JPS6246543B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカルバマートを2−ヒドロキシカルボ
ン酸エステルと反応せしめることによりオキサゾ
リジン2,4−ジオンを製造する新規の方法に係
る。 イソシアナートを2−ヒドロキシカルボン酸エ
ステルと反応せしめることによりオキサゾリジン
−2,4−ジオンを製造することは公知である
(独乙連邦共和国特許公告公報第1811843号,同特
許公開公報第2022494号,同特許公開公報第
2207576号)。 然るに式 (式中R1は1つもしくはそれ以上のハロゲン
原子、メチル残基、メトキシ残基により置換もし
くは非置換のフエニル残基、又は炭素原子1乃至
4個を有するアルキル残基を意味し、R2は水素
もしくは炭素原子1乃至4個を有するアルキル残
基又はビニル残基を意味し、R3はR2と同一の意
味を有し、この場合R2及びR3は個々の場合に同
一であるか又は異なる)のオキサゾリジン−2,
4−ジオンは式 R1−NH−COOR4 (式中R1は前記の意味を有し、且つR4は炭素
原子1乃至6個を有するアルキル残基を意味す
る)のカルバマートを、80乃至250℃で温度に於
て、触媒として錫、鉛、コバルトもしくは銅のハ
ロゲン化物、酸化物、炭素原子1乃至12個を有す
るカルボン酸塩又は第3級有機アミンの存在下も
しくは非存在下に於いて (式中R5はR4と同一の意味を有し、R4及びR5
は個々の場合に同一であるか又は異なり、R2及
びR3は前記の意味を有する)の2−ヒドロキシ
カルボン酸エステルと反応せしめる時は、前記物
質が良好な収率及び高い純度に於て得られること
が知られた。 種々の置換基は例えば次の意味を有する:
R1:アリール例えばフエニル,ナフチル,2
−,3−及び4−フルオルフエニル,2−,3−
及び4−クロルフエニル,2−,3−及び4−ブ
ロムフエニル,2,3−ジクロルフエニル,2,
3,6−トリクロルフエニル,2−,3−及び4
−メトキシフエニル,2−,3−及び4−メチル
フエニル,3,4−ジクロルフエニル,2,6−
ジクロルフエニル,2,3,6−トリクロルフエ
ニル,3,4,5−トリクロルフエニル,2,
4,6−トリクロルフエニル,2,3,5−トリ
クロルフエニル及び殊に3,5−ジクロルフエニ
ル 又はアルキル例えばメチル,エチル,イソプロ
ピル 又はアリル, R4:アルキル例えばメチル,イソブチル,ブ
チル,プロピル,エチル;シクロヘキシル又はフ
エニル,R2:水素又はビニル又はアルキル例え
ばメチル,エチル。 有利な残基はR1=3,5−ジクロルフエニ
ル,R4及びR5=イソブチル,メチル,ブチル,
R2=メチル及びR3=ビニル。 反応を実施するためには80乃至250℃殊に120乃
至225℃の加温が必要である。更に触媒の存在に
施て操作するのが有利である。何となればこれに
より反応の温度が低下されることができるからで
ある。 触媒としては例えば金属例えば錫、鉛、コバル
ト又は銅のハロゲン化物、酸化物又は炭素原子1
乃至12個を有するカルボキシラートが使用され
る。例えば醋酸鉛、醋酸銅()、塩化コバル
ト、ジブチル錫ジラウラート又はジブチル酸化錫
が触媒として使用されることができる。 然し乍ら第3級有機アミン例えばトリメチルア
ミン,トリエチルアミン,トリプロピルアミン,
トリブチルアミン,トリペンチルアミン,トリヘ
キシルアミン,トリヘプチルアミン,トリオクチ
ルアミン,トリノニルアミン,トリデシルアミ
ン,ジメチルシクロヘキシルアミン,ジメチルア
ニリンを触媒として使用するのが殊に適当であ
る。 反応は溶剤なしに実施されることができる;溶
剤の添加は、殊に溶剤が原料物質2−ヒドロキシ
カルボン酸エステルと非沸混合物を形成すること
なしに、蒸溜さるべきアルコールR4OH及び
R5OHと共沸混合物を形成する場合には有利なこ
とがある。 溶剤は例えばキシロール,ベンゾール,α−ピ
ネン,メチルイソブチルケトン,イソブチルアセ
タート,シクロヘキサン又は殊にトルオールであ
る。 反応に対しては化学量論的量の原料物質を使用
するのが有利である。然し乍ら例えば10%までの
過剰の一方の原料物質殊に安い方の原料物質を使
用することもできる。 反応に際しての良好な収率に対して重要な点
は、生成するアルコールR4OH及びR5OHを可及
的に定量的に分離殊に蒸溜し、且つ原料物質とし
て使用される2−ヒドロキシカルボン酸エステル
を一緒に蒸溜しないように留意することである。
この目的のために充填体を有する蒸溜塔の使用が
特に有利である。 反応は標準圧に於て実施されることができる;
65乃至950ミリバールの弱い真空は蒸溜温度を低
下せしめるために有利であることがある。 原料物質として使用されるカルバマートは、イ
ソシアナートとアルコールとを又はカルバミン酸
クロリドとアルコールとをアルカリの存在に於て
普通の方法にて反応せしめることにより得られ
る。即ち例えば3,5−ジクロルフエニルイソシ
アナートとメチルアルコールとを反応せしめるこ
とによりN−(3,5−ジクロルフエニル)−カル
バミン酸メチルエステル(熔融点:121℃)が得
られる。 メチルアルコールの代りにイソブチルアルコー
ルを使用する時は、N−(3,5−ジクロルフエ
ニル)−カルバミン酸イソブチルエステル(熔融
点:75℃)が得られる。メチルイソシアナート及
びメチルアルコールよりN−メチルカルバミン酸
メチルエステルが得られる。 次の諸例は本発明による方法の実施を説明する
ものである。 例 1 N−(3,5−ジクロルフエニル)−メチルカル
バマート(熔融点:121℃)132部(重量部)(0.6
モル)、98%ビニル乳酸イソブチルエステル105.3
部(0.6モル)及びトリブチルアミン5.6部(0.03
モル)を混合する。40cmの高さの蒸溜塔(不銹鋼
よりの2400メツシユ/cm2の金網環にて充填された
2cmの直径を有する)を経て、95分間の経過中に
200ミリバールの圧力に於て145乃至171℃の混合
物の温度及び43乃至61.5℃の蒸気温度に於て溜出
物(メタノール及びイソブタノール)38.4部が蒸
溜される。残滓を90℃に冷却し(これは液状に留
まる)且つ撹拌しつつ20℃のメタノール150部中
に滴加する。2時間20℃に於て後撹拌し、分離さ
れた固状生成物を、吸引濾過し且つメタノール各
20部にて2回洗滌する。 収率:3−(3,5−ジクロルフエニル)−5−メ
チル−5−ビニル−1,3−オキサゾリジ
ン−2,4−ジオン(ビンクロゾリン)
(=収率88%)。 熔融点:106−110℃。 例 2 N−(3,5−ジクロルフエニル)−イソブチル
カルバマート(熔融点:75℃)159.2部(0.6モ
ル)及び98%ビニル乳酸イソブチルエステル
105.3部(0.6モル)をトリブチルアミン5.6部
(0.03モル)と共に1時間還流しつつ加熱する。
蒸溜塔(例1に於けるようなデータ)を経て5時
間の経過中に198乃至220℃の混合物の温度及び
102乃至107℃の蒸気温度に於て溜出物(イソブタ
ノール)73容量部=57.8重量部が蒸溜される。残
滓を80℃に冷却せしめ(これは液状に留まる)且
つこれを20℃に於てメタノール150部中に滴加す
る。これを2時間20℃に於て後撹拌する。分離さ
れたビンクロゾリンを吸引濾過し且つ乾燥する。 収率:ビンクロゾリン121部=70.5%。 熔融点:105℃。 例 3 メチルカルバミド酸メチルエステル67部(0.76
モル),トルオール114容量部,2−ヒドロキシイ
ソ酪酸エチルエステル100部(0.76モル)及びト
リブチルアミン28部(0.152モル)を1時間還流
しつつ加熱する。蒸溜塔(データ例1)を経てト
ルオール,メタノール及びエタノールが蒸溜され
る(混合物の温度155乃至190℃、蒸気温度79乃至
90℃)。蒸溜残滓は10ミリバールに於て分別蒸溜
される。 87.5℃に於て3−N−メチル−5,5−ジメチ
ル−1,3−オキサゾリジノン−2,4が移行
し、これは晶出する。熔融点:44℃。 次の例4乃至10は例1と同様に実施され、且つ
次の反応式により経過した: 【表】
ン酸エステルと反応せしめることによりオキサゾ
リジン2,4−ジオンを製造する新規の方法に係
る。 イソシアナートを2−ヒドロキシカルボン酸エ
ステルと反応せしめることによりオキサゾリジン
−2,4−ジオンを製造することは公知である
(独乙連邦共和国特許公告公報第1811843号,同特
許公開公報第2022494号,同特許公開公報第
2207576号)。 然るに式 (式中R1は1つもしくはそれ以上のハロゲン
原子、メチル残基、メトキシ残基により置換もし
くは非置換のフエニル残基、又は炭素原子1乃至
4個を有するアルキル残基を意味し、R2は水素
もしくは炭素原子1乃至4個を有するアルキル残
基又はビニル残基を意味し、R3はR2と同一の意
味を有し、この場合R2及びR3は個々の場合に同
一であるか又は異なる)のオキサゾリジン−2,
4−ジオンは式 R1−NH−COOR4 (式中R1は前記の意味を有し、且つR4は炭素
原子1乃至6個を有するアルキル残基を意味す
る)のカルバマートを、80乃至250℃で温度に於
て、触媒として錫、鉛、コバルトもしくは銅のハ
ロゲン化物、酸化物、炭素原子1乃至12個を有す
るカルボン酸塩又は第3級有機アミンの存在下も
しくは非存在下に於いて (式中R5はR4と同一の意味を有し、R4及びR5
は個々の場合に同一であるか又は異なり、R2及
びR3は前記の意味を有する)の2−ヒドロキシ
カルボン酸エステルと反応せしめる時は、前記物
質が良好な収率及び高い純度に於て得られること
が知られた。 種々の置換基は例えば次の意味を有する:
R1:アリール例えばフエニル,ナフチル,2
−,3−及び4−フルオルフエニル,2−,3−
及び4−クロルフエニル,2−,3−及び4−ブ
ロムフエニル,2,3−ジクロルフエニル,2,
3,6−トリクロルフエニル,2−,3−及び4
−メトキシフエニル,2−,3−及び4−メチル
フエニル,3,4−ジクロルフエニル,2,6−
ジクロルフエニル,2,3,6−トリクロルフエ
ニル,3,4,5−トリクロルフエニル,2,
4,6−トリクロルフエニル,2,3,5−トリ
クロルフエニル及び殊に3,5−ジクロルフエニ
ル 又はアルキル例えばメチル,エチル,イソプロ
ピル 又はアリル, R4:アルキル例えばメチル,イソブチル,ブ
チル,プロピル,エチル;シクロヘキシル又はフ
エニル,R2:水素又はビニル又はアルキル例え
ばメチル,エチル。 有利な残基はR1=3,5−ジクロルフエニ
ル,R4及びR5=イソブチル,メチル,ブチル,
R2=メチル及びR3=ビニル。 反応を実施するためには80乃至250℃殊に120乃
至225℃の加温が必要である。更に触媒の存在に
施て操作するのが有利である。何となればこれに
より反応の温度が低下されることができるからで
ある。 触媒としては例えば金属例えば錫、鉛、コバル
ト又は銅のハロゲン化物、酸化物又は炭素原子1
乃至12個を有するカルボキシラートが使用され
る。例えば醋酸鉛、醋酸銅()、塩化コバル
ト、ジブチル錫ジラウラート又はジブチル酸化錫
が触媒として使用されることができる。 然し乍ら第3級有機アミン例えばトリメチルア
ミン,トリエチルアミン,トリプロピルアミン,
トリブチルアミン,トリペンチルアミン,トリヘ
キシルアミン,トリヘプチルアミン,トリオクチ
ルアミン,トリノニルアミン,トリデシルアミ
ン,ジメチルシクロヘキシルアミン,ジメチルア
ニリンを触媒として使用するのが殊に適当であ
る。 反応は溶剤なしに実施されることができる;溶
剤の添加は、殊に溶剤が原料物質2−ヒドロキシ
カルボン酸エステルと非沸混合物を形成すること
なしに、蒸溜さるべきアルコールR4OH及び
R5OHと共沸混合物を形成する場合には有利なこ
とがある。 溶剤は例えばキシロール,ベンゾール,α−ピ
ネン,メチルイソブチルケトン,イソブチルアセ
タート,シクロヘキサン又は殊にトルオールであ
る。 反応に対しては化学量論的量の原料物質を使用
するのが有利である。然し乍ら例えば10%までの
過剰の一方の原料物質殊に安い方の原料物質を使
用することもできる。 反応に際しての良好な収率に対して重要な点
は、生成するアルコールR4OH及びR5OHを可及
的に定量的に分離殊に蒸溜し、且つ原料物質とし
て使用される2−ヒドロキシカルボン酸エステル
を一緒に蒸溜しないように留意することである。
この目的のために充填体を有する蒸溜塔の使用が
特に有利である。 反応は標準圧に於て実施されることができる;
65乃至950ミリバールの弱い真空は蒸溜温度を低
下せしめるために有利であることがある。 原料物質として使用されるカルバマートは、イ
ソシアナートとアルコールとを又はカルバミン酸
クロリドとアルコールとをアルカリの存在に於て
普通の方法にて反応せしめることにより得られ
る。即ち例えば3,5−ジクロルフエニルイソシ
アナートとメチルアルコールとを反応せしめるこ
とによりN−(3,5−ジクロルフエニル)−カル
バミン酸メチルエステル(熔融点:121℃)が得
られる。 メチルアルコールの代りにイソブチルアルコー
ルを使用する時は、N−(3,5−ジクロルフエ
ニル)−カルバミン酸イソブチルエステル(熔融
点:75℃)が得られる。メチルイソシアナート及
びメチルアルコールよりN−メチルカルバミン酸
メチルエステルが得られる。 次の諸例は本発明による方法の実施を説明する
ものである。 例 1 N−(3,5−ジクロルフエニル)−メチルカル
バマート(熔融点:121℃)132部(重量部)(0.6
モル)、98%ビニル乳酸イソブチルエステル105.3
部(0.6モル)及びトリブチルアミン5.6部(0.03
モル)を混合する。40cmの高さの蒸溜塔(不銹鋼
よりの2400メツシユ/cm2の金網環にて充填された
2cmの直径を有する)を経て、95分間の経過中に
200ミリバールの圧力に於て145乃至171℃の混合
物の温度及び43乃至61.5℃の蒸気温度に於て溜出
物(メタノール及びイソブタノール)38.4部が蒸
溜される。残滓を90℃に冷却し(これは液状に留
まる)且つ撹拌しつつ20℃のメタノール150部中
に滴加する。2時間20℃に於て後撹拌し、分離さ
れた固状生成物を、吸引濾過し且つメタノール各
20部にて2回洗滌する。 収率:3−(3,5−ジクロルフエニル)−5−メ
チル−5−ビニル−1,3−オキサゾリジ
ン−2,4−ジオン(ビンクロゾリン)
(=収率88%)。 熔融点:106−110℃。 例 2 N−(3,5−ジクロルフエニル)−イソブチル
カルバマート(熔融点:75℃)159.2部(0.6モ
ル)及び98%ビニル乳酸イソブチルエステル
105.3部(0.6モル)をトリブチルアミン5.6部
(0.03モル)と共に1時間還流しつつ加熱する。
蒸溜塔(例1に於けるようなデータ)を経て5時
間の経過中に198乃至220℃の混合物の温度及び
102乃至107℃の蒸気温度に於て溜出物(イソブタ
ノール)73容量部=57.8重量部が蒸溜される。残
滓を80℃に冷却せしめ(これは液状に留まる)且
つこれを20℃に於てメタノール150部中に滴加す
る。これを2時間20℃に於て後撹拌する。分離さ
れたビンクロゾリンを吸引濾過し且つ乾燥する。 収率:ビンクロゾリン121部=70.5%。 熔融点:105℃。 例 3 メチルカルバミド酸メチルエステル67部(0.76
モル),トルオール114容量部,2−ヒドロキシイ
ソ酪酸エチルエステル100部(0.76モル)及びト
リブチルアミン28部(0.152モル)を1時間還流
しつつ加熱する。蒸溜塔(データ例1)を経てト
ルオール,メタノール及びエタノールが蒸溜され
る(混合物の温度155乃至190℃、蒸気温度79乃至
90℃)。蒸溜残滓は10ミリバールに於て分別蒸溜
される。 87.5℃に於て3−N−メチル−5,5−ジメチ
ル−1,3−オキサゾリジノン−2,4が移行
し、これは晶出する。熔融点:44℃。 次の例4乃至10は例1と同様に実施され、且つ
次の反応式により経過した: 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記の一般式で示す。 (式中R1は1つもしくはそれ以上のハロゲン
原子、メチル残基、メトキシ残基により置換もし
くは非置換のフエニル残基、又は炭素原子1乃至
4個を有するアルキル残基を意味し、R2は水素
もしくは炭素原子1乃至4個を有するアルキル残
基又はビニル残基を意味し、R3はR2と同一の意
味を有し、この場合R2及びR3は個々の場合に同
一であるか又は異なる)のオキサゾリジン−2,
4−ジオンの製法に於て、下記式で示す。 R1−NH−COOR4 (式中R1は前記の意味を有し、且つR4は炭素
原子1乃至6個を有するアルキル残基を意味す
る)のカルバマートを、80乃至250℃の温度に於
て、触媒として錫、鉛、コバルトもしくは銅のハ
ロゲン化物、酸化物、炭素原子1乃至12個を有す
るカルボン酸塩又は第3級有機アミンの存在下も
しくは非存在下に於いて下記式で示す。 (式中R5はR4と同一の意味を有し、R4及びR5
は個々の場合に同一であるか又は異なり、R2及
びR3は前記の意味を有する)の2−ヒドロキシ
カルボン酸エステルと反応せしめることを特徴と
するオキサゾリジン−2,4−ジオンの製法。 2 R1が3,5−ジクロルフエニルを意味し、
R2がメチルを意味し、R3がビニルを意味する化
合物との反応を実施することを特徴とする特許請
求の範囲1記載の製法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782813873 DE2813873A1 (de) | 1978-03-31 | 1978-03-31 | Verfahren zur herstellung von oxazolidin-2,4-dionen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54130564A JPS54130564A (en) | 1979-10-09 |
| JPS6246543B2 true JPS6246543B2 (ja) | 1987-10-02 |
Family
ID=6035827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1735479A Granted JPS54130564A (en) | 1978-03-31 | 1979-02-19 | Manufacture of oxazolidinee2*44dione |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4220787A (ja) |
| EP (1) | EP0004582B1 (ja) |
| JP (1) | JPS54130564A (ja) |
| DE (2) | DE2813873A1 (ja) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2913522A1 (de) * | 1979-04-04 | 1980-10-23 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von n-aryloxazolidin-2,4-dionen |
| GB2080803B (en) * | 1980-07-28 | 1984-01-18 | Pfizer | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4367234A (en) * | 1980-07-28 | 1983-01-04 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4812471A (en) * | 1980-07-28 | 1989-03-14 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-(isoxazolyl or isothiazolyl)-oxazolidine-2,4-diones |
| US4332952A (en) * | 1980-07-28 | 1982-06-01 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4562267A (en) * | 1980-07-28 | 1985-12-31 | Pfizer Inc. | Intermediates of hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4342771A (en) * | 1981-01-02 | 1982-08-03 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4565820A (en) * | 1980-07-28 | 1986-01-21 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-pyrrolyl, indolyl and quinolyl substituted oxazolidine-2,4-diones and their use |
| US4753956A (en) * | 1981-01-02 | 1988-06-28 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4689336A (en) * | 1981-01-02 | 1987-08-25 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine 2,4-diones |
| US4399296A (en) * | 1981-01-02 | 1983-08-16 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4431810A (en) * | 1981-01-02 | 1984-02-14 | Pfizer Inc. | Intermediates for the preparation of 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| US4622406A (en) * | 1981-04-23 | 1986-11-11 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| DE3102359A1 (de) * | 1981-01-24 | 1982-08-19 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von oxazolidin-2,4-dionen |
| US4423233A (en) * | 1981-04-23 | 1983-12-27 | Pfizer Inc. | Hypoglycemic 5-substituted oxazolidine-2,4-diones |
| DE3325734A1 (de) * | 1983-07-16 | 1985-01-24 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von n-(3,5-dichlorphenyl)-oxazolidin-2,4-dionen |
| BR8606916A (pt) * | 1985-10-11 | 1987-11-03 | Sagami Chem Res | Derivados de oxazolidinadiona,processo para produzir os derivados,e herbicidas contendo os derivados |
| JPH01228973A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-12 | Nippo Kagaku Kk | N−アリール−1,3−オキサゾリジン−2,4−ジオンの製造方法 |
| WO1994018181A1 (en) * | 1993-02-01 | 1994-08-18 | Monsanto Company | Process for preparing n-substituted-oxazolidine-2,4-diones |
| WO1996026930A1 (en) * | 1995-02-27 | 1996-09-06 | Sagami Chemical Research Center | Process for the preparation of 3-(substituted phenyl)-5-alkylidene-1,3-oxazolidine-2,4-dione derivatives |
| WO2002098867A1 (en) * | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Showa Denko K.K. | Production process for 5-alkyl-oxazolidin-2,4-dione |
| BR112021003432A2 (pt) * | 2018-09-10 | 2021-05-18 | Huntsman International Llc | composto, composto de poli(uretano-amida), e, produto |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE729850C (de) * | 1941-04-16 | 1943-01-04 | Heyden Chem Fab | Verfahren zur Herstellung von in 5-Stellung substituierten 2, 4-Dioxooxazolidinen |
| US2954381A (en) * | 1958-12-03 | 1960-09-27 | Us Vitamin Pharm Corp | Heteroaryloxazolidinediones |
| IT649883A (ja) * | 1960-05-24 |
-
1978
- 1978-03-31 DE DE19782813873 patent/DE2813873A1/de active Pending
-
1979
- 1979-02-19 JP JP1735479A patent/JPS54130564A/ja active Granted
- 1979-02-23 US US06/014,770 patent/US4220787A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-03-15 EP EP79100782A patent/EP0004582B1/de not_active Expired
- 1979-03-15 DE DE7979100782T patent/DE2960436D1/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2813873A1 (de) | 1979-10-11 |
| EP0004582B1 (de) | 1981-07-01 |
| EP0004582A1 (de) | 1979-10-17 |
| JPS54130564A (en) | 1979-10-09 |
| DE2960436D1 (en) | 1981-10-08 |
| US4220787A (en) | 1980-09-02 |
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