の速度で送入し反応を
行ない触媒の活性評価を行つた。 実施例 2 三塩化ロジウム三水塩0.84g、三塩化スカンジ
ウム六水塩0.041g、塩化リチウム一水塩0.0386
gを脱水したエチレングリコール10mlに完全に溶
解させた後、テトラエチルオルトシリケート
24.24gを加え撹拌し、完全な均一溶液とする。
蒸留水8.39mlを加え溶液がゲル化するまで撹拌す
る。以下、実施例1と同様の方法で乾燥及び加熱
処理をして触媒を得た。 この触媒10mlを用い原料ガス(CO:H2=10:
7)を50Nl/時の速度で送入し反応を行なつ
た。他の反応条件は実施例1と同じである。 比較例 三塩化ロジウム三水塩0.72g、塩化マンガン四
水塩0.0162g、塩化リチウム一水塩0.033gをエ
チルアルコール10mlに完全に溶解させてから#57
シリカ6gに含浸し、閉鎖型乾燥器内で二昼夜乾
燥した。 以下、実施例1と同様の方法で加熱処理をして
触媒を得た。この触媒3mlを用いて温度295℃、
原料ガス(CO:H2=1:3)を63Nl/時の速度
で送入し反応を行つた。他の条件は実施例1と同
じである。 【表】
を主成分とする低級炭化水素を製造する方法に関
するものである。 (従来技術) 一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを鉄系触媒
やコバルト系触媒の存在下接触的に反応させた場
合、ある程度選択的に不飽和炭化水素が生成する
ことが知られている(例えば特開昭51−131809
号、同56−25117号、同56−136890号、同57−
82323号等参照)が、エチレン、プロピレンの選
択率の点で十分満足すべきものではなかつた。 一方、一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを実
質上金属ロジウムよりなる不均一系触媒の存在下
接触的に反応させた場合の主生成物は、炭素数2
の含酸素化合物である(特開昭51−80806号、同
52−14706号、同57−62233号等参照)。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明は、高選択率をもつて、合成ガスからエ
チレン、プロピレンを主成分とした低級炭化水素
を製造する方法を提供するものである。 本発明者等は(イ)ポリオール、(ロ)ロジウム化合
物、アルカリ金属化合物及びマンガン化合物又は
スカンジウム化合物、及び(ハ)金属アルコキシドを
反応させ、次いで反応混合物を加水分解して得ら
れる固体を加熱処理することにより、ロジウム、
アルカリ金属及びマンガン又はスカンジウム担持
金属酸化物を調製し、このものを一酸化炭素と水
素とからエチレン、プロピレンを主成分とする低
級炭化水素製造用の触媒として用いたところ高選
択的に該化合物が得られることを見出し、本発明
を完成した。 尚、このような特定のロジウム含有触媒の反応
条件下における動的な状態での真の活性種は必ず
しも明らかではないが、実施例に示すように本発
明の触媒を用いれば、公知のロジウム含有触媒を
用いた場合と異なる主生成物である低級炭化水素
が選択的に得られること、さらに、比較例に示す
ように従来の含浸法で調製した触媒は、低級炭化
水素を与えるものの選択性で本発明の触媒には及
ばないことから、化学混合法により担体上に新規
な活性型のロジウムが形成されたものと考えられ
る。 本発明の触媒は(イ)ポリオール、(ロ)ロジウム化合
物、アルカリ金属化合物及びマンガン化合物又は
スカンジウム化合物、及び(ハ)金属アルコキシドを
反応させ、次いで反応混合物を加水分解して得ら
れる固体を加熱処理し調製するものである。ここ
で使用するポリオールとしては、エチレングリコ
ール、プロパンジオール、シクロヘキサンジオー
ル等を例示することができる。ロジウム化合物と
しては、例えば、塩化物、硝酸塩、硫酸塩等の無
機塩、酢酸塩、シユウ酸塩、アセチルアセトナー
ト塩等の有機酸塩、酸化物あるいはアンミン錯
塩、クラスター、ロジウムカルボニル及びロジウ
ムカルボニルアセチルアセトナート等の通常の貴
金属触媒調製に用いられる化合物がいずれも使用
できるが、取扱いの容易さから塩化物が推奨され
る。 アルカリ金属化合物としては、例えばハロゲン
酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩、水
酸化物、酢酸塩、ギ酸塩、シユウ酸塩等の有機酸
塩等が用いられるが特に制限はない。しかし触媒
調製時の反応を容易ならしめるためポリオールに
可溶性の化合物が好ましく用いられる。 マンガン及びスカンジウム化合物としては、例
えば塩化物、硝酸塩、酸化物、炭酸塩等の無機
塩、酢酸塩、シユウ酸塩、アセチルアセトナート
塩等の有機塩又はカルボニル化合物、シクロペン
タジエニル化合物等が用いられるが特に制限はな
い。しかし触媒調製時の反応を容易ならしめるた
め、ポリオールに可溶の化合物が好ましく用いら
れる。 また、金属アルコキシドとしてはシリコン、ア
ルミニウム、チタン、ジルコニウム、タンタル、
ニオビウム、バナジウム、トリウム、マグネシウ
ム等のアルコキシドを使用することができ、単独
又は複合して使用することができる。 本発明の触媒調製にあたつては前記三者を40〜
80℃の温度条件において反応後、得られる反応混
合物を加水分解するものである。加水分解は40〜
80℃において行うことができる。加水分解後、得
られるゲルは乾燥後、加熱処理により微細に分散
したロジウム及び前記金属を担持した触媒とする
ことができる。 上述の手法によつて調製された触媒は通常還元
処理を行うことにより活性化し次いで反応に供せ
られる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であつて好ましい。こ
の際還元温度として、ロジウム及び前記金属の還
元される温度、即ち100℃程度の温度条件下でも
還元処理ができるが、好ましくは200℃〜600℃の
温度下で還元処理を行う。この際触媒の各成分の
分散を十分に行わせる目的で低温より徐々に、あ
るいは段階的に昇温しながら水素還元を行つても
よい。また還元剤を用いて、化学的に還元を行う
こともできる。 例えば一酸化炭素と水を用いたり、ヒドラジ
ン、水素化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化
合物などの還元剤を用いた還元処理を行つてもよ
い。 ロジウムの担体に対する比率は重量比で0.0001
〜0.5、好ましくは0.001〜0.3である。アルカリ金
属とロジウムの比率は、アルカリ金属/ロジウム
(原子比)で0.001〜10、好ましくは0.01〜3の範
囲である。さらにマンガン又はスカンジウムとロ
ジウムの比率はマンガン又はスカンジウム/ロジ
ウム(原子比)で0.001〜10、好ましくは、0.01
〜3の範囲である。 上記のような触媒を用いて、合成ガス即ち一酸
化炭素と水素の混合ガスを不飽和炭化水素に転化
させる。 反応は通常気相で行なわれ、例えば触媒を充填
した固定床式反応器に一酸化炭素と水素を含む原
料ガスを導通させる。この場合原料ガスには一酸
化炭素と水素以外に、例えば二酸化炭素、窒素、
アルゴン、ヘリウム、メタン、水蒸気等の他の成
分を含んでいてもよい。また、触媒反応器は固定
床式に限らず、移動床式や流動床式等他の形成で
あつてもよい。また、場合によつては触媒を適当
な溶媒中に懸濁して原料ガスを導通して反応させ
る液相反応でも実施することができる。 反応条件は広い範囲で変えることができる。好
適な範囲として一酸化炭素と水素のモル比は20:
1から1:5、好ましくは10:1から1:5、反
応温度は200〜400℃、好ましくは220〜350℃、圧
力は1から300気圧、好ましくは20から200気圧、
空間速度は標準状態換算(0℃、1気圧)で102
から107Hr-1、好ましくは103から106Hr-1であ
る。 以下、実施例によつて本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれにより何ら限定されるもの
ではない。 (発明の効果) これらの具体例における反応の結果はまとめて
第1表に示した。転化率は一酸化炭素の供給モル
数に対する消費モル数の比で表わされる。 選択率(%)は次の式で定義される。 特定の生成物へ変換されたCOのモル数×100/消費
されたCOのモル数 エステル類はそれぞれ酸とアルコールに振分け
て計算し、酢酸、エタノール、アセトアルデヒド
は一括して含酸素化合物として示した。 第1表でわかるように化学混合法を用いて調製
された触媒の使用により、エチレン、プロピレン
を含む低級炭化水素への選択率が向上する。 実施例 1 三塩化ロジウム三水塩0.84g、塩化マンガン四
水塩0.019g、塩化リチウム−水塩0.0386gを脱
水したエチレングリコール10mlに完全に溶解させ
た後、テトラエチルオルトシリケート24.24gを
加え撹拌し、完全な均一溶液とする。蒸留水8.39
mlを加え溶液がゲル化するまで撹拌する。 ゲルを真空乾燥させた後、石英ガラス製還元管
に充填し、窒素希釈水素(H2:N2=150:75ml/
毎分)を流しながら室温から除々に昇温し、450
℃で6時間水素還元して触媒を調製した。 この触媒3mlをチタン製反応管に充填し圧力30
Kg/cm2G、温度300℃の条件で原料ガス(CO:
H2=2:3)を69Nl/時の速度で送入し反応を
行ない触媒の活性評価を行つた。 実施例 2 三塩化ロジウム三水塩0.84g、三塩化スカンジ
ウム六水塩0.041g、塩化リチウム一水塩0.0386
gを脱水したエチレングリコール10mlに完全に溶
解させた後、テトラエチルオルトシリケート
24.24gを加え撹拌し、完全な均一溶液とする。
蒸留水8.39mlを加え溶液がゲル化するまで撹拌す
る。以下、実施例1と同様の方法で乾燥及び加熱
処理をして触媒を得た。 この触媒10mlを用い原料ガス(CO:H2=10:
7)を50Nl/時の速度で送入し反応を行なつ
た。他の反応条件は実施例1と同じである。 比較例 三塩化ロジウム三水塩0.72g、塩化マンガン四
水塩0.0162g、塩化リチウム一水塩0.033gをエ
チルアルコール10mlに完全に溶解させてから#57
シリカ6gに含浸し、閉鎖型乾燥器内で二昼夜乾
燥した。 以下、実施例1と同様の方法で加熱処理をして
触媒を得た。この触媒3mlを用いて温度295℃、
原料ガス(CO:H2=1:3)を63Nl/時の速度
で送入し反応を行つた。他の条件は実施例1と同
じである。 【表】
Claims (1)
- 1 (イ)ポリオール、(ロ)ロジウム化合物、アルカリ
金属化合物及びマンガン化合物又はスカンジウム
化合物、及び(ハ)金属アルコキシドを反応させ、次
いで反応混合物を加水分解して得られる固体を、
加熱処理し、調製したロジウム、アルカリ金属及
びマンガン又はスカンジウム担持金属酸化物触媒
を用いることからなる、一酸化炭素と水素とから
エチレン、プロピレンを主成分とする低級炭化水
素を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59272105A JPS61151135A (ja) | 1984-12-25 | 1984-12-25 | 低級炭化水素を製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59272105A JPS61151135A (ja) | 1984-12-25 | 1984-12-25 | 低級炭化水素を製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61151135A JPS61151135A (ja) | 1986-07-09 |
| JPS6246526B2 true JPS6246526B2 (ja) | 1987-10-02 |
Family
ID=17509145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59272105A Granted JPS61151135A (ja) | 1984-12-25 | 1984-12-25 | 低級炭化水素を製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61151135A (ja) |
-
1984
- 1984-12-25 JP JP59272105A patent/JPS61151135A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61151135A (ja) | 1986-07-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0296734A1 (en) | Copper catalyst for carbon oxide conversion | |
| JP2685130B2 (ja) | エタノールの製造方法 | |
| JP2813770B2 (ja) | エタノールの製造方法 | |
| JPS6113689B2 (ja) | ||
| JPH05221602A (ja) | 合成ガスの製造方法 | |
| JP2915309B2 (ja) | イリジウム基材溶液の製造法、得られた溶液及びその触媒としての使用 | |
| US4568699A (en) | Process for producing oxygen-containing hydrocarbon compounds | |
| JPS61151135A (ja) | 低級炭化水素を製造する方法 | |
| JPS6246525B2 (ja) | ||
| JPS6341893B2 (ja) | ||
| JPH085819B2 (ja) | アセトアルデヒドを主成分とする含酸素化合物の製造方法 | |
| JPH049578B2 (ja) | ||
| JPS621928B2 (ja) | ||
| JPS59227831A (ja) | 酸素含有炭化水素化合物の製造方法 | |
| JPS61178935A (ja) | エタノ−ルの製造方法 | |
| JPS6218530B2 (ja) | ||
| JPS6210485B2 (ja) | ||
| JPS6114130B2 (ja) | ||
| JPH0468977B2 (ja) | ||
| JPS6049612B2 (ja) | 酸素含有炭化水素化合物の製造方法 | |
| JPS6032734A (ja) | エチルアルコ−ルを主成分とする含酸素化合物の製法 | |
| JPS6049618B2 (ja) | エチルアルコ−ルを主成分とする含酸素化合物の製造法 | |
| JPH049580B2 (ja) | ||
| JPS6064938A (ja) | 酸素含有炭化水素化合物の製造法 | |
| JPS6064937A (ja) | 酸素含有炭化水素化合物の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |