JPS6253936A - プロスタグランジン類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本願発明は、優れた血小板凝集阻害作用等を有す、る新
規なグロスタグランジン類及びその薬理上許容される塩
に関する。

最近、強力な血小板凝集阻害作用を有するフロスタサイ
クリン（ＰＧＩ、）が発見されてその生理作用が注目さ
れ、数多くのグループによってその類縁化合物の研究が
なされ、優れた作用を有するとともに、化学的に安定な
カルバサイクリン誘導体が見出されている（例えば、特
開昭５４−９５５５２号公報及び特開昭５４−１１７４
５０号公報）。

本願発明者等は、カルバサイクリン誘導体の合成及び薬
理活性について、長年に亘り、鋭意研究を行った結果、
α−側鎖に特異な構造を有するグロスタグランジン類が
、活性が強く、持続性も高い優、れた血小板凝集阻害作
用、血管拡張作用、気管支拡張作用、抗潰瘍作用、細胞
保護作用（特に、強い血小板凝集阻害作用、抗潰瘍作用
）等を示すこと及び゛活性化合物の合成のための重要中
間体であることを見出して本発明を充放させた。

〔発明の構成〕

本願発明に係る新規化合物は、一般式 上記式中、 Ｒ１は、保護されてｈてもよいカルボキシ基、テトラゾ
リル基、置換されていてもよいカルバモイル基、保護さ
れていてもよいホルミル基、保護されていてもよいヒド
ロキシメチルカルボニル基又は保護されていてもよいヒ
ドロキシメチル基を示し、 Ｂ２及びＲ３は、同−又は異なって水素原子若しくはＣ
４〜Ｃ４のアルキル基を示すか又はそれらが結合してい
る炭素原子と共に形成する３乃至７員環のシクロアルキ
ル基を示し、 Ｂ４及びＢ５は、同−又は異なって水素原子又は水酸基
の保護基を示し、 Ｒ６は、水素原子又は０１〜Ｃ４のアルキル基を示し、
Ｒ７は、置換されていてもよいアルキル基、置換されて
いてもよいアルケニル基、置換されていてビニレン基を
含んでいてもよい０１〜Ｃ６のアルキレン基（直鎖又は
分枝状）を示し、Ｒ８は、置換されていてもよい０３〜
Ｃ１ｏのシクロアルキル基、０５〜Ｃ４゜のシクロアル
ケニル基、アリール基、ヘテロシクリル基又はヘテロア
リール基を示す。〕を示し、Ａは、単結合、弗素原子を
含んでいてもよいＣ１〜Ｃ７の直鎖状アルキレン基、式
−ＣＥ（＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｆｌ−を有する基（式中、
ｎ・はＯ乃至５の整数を示す。なお、左端の結合でＲ１
と結合している。以下同じ。）又は式−（四２）、−Ｅ
−（ｃＨ２）９を有する基（式中、ｐば０乃至３の整数
を示し、ｑはｌ乃至３の整数を示し、Ｅは酸素原子又は
硫黄１子を示す。）を示し、Ｂは、エチレン基、ビニレ
ン基又ｔｔｓエチニレン基を示し、 点線を含む結合は、２位又は３位の二重結合を示す。

Ｒ１のカルボキシ基の保護基としては、通常便用される
カルボキシ基の保護基なら特に限定されないが、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピｋ、ｎ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−
ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルのよ
うな０１〜Ｃ１ｏのアルキル基：後述する０３〜Ｃ７シ
クロアルキル基；゛ベンジル、ｐ−ブロモベンジルのよ
うなアラルキル基：フェニル、トリル、゛ベンゾイルア
ミノフェニルのようなＣ７〜Ｃ４のアルキル、アシルア
ミノで置換されていてもよいフェニル基；ペンツヒドリ
ル基；　　フェナシル基又はゲラニル基をあげることが
でき、好適にはＣ４〜Ｃ１ｏ　　のアルキル基である。

Ｒ１の置換されてもよいカルバモイル基としては、カル
バモイル基又はモノ若しくはジ置換カルバモイル基をあ
げることができ、その置換基としては、例えばメチル、
エチ゛ル、ｒｌ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル
のような炭素数１乃至４個のアルキル基（以下、Ｃ１〜
Ｃ４のアルキル基という）、フェニル、トリルのような
置換されていてもよいフェニル基、アセチル、トリフル
オロアセチル、ベンゾイルのようなアシル基又ａｔ／タ
ンスルホニル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニル
、ｐ−トルエンスルホニルのような０１〜Ｃ４のアルカ
ン若しくはアリールスルホニル基をあげることができる
が、好適にはカルバモイル基又はメタンスルホニルカル
バモイル基であり、特に好適にはメタンスルボニルカル
バモイル基である。

、Ｂ１のホルミル基の保護基又は後述するＲ７に含まれ
るアシル、基の保護基としては、通常使用されるホルミ
ル基の保護基なら特に限定されない（式中　Ｂ９はＣ４
〜Ｃ４のアルキル基を示し、Ｔはエチレン、プロピレン
、トリメチレン、ブチレン、テトラメチレン、２，２−
ツメチルトリメチレンのような０２〜Ｃ５のアルキレン
基を示し、Ｇは酸素原子又は硫−ＲＷ子を示す。）を有
する基をあげることができるが好適にはＧが酸素原子を
示す基である。

Ｒ１のヒトＪツ５チル基の保護基　Ｂ４若しくはＲ５の
水酸基の保護基又は後述するＢ７に含まれる水酸基の保
護基としては、通常使用される水酸基の保護基なら特に
限定されないが、例えばアセチル、フロピオニル、ブチ
リル、インブチリル、バレリル、ベンゾイル、ナフトイ
ルのようなＣ２〜Ｃ５の脂肪族若しくは芳香族アシル基
：ベンジル、ｐ−ニトロペンノル、ｐ−メトキシベンジ
ルのようなアラルキル基；２−テトラヒドロピラニル、
２−テトラヒドロフラニル、４−メトキシテトラヒドロ
ピラン−４−イル、２−テトラヒドロチオピラニルのよ
うなアル；キシ基を置換分として有するか有しない環内
に酸素原子又は硫黄原子を含有する５乃至６員環状の複
素環基：メトキシメチル、メチルチオメチル、エトキシ
メチル、ベンジルオキシメチルのようなアルコキシ基、
アルキルチオ基若しくはアラルキルオキシ基を置換分と
して有するメチル基；１−メトキシエチル、１−エトキ
シエチルのような１−アルコキシエチル基；トリメチル
シリル、トリエチルシリル、トリｎ−プロピルシリル、
ｔ−ブチルジメチルシリル、ジフェニルｔ−ブチルシリ
ルのようなトリＣ７〜Ｃ４のアルキル若しくはジアリー
ル−Ｃ１〜Ｃ４−＃−アルキルシリル基又はトリチル基
をあげることができ、好適にはＢ１におけるヒドロキシ
メチル基の保護基がアラルキル基であり、Ｂ４及びＲ５
の水酸基の保護基が２−テトラヒドロチピラニル基又は
２−テトラヒドロフラニル基でらり　Ｂ７に含まれる水
酸基の保護基がトリ置換シリル基である。

Ｒ２及びＲ３が、それらと結合している炭素原子と共に
形成する３乃至７員環のシクロアルキル基としては、例
えば、シクロブチル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル又はシクロヘプチルをあげる°ことがで
きる。

ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、インブチル、ｎ−ペン
チル、イソペンチル、１−メチルペンチル、２−メチル
ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、１，１−ツメ
チルペンチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシ
ル、２−エチルペンチル、ｎ−オクチル、２−メチルオ
クチル、ｎ−ノニル、２−メチルノニル、２−エチルオ
クチル、ｎ−デシル、２−メチルデシルまたは２−エチ
ルデシルのようなＣ４〜Ｃ４２のアルキル基をあげるこ
とができ、好適には０３〜Ｃ１ｏのアルキル基、例えば
インプロビル、ｎ−ブチ〃、イソブチル、ｎ−ペンチル
、インペンチル、１−メチルペンチル、２−メチルペン
チル、ｎ−ヘキシル、ｎ−へグチル、１，１−ジメチル
ペンチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、
２−エチルペンチル、ｎ−オクチル、２−メチルオクチ
ルまたは２−エチルオクチル基であり、さらに好適には
ｎ−ｄメチル、１−メチルペンチル、ｎ−ヘキシル、１
．ｌ−ジメチルペンチル、ｌ−メチルヘキシル基または
２−メチルヘキシル基である。

Ｂ７の置換されてもよいアルキル基、アルケニル基若し
くＣエアルキニル基の置換分としては、例えば弗素、塩
素、臭素のような一ロゲン原子、メトキシ、エトキシ、
ｎ−プロポキシ、インフロポキシ、ｎ−ブトキシのよう
な０１〜Ｃ４アルコキシ基、保護されていてもよい水酸
基又はアセチル、プロピオニル、ベンゾイルのよりなア
シル基をあげることができ、好適には、弗素原子、塩素
原子又はｌトキシ基である。

Ｂ７の置換されていてもよいアルケニル基のアルケニル
部分としては、１−ブチルビニル、アリル１．２−プロ
ピルアリル、２−ブテニル、２−ぺ°フチニル、４−ペ
ンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−
３−ペンテニル、１−メチル−４−−２ンテニル、１．
１−ツメチル−４−ペンテニル、４−へキセニル、５−
へキセニル、１．４−ジメチル−３−ペンテニル、５−
へフチニル、１−メチル−５−へキセニル、１．１−ジ
メチル−５−７へキセニル、６−メチル−５−へグチニ
ル、２，６−シメチルー５−へブテニル、１，１．６−
　トリメチル−５−ヘプテニル、６−メチル−５−オク
テニル、２，６−ノメチルー５−オクテニル、６−エチ
ル−５−オクテニル、２−メチル−６−エチル−５−オ
クテニル、２．６−ダニチル−５−オクテニルのような
Ｃ３〜Ｃ１□のアルケニル基をあげることができ、好適
にはＣ５〜Ｃ２のアルケニル基、例えば、ｌ−ブチルビ
ニル、２−プロピルアリル、２−ペンテニル、４−ペン
テニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３
−ペンテニル、ｘ−メチル−４−ペンテニル、１，１−
ジメチル−４−ペンテニル、４−へキセニル、５−へキ
セニル、１．４−ジメチル−３−ペンテニル、５−へブ
テニル、１−メチル−５−へキセニル、１．１−ツメチ
ル−５−ヘキセニル、６−メチル−５−へブテニル、２
，６−ノメチルー５−ヘプテニルである。

Ｂ７の置換されていてもよいアルキニル基のアルキニル
部分としては、例えばプロ・９ルギル、２−’チニル、
２−ペンチニル、３−ペンチニル、ｌ−メチル−２−ブ
チニル、２−ヘキシニル、１−メチル−２−ペンチニル
、１−メチル−３−ペンチニル、１．１−ジメチル−２
−ペンチニル、１，１−ジメチル−３−インチニル、１
．１−ツメチル−２−ヘキシニル、１−メチル−３−へ
キシニルのような０３〜Ｃ８のアルキニル基をあげるこ
とができ、好適にはＣ４〜Ｃ７のアルキニル基、例えば
２−ブチニル、２−ペンチニル、３−−２ンチニル、１
−メチル−２−ペンチニル造、１−メチル−３−ヘキシ
ニルまたはｌ−メチル−３−４／チニル基であり、さら
に好適にビニレン基を含んでいてもよい０１〜Ｃ６のア
ルキレン基（直鎖又は分校状）としては、例えば、メチ
レン、エチレン、メチルメチレン、トリメチレン、ジメ
チルメチレン、テトラメチレン、１−メチルトリメチレ
ン、１．ｌ−ツメチルエチレン、ペンタメチレン、ｌ、
ｌ−・ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレン、オキシ
メチレン（−ＣＨ２−０−）、チオメチＶ　７　（−Ｃ
Ｈ２−８−）、メチレにンま、酸素原子又は硫黄原子を
含んでもよいＣ１＜４のアルキレン基、例えばメチレン
、エチレン、メチルメチレン、トリメチレン、ジメチル
メチレン　オキシメチレン又はチオメチレンである。

ブチル、シクロペンチル、３−エチルシフ西ペンチル、
シクロヘキシル、３−ｆロビルシクロヘキシル、４−メ
チルシクロヘキシル、シクロヘゲチル、ビシクロ［４，
３，０ｗｌノナン−７−イル、アグマ／チルのような０
１〜Ｃ６のアルキル基を置換分として有してもよ＜１．
ａｍしてもよい０３〜Ｃ１ｏのシクロアルキル基をあげ
ることができ、好適Ｋ　Ｇ！シクロペンチル基又はシク
ロヘキシル基である。

Ｒ８の０５〜Ｃ１ｏのシクロアルケニル基としては、例
えば、１−シクロペンテニル、２−シクロペンテニル、
３−シクロペンテニル、２−シクロヘキセニル、３−シ
クロヘキセニル、４−シクロヘキセニル、ビシクロ［４
，３，０〕−７−ノネン−９−イルのような縮環しても
よい０５〜Ｃ４゜のシクロアルケニル基をあげることが
でき、好適には、２−シクロヘキセニル基である。

Ｒ８のアリール基としては、フェニル、０−トリル、ｍ
−トリル、ｐ−トリル、ｐ−エチルフェニル、ｍ−’ｎ
−７’ロピルフェニル、ｍ−メトキシフェニル、ｐ−メ
トキシフェニル、０−エトキシフェニル、０−フルオロ
フェニル、ｍ−フルオロフェニル、ｐ−フルオロフェニ
ル、ｍ−クロルフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブ
ロモフェニル、ｐ−トリフルオロメチルフェニル、３．
４−ツメチルフェニル、３−フルオロ−４−）ｆルフェ
ニル、２．４−ジクロロフェニルのよりなＣ７〜Ｃ４ア
ルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、ハロゲン原子又はトリ
フルオロメチルを１乃至２個置換分として有してもよい
フェニル基をあげることができるが、好適にはメ、チル
、弗素原子、塩素原子、又はトリフルオロメチルで置換
されでもよいフェニル基であり、さらに好適に２エフエ
ニル基である。

Ｒ８のへテロシクリル基としては、例えば、テトラヒド
ロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオフ
ェニル、ピロリノニル、ピペリジル、モルホリニル、モ
ルホリノのような酸素、硫黄又は／及び窒素原子を含有
する５乃至、６゛員複素珈基をあげることができるが、
好適には、２−テトラヒドロフリル基又は２−テトラヒ
ドロピラニル基である。

Ｒ８のへテロアリール基としては、例えば、フリル、チ
オフェニル、ピロリル、オキサシリル、チアゾリル、イ
ソオキサグリル、ピリジルのような酸素、硫黄又は／及
び窒素原子を含有する５乃至６員環状芳香複素環基をあ
げることができるが、好適には、２−チオフェニル基又
は３−チオフェニル基である。

Ａの弗素原子を含んでいてもよいＣ１〜Ｃ２の直鎖状ア
ルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、ト
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン、ヘプタメチレン、１．１−シフにオロ）リメ
チｖ　ｙ　（−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−χ２゛、２−ノ
フルオロトリメチレン（−ＣＨ２０Ｆ２０Ｅ（２−）、
３．３−ジフルオロトリメチレン（−ＣＨ２０日２ＣＦ
２−）をあげることができる。

Ａは、好適には、単結合、弗素原子を含んでいてもよい
Ｃ１〜Ｃ７の直鎖状アルキレフ基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ
２−又は式−（ＣＨ２）、−ＥＴ（ＣＥ’１２）ｑ−を
有する基（式中、ｐはＯ乃至３の整数であり、ｑは１乃
至３の整数であり、Ｅは、酸素原子又は硫黄原子でちる
。）でちり、さらに好適には、単結合、０１〜Ｃ５の直
鎖状アルキレン基又は　　。

−（ＣＥ（２）、−Ｅ−（ＣＨ２）ｑ−を有する基（式
中、ｐは０乃至３の整数であり、ｑはｌ乃至３の整数で
あり、Ｅは、酸素原子でちる。）である・Ｒ２及びＲ３
は、好適には°同−又は異なって水素原子又はＣ１〜Ｃ
４のアルキル基である。

Ｒ６は好適には、水素原子又をエメチル基である。

Ｂは、好適に（ニドランス−ビニレン基である。

点線を含む結合は、好適には２位の二重結合である。

本発明の前記一般式（１）を有する化合物のうち、Ｂ１
がカルボキシ基である化合物は必要に応じ薬理上許容さ
れる塩の形にすることができる。薬理上許容される塩の
形としては例えばナトリウアンモニウム塩；テトラメチ
ルアンモニウム、カトラエチルアンモニウム、ベンノル
トリメチルアンモニウム、フェニルトリエチルアンモニ
ウムのような第四級アンモニウム塩；メチルアミン、エ
チルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルヘキシルア
ミン、シクロペンチルアミン、ジシクロヘキシルアミン
、ベンジルアミン、ノヘンジルアミン、α−フェニルエ
チルアミン、エチレンジアミンのようなアルキル、シク
ロアルキル又はアラルキルアミンの塩：ピペリジ／、モ
ルホリン、ピロリジン、ピペラジン、ピリノン、１−メ
チルピペラノ／、４−エチルモルホリンのような複素環
式アミンおよびそれらのＣ４〜Ｃ４のアルキル誘導体の
塩；モノエタノールアミン、エチルジェタノールアミン
、２−アミノ−１−ブタノールのような親水性の基を含
むアミンの塩等をあげることができる。

液化合物を形成させ、使用することもできる。

なお、前記一般式（Ｉ）を有する化合物において、シク
ロペンタン環及びその側鎖の不斉炭素に基づく光学異性
体、Ｒ７がアルケニル基である場合における二重・結合
に基づく幾何異性体並びにシクロペンテン環内の二重結
合に基づく等の位置異性体が存在する。従って前記一般
式（１）を有する化合物がこれらの立体異性体の混合物
で得られる場合には常法により分離および分割して、そ
れぞれの異性体を得ることができる。前記一般式（１）
においてはこれらの光学異性体及び立体異性体等の混合
物が全て単一の式で示されているが、これにより本発明
の記載の範囲は限定さカルボニル基、カルバモイル基、
モノ若しくハノ置換カルバモイル基（該置換基は、低級
アルキル基、フェニル基又はメタンスルホニル基でキル
基であり、Ｔはエチレン、トリメチレン又は２．２−ツ
メチルトリメチレンである。）、ヒドロキシメチルカル
ボニル基又はヒドロキシメチル基であり；Ｒ２及びＢ１
５が、同−又は異媛って水素原子又は０１〜Ｃ４のアル
キル基で９す；Ｂ４及びＢ５が水素原子であり；Ｂ６が
、水素原子又はメチル基であり；Ｒ７が、弗素原子、塩
素原子若しくは０１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されて
いてもよい０３〜Ｃ１ｏのアルキル基、０５〜Ｃ７のア
ルケニル基、０４〜Ｃ７のアルキニル基又は式−Ｄ−Ｒ
８を有する基（式中、Ｄが、単結合又は酸素原子若しく
は硫黄原子を含んでいてもよいＣ１〜Ｃ４のアルキレン
基であり　Ｂ８が、Ｃ４〜Ｃ４のアルキル基で置換され
ていてもよく、縮環してもよい０５〜Ｃ１゜のシクロア
ルキル基、０５〜Ｃ６のシクロアルケニル基又ｔｉｃ１
〜Ｃ４のアルキル基、０１〜Ｃ４のアルコキシ基、トリ
フルオロメチル基若しくはハロゲン原子で置換されてい
てもよいフェニル基である。）であり；Ａが、単結合、
弗素原子を含んでいてもよいＣ１〜Ｃ７の直鎖状アルキ
レン基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−又は−（ＣＨ２）ｐ−
Ｅ−（ＣＥ（２）、−を有する基（式中、ｐが、０乃至
３の整数であり、ｑが、１乃至３の整数であり、Ｅが、
酸素原子又は硫黄原子である。）であり；Ｂが、トラン
ス−゛ビニレン基であり；点線を含む結合が２位の二重
結合である化合物、 １０）　　Ｒ１が、゛カルボキシ基又は０１〜Ｃ３゜ア
ルコキシカルボニル基であり；Ｂ２及びＲ３が同−又は
異なって水素原子又は０１〜Ｃ４のアルキル基であり；
Ｂ４及びＲ５が水素原子であり；Ｒ６が、水素原子又は
メチル基でらり；Ｂ７が、Ｃ５〜Ｃ１ｏアルキル基、Ｃ
５〜Ｃ７のアルケニル基、Ｃ４〜Ｃ７のアルキニル基又
は式−Ｄ−Ｒ８を有する基（式中、Ｄが、単結合又は酸
素原子若しくは硫黄原子を含んでいてもよいＣ４〜Ｃ４
のアルキレン基であり、Ｒ８が、０５〜Ｃ６シクロアル
キル基又はメチル、トリフルオロメチル、メトキシで置
換されていてもよいフェニル基である。）であり、Ａが
単結合、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖状アルキレン基、又は−（Ｃ
Ｈ２）　−Ｅ−（ＣＨ２）ｑ−を有する基（式中、ｐが
Ｏ乃至３の整数であり、ｑが１乃至３の整数であり、Ｅ
が酸素原子である）であり、Ｂが、トランス−ビニレン
でア’）、点線を含む結合が、２位の二重結合である化
合物 をあげることができる。

本発明によって得られる前記一般式（１）を有する化合
物としては、例えば以下に記載する化合物をあげること
ができる。

１）　式（１）において、Ａが＋Ｇ２）、−又は−ＣＨ
２−０−ＣＨ２−であり、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素原
子であり、点線を含む結合が２位の二重結合である化合
物表　　１ 番号　ＲＩ　　　　　　Ｆ１２Ｆ１３Ｒ７ＢＩ　　Ｃｏ
□ＨＨＨ−ＣＨ２〜ＣＨ３−ＣＨ＝四−２＃　　　　　
ｔｔ　　ＩＩ　　−ＣＨ２へ灸Ｈ３−ＣＨ２ＣＨ２−３
ｔｔ　　　　　　　　ｔｔ　　　　ｐ　　　　　　ｔｔ
　　　　　−ｃＨ＝四−４／ｌ　　　　　　　　ｔｔ　
　　　ＩＩ　　　　　　　＃　　　　　　−ｃ＝＝ｃ−
５〃　　　・　　／ｌＣＨ３／／　　　　−ＣＨ＝■−
６＃　　　　　　ＣＨ３ｔｔ　　　　　ｔｔ　　　　　
　ｔｔ７ＣＯ２ＣＨ５ＨＨＩ　　　　　　ｌ／８ＣＨ２
ｏＨ〃〃〃〃 ９　　　　ＣＨＯＩＩ　　　　／／　　　　　　　ｔｌ
　　　　　　　　ｐ番号　ＲＩ　　　　　　Ｒ２Ｒ５Ｒ
７Ｂ１４　　　ｔｔ　　　　　　ｔｔ　　　ｔｔ　　　
＜Ｈ（＼ハＶ　５　　　〃１６　　　　ｔｔ　　　　　
　　　ｔｔ　　　　ｔｔ　　　　　　　　ｔｔ　　　　
　　　−Ｃ＝Ｃ−１７Ｃｏ２Ｃ６Ｈ，３ｔｔ　　　ｔｔ
　　　　　ｔｔ　　　　　−ｃＨ”ｃＨ−１８ＣＨ２０
Ｈｔｔ　　　ｔｔ　　　　　　ｐ　　　　　　　ｔｔ２
１　　“　　　“　”　−ＣＨ２７四、　〃２２　　Ｃ
Ｈ２０Ｈｔｔ　　　ｐ　　−ＣＨ２へ／’ＭχＨ，ｔｔ
Ｈ３ ２４ｐ　　　　　　　ｐ　　　ｔｔ　　　−ＣＨＡＪ′
％−／　３　　　〃２６　　　ｐ　　　　　　〃ＣＨ５ 〃　　　　　　　　　　　　　　〃 ２７　　　ＣＨＯ”　　　　Ｅ（“　　　　　　　　〃
２９　　　　り　　　　　　　　　ｔｔ　　　　　　ｔ
ｔ　　　　　−９ＣＨ５〃３０　　　　ｔｔ　　　　　
　　ｔｔ　　　　ｔｔ　　　　　　ｐ　　　　　　　−
Ｃ＝Ｃ−３１１ＩＩ　　　ＩＩ　　　スハシ”’ＣＨ３
−ＣＨ＝ＣＨ−３２ｔｔ　　　　　ＩＩ　　　ｐ’−Ｃ
Ｈ２Ａ７′−ＶＯＣＨ３ｔｔ？町 ３３　　　ｕ　　　　　〃ｔｔ　　　−ＣＨ（ｙ２Ｈ５
ｔｔ３５　　　ｔｔ　　　　　ＣＨＣＨ３ｔｔ　　　　
　　　　ｔ１３６　−Ｃ−ＣＨ２０ＨＨＨ／ｌ　　　　
　　　ｔｔ欠 ３７ＣＯ□ＨＨＥ（−ＣＨ２−ｙ’ｊ＞Ｂ２−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−３８ＣＨ２０Ｈｎ　　　ｔｔ　　　　　ｇ　　　　
　　　　ｇ３９　　Ｃ□Ｈｔｔ　　　ｔｔ、−ＣＨ２５
ｊ＼Ｈ３／／４０　　ｐ　　　　ｐ　　　ｔｔ　　　−
ＣＨ２ハＪ已ｃＨ５〃 ４１　　　　　ｐ　　　　　　　　ｔｔ　　　　　ｔｔ
　　　　　　　　ｐ　　　　　　　　　−Ｃ＝Ｃ−Ｈ２ ４２ｔｔ　　　　　ｔｔ　　　　ｔｔ　　　−ｃ／′−
７″ｃｉ３　　−ＣＨ＝ＣＨ−４３ｔｔ　　　　　　ｔ
ｔ　　　　Ｍｅ　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　　
ｐ４８　　　　ｔｔ　　　　　　ｐ　　　　ｔｔ　　　
　　　　ｕ　　　　　　　　−ＣＨ２ＣＨ２−５２ｔｔ
　　　　　　　　〃ＩＩ　　　　　　　／１　　　　　
　　−Ｃ＝Ｃ−５５−ＣＨｏ　　　　　　　／ｌ　　　
ＩＩ　　　　　　　／／　　　　　　　　　　　ｔｔ５
９　　　ＣＢ２ＣＨ２／／　　　／／　　　　　　　／
／　　　　　　　　　　　／／６２　　　“　　　　　
／／　　　ＣＨ３〃　　　　　　−ＣＨ＝ＣＨ−６３〃
ＣＨ２ｃＨ３，１“　　　　　　　　“６４ＣＨ２０Ｈ
ＨＨ／／　　　　　　　　　　ｐ６５　　　ＣＨＯｐ　
　　　　ｐ　　　　　　　　／／　　　　　　　　　　
ｔｔ６８ｔｔ　　　　　ｔｔ　　　　ｐ　　　　　　／
ｌ　　　　　　−ＣＨ２ＣＨ２−５９／／　　　　　　
ｔｔ　　　　ｔｔ　　　　　　　／／　　　　　　　−
Ｃ司−７０Ｃ０２ＣＨ５ｐ　　　　ｔｔ　　　　　　　
ｔｔ　　　　　　　　　ｐ７１　　Ｃ０２Ｈ／Ｉ　　、
ＣＨ３／／　　　　　　　−ＣＨ＝ＣＨ−７２ｔｔ　　
　　　ＣＨ３ｔｔ　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　
　　ｙ番号　Ｒ＋　　　　　　Ｒ２Ｒ５Ｒ７Ｒ７６ＣＯ
２ＣＨ３ＨＨｔｔ　　　　　　　　ｔｔ７７　　　Ｃ０
２Ｃ７Ｈ５／ｌ　　　　　／ｌ　　　　　　　／／　　
　　　　　　／／７８　Ｃ０２ＣＨ５＠　ｔｔ　　ｔｔ
　　　　ｕ　　　　／／７９　　　ＣＨ２０Ｈ＃　　　
　　／ｌ　　　　　　　／／　　　　　　　　ｔｔｓｏ
　　ＣＨ２００Ｈ２＜Ｚν　　〃〃〃８１　　　ＣＯＣ
Ｈ２０Ｈｕ　　　　　ｔｔ　　　　　　　ｎ　　　　　
　　　ｔｔ８２　　　　ＣＨＯｔｔ　　　　　ｔｔ　　
　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　ｔｔＬＪＬ、ニア
１’１５ 番号　　　Ｒ４，Ｒ２Ｆ１３　　　　　Ｒ７Ｂｓｓ　　
−ＣＯＮＨ３Ｏ２ｃＥ−ｉ３　ｕ　　　ｔｔ　　　　　
　　／ｌ　　　　　　　　ｔｔ９２　　ＣＨ２０Ｅ（ｔ
ｔ　　　　ｔｔ　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　
ｐＨ３ ９３ＣＯ２Ｈ／／　　　／／−％＝−Ｊ／／９４ＣＨ２
０Ｈｔｔ　　　　ｔｔ　　　　　　　ｐ　　　　　　　
　　／／９６　　　ｔｔ　　　　　　ｕ　　　ｕ　　　
　　　ｔｔ　　　　　−ＣＨ２ＣＨ２一番号　　ｐ　Ｉ
　　　　　Ｒ２ＲＳ　　　　　Ｒ７Ｒ９７Ｃ０２ＨＨＨ
−ＣＨ２＾＝−ＣＨｓ　　　−ＣＨ＝ＣＨ−９９／／　
　　　　　ｐ　　　　ｔｔ　　　　　　　／Ｉ　　　　
　　　−Ｃ＝Ｃ−１００／Ｉ　　　　　　ｓ　　　ＣＨ
３／／　　　　　　　−Ｃ）１−ＣＨ−１０１Ｃ０２Ｃ
Ｅ（５ｔｔ　　　　Ｈ，ｔｔ　　　　　　　　　　ｔｔ
１０５　　　　／／　　　　　　　ｔｔ　　　ＣＨｓ　
　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　　ｔｔｌｏＢ　　　
　ｔｔ　　　　　　　／／　　　　　ｕ　　　　　　　
　ｕ　　　　　　　　−Ｃ＝Ｃ−１１０　　　ＣＯ２Ｃ
Ｈ３／／　　　　　Ｈｔｔ　　　　　　　　　ｐｌｌｌ
　　　ＣＨ２０Ｈｔｔ　　　　　ｐ　　　　　　　ｔｔ
　　　　　　　　　ｎ１１４　　　Ｃ０２ＣＨ５ｔｔ　
　　　　ｓ　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　　ｐ
１１５Ｃ○２Ｅ（ｔｔ’　　　　ｐ　　　　　　ＩＩ　
　　　　　　−ＣＨ２ＣＨ２−１１６ｔｔ　　　　　　
　ｔｔ　　　　　ｔｔ　　　　　　ｔｌ　　　　　　　
−ＣミＣ−１１７ＩＩ　　　　　　　ｔｌ　　　Ｃ２Ｈ
５ｔｌ　　　　　　　−ＣＨ＜Ｈ１１８／／　　　　　
　　ＣＨ３ＣＨ３／／　　　　　　　　　ｌ１１１９Ｃ
Ｈ２０ＨＨＨｔｔ　　　　　　　　　ｎ１２０　　　Ｃ
ＯＣＨ２０Ｈｔｔ　　　　　ｔｔ　　　　　　　ｐ　　
　　　　　　　ｔｔ１２３　　　　ＩＩ　　　　　　　
　ＩＩ　　　　　／／　　　　　　　／’　　　　　　
　−ＣＨ２ＣＨ２−１２４ｐ　　　　　　　　ｔｔ　　
　　　ｔｔ　　　　　　　ｔｔ’　　　　　　−Ｃ＝ｔ
Ｃ−１２５ＣＨ２０）１　　　　／／　　　　　＃　　
　　　　／／　　　　　　−ＣＨ＝ＣＨ−１２６ＣＯＣ
Ｈ２０Ｈ／／　　　　　ｔｌ　　　　　　ｔｌ　　　　
　　　　　／１１２７　　　　ＣＨＯｔｔ　　　　　ｐ
　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　ｔｔ１２９　　
　ＣＨ２０Ｈｔｔ　　　　　ｔｔ　　　　　　　ＩＩ　
　　　　　　　　、ＩＦ１３１　　　　　ｔｔ　　　　
　　　ｔｔ　　　　ＣＨｓ　　　　　　ＩＩ　　　　　
　　　　ｎ１３２　　　Ｃ０２ＣＨ４ｔｌ　　　　Ｈｐ
　　　　　　　　ｎ１３５　　　　ｔｔ　　　　　　　
〃ＣＨ３ｔｔ　　　　　　　　ｔｔ１３６　　　Ｃ０２
ＣＨ５ｔｔ　　　　Ｈｔｔ　　　　　　　　ｔｔ１３９
　　　　／／　　　　　　　　ｕ　　　　ｔｔ　　　　
　　　ｔｌ　　　　　　−Ｃ＝ＥＣ−１４０ＣＨ２０Ｈ
ｐ　　　　〃　　　　　　ｔｔ　　　　　　−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−Ｌ １４３　　　　ｔｔ　　　　　　　　ｔｔ　　　　ｔｔ
　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　−ｃ＝ｃ　−１４４
ｔｔ　　　　　　Ｃ０２ＣＨ４ｔｔ　　　　　　−ＣＨ
＝ＣＨ一番号　　ＲＩＲ２Ｒ３Ｂ７　　　　　　Ｂ１４
５Ｃ○２ＣＨ３’ｒｌ、　　Ｈ−ＣＨ２−罎　−ＣＨ＝
ＣＨ（−１４６Ｃ０２Ｈｔｔ　　ｔｔ−ｃｓ２−ＯｏＦ
ｔｔ１５１　　ｔｔ　　　　ｓ　　ｔｔ　　　−ＣＨ２
−３＠　　　〃２）式（１）において、Ａが式−（ＣＨ
２）３−又は−ＣＨ２−０−ＣＨ２−であり、Ｒ４及び
Ｂ５がテトラヒドロピラン−２−イル基であり、Ｂ６が
水素原子であり、点線を含む結合が２位の二重結合であ
る化合物 表　　２ １５２　　Ｃ０２ＨＨＨ−ＣＨ２−”ｙ”Ｂ３−ＣＥ（
＝ＣＨ−１５３ｔｌ　　　　　　　ｔｒ　　　　ｔｔ　
　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　−ｃミＣ−１５５
ＣＨ２０Ｈｔｔ　ｔｔ　　ｔｔ　　　ｔｔ１５７　Ｃ０
２Ｈｐ　ｓ　−ＣＨ／′−Ｓ／′−ｃＨｓ　　ｔｔ〃 １５８　ＣＯ２ＣＨ３／／　ｔｔ　　　　　ｔｔ１５９
　ＣＨ２０Ｈｔｔ　ｐ　　ｐ　　　ｔｔ番号　　　Ｒ’
　　　　Ｒ２Ｒ３Ｆｔ７　　　　　　　Ｂ１６２　　Ｃ
Ｈ２０Ｈ／／　　　／／　　　　　　ｔｔ　　　　　　
　　　ｔｔ１６５　　−ＣＨ２０Ｈｔｌ　　　ｔｌ　　
　　　　ｓ　　　　　　　　ｔｔ１６７　　　ＣＨ２０
Ｈ／／　　　／／　　　　　　ｔｌ　　　　　　　　　
／／１７１　　　　ｔｔ　　　　　　　ｌ　　ＣＨ３／
／　　　　　　　−ＣＨ＝ＣＨ一番号　　Ｒ１Ｒ２Ｒ５
Ｂ１７　　　　　　Ｂ１７３　　　ＣＨ２０Ｈｐ　　　
ｔｔ　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　　ｔｔ１７
６　　　ＣＥ（２０Ｈｔｔ　　　　Ｉ／　　　　　　　
ｐ、　　　　　　　　　　ｐ１７８ＣＨ２０Ｈｎ　　　
　ｎ　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　＃３）式（
１）において、Ａが−（ＣＨ２）３−又は−ＣＨ２−０
−ＣＥ（２−、テあり、Ｒ４及びＲ５カ水素厘子であり
　Ｂ６がメチル基であり、点線を含む結合が２位の二重
結合である化合物 表　　３ １８３　　Ｃ０２ＨＨＨ−ＣＨ２ハレ”ｃＨ３−ＣＨ−
ＣＨ−１８４／／　　ｔｔ　ｔｔ　　ｐ　　−ｃヨＣ−
１９０　　　　ｕ　　　　　　ＨＨ／／　　　　　　　
−Ｃ＝＝Ｃ−１９１ｔｔ　　　　　　　ｔｔ　　　　　
ｔｔ　　　　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　−ＣＨ２
ＣＨ２−１９２Ｃ○２　Ｃ）（５／／　　　　／／　　
　　　　　／／　　　　　　　−１＝ＣＨ−１９３０Ｈ
）ＯＨ，ｔｔ　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　　　　
　　ｔｔ　　　　　　　　　　　　　　ｔｔ１９５　　
　ＣＨ２０Ｈ／／　　　　、＃　　　　　　　　／ｌ　
　　　　　　　　／１４）式（１）において、Ｆｔｌ−
Ａ−が、ヒドロキシメチル基であり　Ｂ６が水素原子で
あり、点線を含む結合が２位の二重結合である化合物 衣　　４ 番号　Ｒ２Ｒ”Ｒ４ＢＳ　　　　　　Ｒ７Ｂ１９８　／
／　ＣＨ３ｔｔ　　ｎ　　　ｔｔ　　ｔｔ２０４　／／
　／／　ＣＯＣＨ３Ｃ０ＣＨ４ｐ　　ｕ番号　Ｆ１２Ｒ
５Ｒ４Ｂ５　　　　１Ｒ７Ｂ’１Ｑ８ｕｔｔ　　　　　
Ｈ，Ｈｔｔ　　　　　　　　　、ｔｔ２１０　　ＣＨ３
ＯＨ５／／　　　　　ＩＩ　　　　　　　ＩＩ　　　　
　　　　−ＣＥ（＝ＣＨ−２１３ｕ　　　ｕ　　　　　
ｔｔ　　　　　　ｔｔ　　　　　　　　ｔｔ　　　　　
　　　　−Ｃ＝Ｃ−２１５ｎ　　ｎ　　ｔｔ　　　ｕ　
　　−（１）　　　　　ｔｔ２１６　　ｐ　　／／　　
　ｔｔ　　　／ｌ　　−ＣＨ２−０＠　　　　ｔｔ２１
７　／／　　／／　　　／／　　　／／　　−ＣＨ２Ｃ
Ｈ２＠　　　／／表中、ｔ−Ｂｕは、ｔ−ブチル基を示
す。

又、表１−表３ｉておいて、Ｒ１がカルヴキシ基である
化合物については、そのナトリウム塩又はカリウム塩を
あげることができる。

本発明に係る化合物（Ｉ）は、以下の方法に従って製造
することができる。

Ａ法 （ＩＩ）　　　　　　　　　　　　　　　（ｎｌ）（Ｉ
Ｖ） （Ｖ）　　　　　　　　　　　　　　　（Ｖｌ）（Ｉａ
） Ｂ法 （・ （Ｍ’）　　　　　　　　　　　　（■）（ＭＤ （Ｉｂ） υ （■“）（■） （Ｘ） （Ｉｂ’） （ＩＩ）　　　　　　　　　　　　　　（ＸＩ）（Ｘｌ
ｌ） （ＸＩ） （ト）ｙ）　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉｂ
つＣ法 （Ｉａ’） （ＸＶ） （ＸＶＩ）（Ｉｏ） Ｄ法 α■　　　　　　　　　　　　　　α■）６Ｒ１１０Ｈ （ＸＤＯ （ＸＸ）　　　　　　　　　　　　　　（Ｉｄ）上記式
中、Ｒ’　、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ’、Ｒ５，Ｒ’、Ｒ’、Ｂ
、Ｅ＋ｎ＋ｐ＋ｑ及び点線を含む結合は、前述したもの
と同意４′ 義を示し、Ｒは、水酸基の保護基を示し、Ｒ７′は、Ｒ
７に含まれる水酸基及びアシル基が保護されている以外
Ｒ７と同意義を示し、Ｒ１０は、水素原子又はカルボキ
シ基の保護基を示し、Ｈｌｌ及びＲ１２は、同−又は異
なって水酸基の保護基を示し、Ｒ１５は、複素環、置換
メチル、アラルキル若しくはトリ置換シリルで保護され
たヒドロキシメチル基又はテトラゾリル基を示し、Ｒ１
３′は、複素環、置換メチル、アラルキル若しくはトリ
置換シリルで保護てれたヒドロキシメチル基を示し、キ
シ基又はテトラゾリル基を示し、Ｒ１６は、Ｃ４−Ｃ４
のアルキル基又はアリール基を示し、Ｒｊ７゛は、保護
されていてもよいカルボキシ基、保護されていてもよい
ヒドロキシメチル基、保護されたホルミル基又はテトラ
ゾリル基を示し、Ａ′は、単結合又は弗素原子を含んで
いてもよいＣ１−Ｃ，の直鎖状アルキレン基を示し、Ｂ
′は、ビニレン基又はエチニレン基を示し、Ｗは、硫黄
原子又はゼレン原子を示す。

Ａ法は、化合物（１）において、Ａが、単結合又は弗素
原子を含んでいてもよいＣ，−Ｃ，の直鎖状アルキレン
基である化合物（Ｉａ）を製造する方法である。

第１工程は、一般式（ＩＩ［）を有する化合物を製°造
する工程で、不活性溶剤中、化合物（ＩＩ）を塩基と処
理し、カルバニオンを発生させた後、一般式 ％式％（［） （式中、Ｒ１３及びＡ′は、前述したものと同意義を示
し、又は、塩素原子、臭素原子又は沃素原子のようなハ
ロダン原子を示す。）を有する化合物と反応させること
に”よって達成される。

なお、本工程の原料化合物（ＩＩ）は、公知化合物であ
るか、公知の方法に従って容易に製造される（ヨーロッ
パ特許公開１３６７７９号公報参照）。

使用される塩基としては、例えば、ジエチルアミノリチ
ウム、ジ−インブチルアミノリチウム、インブチル−シ
クロへキシルアミノリチウム、ジシクロへキシルアミノ
リチウムのようなジアルキル（Ｃ，−Ｃ４のアルキル、
シクロアルキルを含む）アミノリチウムをあげることが
できるが、好適には、ジアルキルアミノリチウムである
。又、Ｒ１０が水素原子である場合には、好適には２当
量以上の塩基を使用する。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適には、エーテル、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類、ヘキサメチルホスホリル
トリアミドのようなリン酸アミド類又はそれらの混合溶
剤をあげることができる。

反応温度は、カルバニオンを発生させる工程では、−１
００℃乃至−２０℃であシ、化合物（ＸＸ［）と反応さ
せる工程では、−８０℃乃至室温であシ、反応に要する
時間は、前者の工程では、５分間乃至３０分間であり、
後者の工程では、１５分間乃至５時間である。

第２工程は、一般式（ＩＶ）を有するアルコール体を製
造する工程で、不活性溶剤中、化合物（至）を還元剤又
は／及び一般式 ％式％） ［［） （式中、又は前述したものと同意義を示し、鰐は、Ｃ，
−０４のアルキル基を示し、ｒは、２乃至６の整数を示
す。）を有するグＩＪ　ニヤール試薬若しくはアルキル
リチウムと処理することによって達成される。

化合物（Ｉ［［）を還元剤と処理することにより、Ｒ２
及びＲ３が水素原子である化合物が得られ、化合物（Ｉ
Ｉ）を約当モルの化合物（ＸＸ［Ｄ又は化合物（Ｗ′）
と処理することによって、特に好ましくは、Ｒ１０が水
素原子である化合物を化合物（ＸＸＩＩ’）と処理し、
得られたケトン体を、反応中又は単゛離して、還元剤と
処理することによって、Ｒ２及びＲ３の一方がＣ４−０
４のアルキル基で６Ｄ、他方が水素原子である化合物が
得られ、上記ケトン体を化合物（罵又は化合物（ＸＸＩ
Ｉ’）と処理することによって、Ｒ２及びＲ３が同−又
は異なってＣ１−０４のアルキル基である化合物が得ら
れる。又、化合物（Ｉ［［）を２当量以上の化合物（Ｘ
Ｘ［）又は化合物（ＸＸ［ｌ’）と処理することによっ
て、Ｒ２及びＲ３が、同一のＣ１−Ｃ４のアルキル基で
ある化合物が得られる。さらに、化合物（Ｉ［［）を化
合物（ＸＸＩ［Ｉ）と処理することによって、Ｒ２及び
Ｒ３が、それらと結合している炭素原子と共に形成する
Ｃ３−Ｃ，員環のシクロアルキル基である化合物が得ら
れる。

使用される還元剤としては、カルボキシ基又はアルコキ
シカルボニル基ヲヒドロキシメチル基に還元する試薬な
ら特に制限されないが、好適には、水素化リチウムアル
ミニウム、水素化ホウ素リチウム、ジイソブチルアルミ
ニウム水素、ジボランのような水素化金属又は水素化ボ
ロン化合物をあげることができる。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しないもの
なら特に制限されないが、好適には、〒−子ル　子トラ
ピト００７ランー　、９オキサンのようなエーテル類で
ある。

反応温度は、−２０℃乃至室温でおシ、反応に要する時
間は、３０分間乃至５時間である。

反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を水にあけ、必要に応
じて中和した後、水不混和性有機溶剤で抽出し、有機溶
剤を留去することによって得ることができる。さらに、
必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラフィ°
−１再結晶法等によシさらに精製することもできる。

第３工程は、所望に応じて、Ｒ１３に含まれる水酸基の
保護基を他の水酸基の保護基に変換する工程で、以下の
４つの反応によって達成される。

（１）　　化合物（ＩＶ）の水酸基（Ｒ２，Ｒ３が結合
している炭素原子に結合している）の保護化反応 （２）Ｒに含まれる水酸基の保護基の除去反応 （３）　　（２）の反応で得られた水酸基を所望の保護
基（Ｒ１４に含まれる保護基）で保護する反応及び （４）　　（１）の反応で保護された水酸基の脱保護化
反応。

本工程を円滑に行うためには、脱保護化反応の条件を考
慮して、水酸基の保護基を選択する必要がある。

Ｒ１３に含まれる水酸基の保護基が、アラルキル基の場
合には、（１）の反応で付される保護基は、複素環基、
置換分を有するメチル基又はトリ置換シリル基（好適に
は、ジメチル−１−ブチルシリル基又はジフェニル−１
−ブチルシリル基であシ、特に好適には、ジフェニル−
１−ブチルシリル基である。）等であシ、（１）の保護
化反応後、還元条件下で、アラルキル基を除去する（２
）の反応を行い、得られた水酸基を所望の保護基で保護
する（３）の反応を行う。この際、（１）の反応で付さ
れる保護基が、複素環基又は置換分を有するメチル基の
ような酸性条件下で除去される保護基である場合には、
所望の保護基は、アシル基又はジメチル−１−ブチルシ
リル基若しくはジフェニル−１−ブチルシリル基であす
、（１）の反応で使用される保護基が、トリ置換シリル
基のような酸性、中性又は塩基性条件下で除去される保
護基である場合には、所望の保護基は、アシル基、複素
環基又は置換分を有するメチル基である。

Ｒ１３に含まれる水酸基の保護基が、トリ置換シリル基
の場合には、（１）の反応で付される保護基は、アシル
基、複素環基、置換分を有するメチル基又はアラルキル
基であシ、（１）の保護化反応後、適宜、酸性、中性又
は塩基性条件で、シリル基を除去する（２）の反応を行
い、得られた水酸基を所望の保護基で保護する（３）の
反応を行う。

この際、（１）の反応で付される保護基が、アシルのよ
うな塩基性条件下で除去される保護基である場合は、所
望の保護基は、複素環基、置換分を有するメチル基又は
アラルキル基であυ、（１）の反応で付される保護基が
、複素環基１．置換基を有するメチルのような酸性条件
下で除去される保護基である場合には、所望の保護基は
、アシル基又はアラルキル基であり、（１）の反応で付
される保護基が、アラルキル基のような還元条件下で除
去される保護基である場合、所望の保護基は、アシル基
、複素環基又は置換分を有するメチル基である。

本工程における水酸基の保護化反応及び脱保護化反応は
、後述するＤ法第２２工程及びへ法第５工程の相当する
反応と同様に行われる。

又、（２）又は（４）メ脱保護化反応において、Ｈｌｉ
。

応で適宜保護化することもできる。

第４工程は、一般式ＣＭ）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（Ｖ）の水酸基をスルホニル化した後又は
ノ・ログンで置換した後、塩基と処理することによって
達成される。

スルホニル化反応は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化
合物（Ｖ）をスルホニルノ・ライドと反応させることに
よって行われる。

使用されるスルホニルノ・ライドは、例えば、メタンス
ルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリド、ベンゼ
ンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリ
ドのようなＣ１−０４の７／Ｉ／カン又はアリールスル
ホニルハライドであり、好適には、メタンスルホニルク
ロリドである。又、使用される塩基としては、好適には
トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリ
ジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリンのような有機アミンで
ある。

水酸基のハロダン置換反応は、不活性溶剤中、化合物（
Ｖ）をチオニルクロリド、三臭化リンのようなハロゲン
化硫黄若しくはリン化合物又はホスフインーテトラハ、
ログノ炭素と反応させることによって行われる。

使用されるホスフィンとしては、例えば、トリメチルホ
スフィン、トリｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン、トリトリルホスフィンのようなトリーアルキ
ル又はトリアリールホスフィンであるが、好適には、ト
リアリールホスフィンである。又、使用されるテトラノ
・ロケ゛ノ炭素は、四塩化炭素、四臭化炭素又は四沃化
炭素であり、好適には四塩化炭素又は四臭化炭素である
。

両反応に使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ
特に限定されないが、例えばｎ−ヘキサン、シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、’１．２−ジク
ロロエタンのような・・ログン化炭化水素類：エーテル
、テトラヒドロフラン、１．２−ジメトキシエタン、ジ
オキサンのようなエーテル類；又はアセトン、メチルエ
チルケトンのようなケトン類をあげることができるが、
好適にはスルホニルハライドとの反応ではハロゲン化炭
化水素類であシ、テトラハロゲノ炭素との反応ではエー
テル類である。

反応温度は通常−３０℃乃至５０℃でｓｂ、反応に要す
る時間は通常１０分間乃至１０時間である。

スルホニル化又はハロゲン置換された化合物と塩基との
反応は、不活性溶剤の存在下又は不存在下に行なわれる
。・ 使用される塩基としては、例えばトリエチルアミン、エ
チルジイソフロビルアミン、Ｎ、Ｎ　−ジメチルアニリ
ン、４−　（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、１，
５−ジアゾビシクロ（４，３，０：１ノネン−５（ＤＢ
Ｎ）、１，８−ジアゾビシクロ［：５．４．０］ウンデ
セン−７（ＤＢＵ）のような第三級アミン；水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カル金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩：又はナトリウムメトキシド、
ナトリウムエト犀シト、カリウムエトキシド、ナトリウ
ムｔ−ブトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウ
ムｔ−ベントキシドのようなアルカリ金属アルコキシド
をあげることができるが、好適には第三級アミンである
。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール、
ｎ−７’ロノぐノール、ｔ−ブタノールのようなアルコ
ール類：ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、べ、ンゼン、
トルエン、キシレンのような炭化水素類；エーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのよ
うなエーテル類：又はヘキサメチルホスホリルトリアミ
ドのようなリン酸トリアミド類をあげることができるが
、好適にはエーテル類又はリン酸トリアミド類である。

さらに、上記第三級アミンを過剰に使用して、溶剤と兼
用することも好ましい。又、本反応は沃化ナトリウムの
ようなアルカリ金属ハライドを添加することにより好適
に行われる。

反応温度は通常０℃乃至８０℃でちり、反応に要する時
間は通常１０分間乃至５時間である。

各反応終了後、各反応の目的化合物は常法に従って反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物を氷水にあ
け、必要に応じて、中和した後、水不混和性有機溶剤で
抽出し、溶剤を留去することによって得ることができる
。さらに必要なら、常法、例えばシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー、再結Ａ決等によって精Ｓ！！＋ふこと
もできる。

第５工程は、所望に応じて行う工程で、Ｒ１４に含まれ
る水酸基の保護基除去反応；得られたヒドロキシメチル
基をホルミル基に酸化する反応（保護する反応を含む）
；ヒドロキシメチル基をカルがキシ基に酸化する反応：
得られたカルボキシ若をエステル化する反応；カルボキ
シ若しくはエステルを置換されていてもよいカルバモイ
ル基に変換する反応：　Ｒ１１、Ｒ１２及びン又はＲ７
′に含まれる水酸基の保護基を除去する反応；Ｒ７′に
含まれるアシル基等の保護基を除去する反応；並びに力
／Ｌ／ケキシ基をヒドロキシメチルカルコニル基に変換
する反応（水酸基の保護化反応を含む）を含み、これら
の反応は、適宜順序を変えて行うことができる。

水酸基の保護基が低級脂肪族若しくは芳香族アシル基の
場合には、その除去は通常の加水分解反応によって行な
われる。使用される酸または塩基としては一般の加水分
解反応に使用される酸または塩基が特に限定なく使用さ
れるが、通常は例えば水酸化リチウム、水酸化す）　Ｉ
Ｊウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バ
リウムのようなアルカリ金属およびアルカリ土類金属の
水酸化物を用いて塩基性条件下で好適に行なわれる。使
用される溶剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が
特に限定なく用いられ、例えばメタノール、エタノール
、ｎ−プロパツール、イソプロピルアルコールのような
アルコール類；エチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジ
メチルスルホキシドのようなジアルキルスルホキシド類
およびこれらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげること
ができる。

反応温度には特に限定はなく、通常は室温付近乃至溶剤
の還流温度で行なわれる。反応時間は反応温度などによ
って異なるが、通常は１乃至１２時間である。

水酸基の保護基がアラルキル基の場合には相当する化合
物を不活性溶剤中還元剤と接触することによって達成さ
れる。

使用される還元剤としては、リチウム、ナトリウム、カ
リウムのようなアルカリ金属又は硫化ナトリウム若しく
は硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物をあげるこ
とができるが、好適にはアルカリ金属である。アルカリ
金属との反応は液体アンモニア又は液体アンモニアとエ
ーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類との燻
合溶剤中で好適に行われ、アルカリ金属硫化物との反応
はメタノール、エタノールのようなアルコール類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又はこ
れら有機溶剤と水の混合溶剤中で好適に行われる。

反応温度はアルカリ金属との反応では一７８℃乃至−２
０℃であシ、アルカリ金属硫化物との反応では０℃乃至
１００℃であシ、反応に要する時間は通常２０分間乃至
６時間である。

さらに保護基がｐ−メトキシベンジル基の場合にはセリ
ウムアンモニウノｔｓｈｖｓｈと含水アセトン中室温付
近で処理することによっても除去され、又は、ジクロロ
ジシアノキノン、過硫酸す）　ＩＪウム等の酸化剤によ
っても除去される。

水酸基の保護基が複素環基、アルコキシ若しくはアラル
キルオキシを置換分として有するメチル基、１−アルコ
キシエチル基又はトリチル基の場合は酸と接触させるこ
とにより容易に達成される。使用される酸としては例え
ばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸
、シュウ酸、マロン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホンｉ、ｐ−）ルエンスルホン酸、カンファースルホ
ン酸などの有機酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸
が好適に使用される。

反応は溶剤の存在下または不存在下で実施されるが、反
応を円滑に行なうには溶剤を使用する方が好ましく、使
用される溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定
はなく例えば水；メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン々どのエーテ
ル類；アセトン、メチルエチルケトンのようなケＬン栢
→奔け？＋−１−ちの方墳溶剤と水唱の混合溶剤が好適
に使用される。反応温度には特に限定はなく室温乃至溶
剤の還流温度で行なわれる。

反応に要する時間は３０分間乃至１０時間であこの際、
Ｒ７′に含まれるアシル基の保護基が、Ｒ９及びＴは前
述したものと同意義を示す。）である場合には同時に除
去される。

水酸基の保護基がトリ低級アルキル若しくはジアリール
低級アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩基
を含有する水と接触させることによシ容易に達成される
。酸または塩基を含有する水を使用する場合に含有され
る酸または塩基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭
化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウムなどの’フルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の水酸化物：炭酸カリウム、炭酸カルシ
ウムなどのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸
塩のような塩基が特に限定なく使用される。反応は溶剤
として水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではない。他
の溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類；メタノール、エタノールな
どのアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤が使用
さ°れる。

反応温度には特に限定はないが通常は室温で好適に行な
われる。反応に要する時間は３０分間乃至５時間でちる
。又保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基若しくはジフ
ェニル−ｔ−ブチルシリル基の場合にはテトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類の存在下フッ化テ
トラブチルアンモニウムで処理することによっても達成
される。

反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の目的化合
物は常法に従って反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、適宜溶剤を減圧で留去するか、留去しないで
反応混合物を氷水にあけ必要に応じて中和°して、次い
で適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を水洗
し乾燥した後、抽出液より溶剤を留去することによって
得られる。

Ｒ７′に含まれる水酸基の保護基、Ｒ１１及びＲ１２が
同一の反応条件で除去される保護基の場合には、上記の
保護基の除去反応によシ同時に除去される。又、保護基
を適宜選択するととにより、選択的に脱保護することも
できる。

ｉドロキシメチル基をホルミル基に変換する反応は１級
アルコールをアルデヒドに酸化する通常の方法に従って
行われる。この際ＲＮ　、　Ｒ１２。

は水酸基の保護基であること及びＲ７′に含まれる水酸
基は保護されていることが必要である。

使用される酸化剤としては例えば無水クロム酸、無水ク
ロム酸−ピリジン錯塩（Ｃｏｌｌｉｎｓ試薬）、無水ク
ロム酸−濃硫酸−水（Ｊｏｎｅｓ試薬）、重クロム酸ナ
トリウム、重クロム酸カリウムなどのクロム酸類：Ｎ−
ブロムアセトアミド、Ｎ−ブロムスクシンイミド、Ｎ−
ブロムフタルイミド、Ｎ−１０ルーｐ−）ルエンスルホ
ンアミト、Ｎ−クロルベンゼンスルホンアミドなどの有
機活性ハロゲン化合物ニアルミニウム−ｔｅｒｔ−ブト
キシド、アルミニウムイソプロポキシドなどのアルミニ
ウムアルコキシド類；ジメチルスルホキシド−ジシクロ
カルボジイミド；ピリジン−無水硫酸などが好適に用い
られる。

ド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、アセト・ン、メチルエチルケトンの
ようなケトン類又はジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類をあげることができる。

反応温度は０℃乃至室温であり、反応に要する時間は通
常３０分間乃至３時間である。

反応終了後、目的のホルミル化合物は常法に従って反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、不溶物が存
在する場合には戸別して、氷水にあけ、適宜中和した後
、水不混和匹有機溶剤で抽出し、溶剤を留去することに
よって得ることができる。

さらに、必要ならホルミル基を常法に従ってアセタール
又はチオアセタール保護基に変換することができる。例
えば、ホルミル体を不活性溶剤中（例えばエーテルのよ
うなエーテル類）、相当するチオール又はアルコール類
とｐ−ｉルエンスルホン酸、ボロントリフルオライドの
ような酸の存在下に室温付近で、３０分間乃至５時間反
応させることによって達成される。又アセタール交換反
応によっても達成される。

ヒドロキシメチル基をカルボキシ基に変換する反応は第
１級アルコールをカルボン酸に酸化する通常の方法に従
って行われる。この際、Ｒ１１゜Ｒは水酸基の保護基で
あること及びＲ７′に含まれる水酸基が保護されている
ことが必要である。

使用される酸化剤としては例えば無水クロム酸−濃硫酸
−水（Ｊｏｎｅｓ試薬）、無水クロム酸、過マンガン酸
カリウム−水酸化ナトリウム若しくは炭酸ナトリウム、
酸化銀、重クロム酸カリウム−硫酸等をあげることがで
きる。

反応は通常アセトンのようなケトン類、水若しくは水と
メタノール、エタノールのようなアルコールの混合溶剤
又は水とぎリジンの混合浴゛剤中で行われる。

反応温度は一３０℃乃至１００℃であシ、反応に要する
時間は通常３０分間乃至５０時藺であるＯ 又はホルミル化合物を原料として、本反応を行っても、
カルボキシ化合物を得ることができる。

なお、Ｊｏｎｅｓ試薬の場合には試薬の量及び反応条件
を調節することによって、アルコールからアルデヒド又
はアルコールからカルボン酸を選択的に得ることもでき
る。

反応終了後、目的のカルボキシ化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応混合物を氷水にあ
け、溶液がアルカリの場合には、希酸で酸性としだ後、
水不混和性有機溶液で抽出し、溶剤を留去することによ
って得ることができる。

カルボキシ基をエステル化する反応は溶剤の存在下また
は不存在下でエステル化剤と接触させることによって行
なわれる。使用されるエステル化剤としては、通常のカ
ル？キシル基をアルコキシカル？ニル基に変換する際に
使用されるエステル化剤が特に限定なく用いられる。使
用されるエステル化剤としては、例えばジアゾエタン、
ジアゾエタン、ジアゾ−ｎ−プロノぐン、ジアゾインプ
ロパン、ジアゾ−ｎ−ブタンなどのジアゾアル、カン類
；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプ
ロピルアルコール、ｎ−ブタノールなどのエステル基を
形成するアルコール類と塩酸、臭化水素酸若しくは硫酸
などの鉱酸またはメタンスルホン酸、ベンゼンス＃ホｙ
酸若Ｌ＜＋！ｐ　−）ルエンスルホン酸などの有機酸；
臭化メチル、臭化エチルのような低級アルキルハライド
と水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム
のような塩基が好適に用いられる。ジアゾアルカン類を
用いる場合は反応は溶剤の存在下で好適に行なわれる。

使用される溶剤としては本反応に関与しなげれば特に限
定はなく例えばエチルエーテル、ジオキサンなどのエー
テル類が好適である。反応温度には限定はないが副反応
を抑え且つジアゾアルカン類の分解を防ぐため比較的低
温で行なうのが望ましく通常は水冷下で好適に行なわｉ
る。

酸の存在下でアルコール類を用いる場合は通常溶剤とし
て過剰のアルコール類が好適に使用される。反応温度は
特に限定はないが室温乃至使用されるアルコール類の還
流温度付近で好適に行なわれる。反応時間は主に反応温
度、使用されるアルコール類の種類によって異なるが約
１時間乃至２日間である。

又、カルボン酸のナトリウムの塩をベンジルプロミド、
ｐ−メトキシベンジルクロリド、フェナシルプロミド、
ベンツヒドリルクロリドのようなハライドと塩基、例え
ばトリエチルアミン、ピリジン、４−　（Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミン）ピリジンの存在下、常法に従って処理する
ことによって相当するアラルキル、フェナシル又はベン
ツヒドリルエステルが製造され、又カルボン酸をチオニ
ルクロリド、五塩化リン等のハロゲン化剤若しくはピバ
ロイルクロリドのような酸ノ・ライドと常法に従って処
理し、相当する酸ハライド、酸無水物のような反応活性
体に誘導した後、不活性溶剤中（例えば、エーテルのよ
うなエーテル類）、塩基の存在下（例えば、トリエチル
アミン、ＤＢＵのような有機アミン類）、置換されてい
てもよいフェノールと室温付近で、３０分間乃至３時間
反、応させることによって、相当スるフェニルエステル
が製造される。

反応終了後、エステル化反応の目的化合物は常法に従っ
て反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反応
混合物よシ溶剤を留去することによって、さらに必要に
応じて生成物を有機溶剤に溶解し、有機溶剤層を重炭酸
す）　ＩＪウム水溶液あるいは炭酸す）　ＩＪウム水溶
液などの炭酸アルカリ水溶液を用いて洗浄し乾燥した後
、有機溶剤層より溶剤を留去することによって得られる
。

エステルを置換されてもよいカルバモイル基に変換する
反応は溶剤の存在下でアミン化合物と接触させることに
よって行われる。使用されるアミン化合物としてはエス
テル基をアミド化する際使用されるものなら特に限定さ
れない。

使用されるアミン化合物としては、例えばナンモニア又
はメチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、
インフロビルアミン、ｎ−ブチルアミン、アニリン、ｐ
−メチルアニリン、ジメチルアミン、メチルエチルアミ
ン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチル
アニリン、Ｎ−メチル−ｍ−メチルアニリンのような１
級若しくは２級アミンをあげることができる。使用され
る溶剤は反応に関与し々ければ特に限定されないが、例
えば水又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類をあげることができる。

反応は通常０℃乃至１００℃で行なわれ、反応に要する
時間は１時間乃至２４時間である。

カルボキシ基をＮ−７シルカルバモイル基に変換する反
応は不活性溶剤中、アセチルイソシアネート、トリフル
オロアセチルイソシアネート、ベンゾイルイソシアネー
トのようなアシルインシアネートと接触させることによ
って行われる。使用される溶剤は、例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような炭化水素類又は五−チル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類である。反応温度は通常室温であり、反応に要する時
間は３０分間乃至１０時間である。

カルボキシ基をＮ−スルホニルカルバモイル基に変換す
る反応は不活性溶剤中、活性アミド誘導体ニ変換した後
、メタンスルホン酸アミド、ベンゼンスルホン酸アミド
、ｐ−）ルエンスルホン酸アミドのようなスルホン酸ア
ミドと反応させることによって行われる。活性アミド誘
導体は相当する化合物をジシクロへキシルカルボジイミ
ドのような縮合剤の存在下、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドのようなＮ−ヒド
ロキシイミドと通常室温付近で３０４＞間乃至１０時間
反応することによって製造される。活性アミド誘導体と
スルホン酸アミドとの反応はナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような
塩基の存在下、室温付近で３０分間乃至１５時間反応す
ることによって行われ名。

上記両反応は好適には不活性溶剤中で行われ使用される
溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
のような芳香族炭化水素類：エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類
；又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類を
あげることができる。

反応終了後、目的のアミド化合物は常法に従って反応混
合物から採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ
、必要に応じて、中和した後、水不混和性有機溶剤で抽
出し、溶剤を留去することによって得ることができる。

さらに必要なら、常法、例えばシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー、再結晶法等によって精製することもでき
る。

Ｒ７′に含まれるアシル基の保護基において、Ｙが酸素
原子である場合には、前記したように、酸性条件下で除
去され、Ｙが硫黄原子である場合には、相当する化合物
を、テトラヒドロフラン、エーテルのようなエーテル類
、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化
水素類、メタノール、エタノールのようなアルコール類
又は水或いはそれらの混合溶剤中、酢酸水銀、塩化水銀
又は酸化水銀（赤）と０℃乃至６０℃で接触させること
によって除去される。

この反応では必要によりボロントリフルオライド−エー
テル錯体等のルイス酸を触媒として用いることができる
。

カルボキシ基をヒドロキシメチルカルボニル基に変換さ
せる反応はカルボキシ基を前記したたヒドロキシメチル
錫化合物のアニオンと反応させ、２位の水酸基が保護さ
れた１、２−ジ−ヒドロキシエチル基に変換させた後、
酸化し、保護基を除去することによって行なわれる。

ホルミル体を２位の水酸基が保護された１、２−ジヒド
ロキシエチル体に変換する反応は、ホルミル体を不活性
溶剤中、一般式 ％式％） （式中、Ｒ１６は前述したものと同意義を示し、Ｒ１８
は１−メトキシエチル、１−エトキシエチルのような１
−（Ｃ１−Ｃ４のアルコキシ）ｃｌ−ｃ４のアルキル基
を示し、Ｍはリチウム、ナトリウムのようなアルカリ金
属を示す。） を有するアニオンと反応させることによって達成される
。

化合物（ＸＸＩＶ）は公知の方法、例えばデ・ジャーナ
ル・アメリカン・ケミカル・ンサエテイ、１００巻、１
４８１頁（１９７８年）：工Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、
、　。

１００．１４８１（１９７８）と同様の方法に従って、
反応液中で調製される。

使用される不活性溶剤としては、例えば、エーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類又はヘキサメチルホスホリルトリアミドのようなアミ
ド類をあげることができ、反応温度は一７８℃乃至０℃
で１）、反応に要する時間は５分間乃至２時間である。

２位の水酸基が保護された１、２−ジヒドロキシエチル
体の酸化は常法に従って上記コリンズ試薬と処理するこ
とによシ行なわれ、水酸基の脱保護゛反応は前述の和尚
する水酸基の脱保護反応と同様に行なわれる。

目的のヒドロキシメチルカルボニル化合物は常法に従っ
て反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を氷
水にあけ適宜中和し、水不混和性有機溶・剤で抽出した
後、溶剤を留去することによシ得ることができる。さら
に必要ならば常法、例えばカラムクロマトグラフィー、
薄層クロマトグラフィー、再結晶などを用いてさらに精
製することができる。

このようにして得られる目的化合物が種々の幾何異性体
及び光学異性体の混合物で得られると 場合には、後逮嫡様に適当な合成段階においてこれらの
異性体を分離２分割できるが、２位及び３位の二重結合
に関する異性体の混合物の分離は、化合物（Ｉａ）にお
いて、Ｒ１がヒドロキシメチル基であシ、Ｒ４及びＲ５
が水酸基の保護基である化合物について行うことが好ま
しい。

Ｂ法は、化合物（１）において、Ａが −（ＣＨ２）−Ｅ−（ＣＨ２）ｑ−を有する基（式中、
Ｅ、ｐ及びｑは前述したものと同意義を示す。）である
化合物（Ｉｂ）を製造する方法であり、さらに詳しくは
、Ｂ　−（１）法は、化合物（Ｉｔ））を製造する方法
であシ、Ｂ　−（２）法は、化合物（ｌｂ）において、
Ｒ２及びＲ３が水素原子であシ、ｐが１である化合物（
Ｉｂ’）を製造する方法であシ、Ｂ　−（３）法は、化
金物（Ｉｂ）において、ｐが１である化合物（Ｉｂ／／
　）を製造する方法である。

Ｂ−（１）法 第６エ程は、一般式（■）を有する化合物を製造する工
程で、Ａ法の化合物（Ｖｌ）において、式Ｒ１４−Ａ／
−を有する基が式Ｒ”−０（−ＣＨ２片を有する基であ
る化合物（Ｍ’）　（式中、Ｒ４′及びｑは前述したも
のと同意義を示す。）のＲ４′を除去することによって
達成される。本反応は、前記Ａ法第５工程における和尚
する水酸基の保護基を除去する反応と同様にして行われ
る。

第７エ程は、一般式（■）を有する化合物を製造する工
程で、化合物（す）を一般式 ％式％（） （式中、１１５．ｘ及びｐは前述したものと同意義を示
す。）と反応させることによシ、化合物（■）において
、Ｅが酸素原子である化合物が製造され、化合物（■）
をスルホニル化した後、一般式 ％式％（） （式中、Ｒ１５及びｐは前述したものと同意義を示す。

）を有する化合物と塩基存在下反応させることにより、
化合物（■）において、Ｅが硫黄原子でちる化合物が製
造される。

Ｅが酸素原子である化合物は、不活性溶剤中、化合物（
■）を塩基と処理した後、化合物■（ト）又はそのアル
カリ金属塩（Ｒ１５がカルボキシ基の場合）と反応させ
ることによって達成される。

使用される塩基としては、例えばリチウム水素、ナトリ
ウム水素、カリウム水素のようなアルカリ金属水素化物
；カルシウム水素、ノ々リウム水素のようなアルカリ土
類金属水素化物；メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム
、フェニルリチウムのような有機リチウム化合物；ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエ
トキシド、ナトリウムｎ−プロポキシド、カリウムｔ−
ブトキシド、ナトリウムｔ−ベントキシドのようなアル
カリ金属アルコキシド；又は水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物をあげることが
できるが、好適にはアルカリ金属水素化物である。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、例えばヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような炭化水素類：エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジグライムのような
エーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホリルトリアミドのようなアミ
ド類；又はジメチルスルホキシドのような反ルホキシド
類、水或いはこれらの混合溶剤をあげることができるが
、好適にはアミル類、スルホキシド類又はこれらの混合
溶剤である。

反応温度は塩基との反応においては一７８℃乃至５０℃
であシ、化合物（３）（ト）との反応においては０℃乃
至５０℃である。反応に要する時間は塩基との反応にお
いては１０分間乃至１時間であシ、化合物αＷ）との反
応においては１時間乃至４８時間である。

Ｅが硫黄原子である化合物は、化合物（■）を前記へ法
第４工程における相当する反応と同様に処理して、スル
ホニル化した後、得られたスルホニル体を、不活性溶剤
中、塩基の存在下、化合物（ｘＸｖＤと反応させること
によって行われる。

使用される塩基及び不活性溶剤は上記Ｅが酸素原子であ
る≠ヰ化合物を製造する反応で例示しだものと同様であ
る。

反応温度は０℃乃至１００℃であシ、反応に要する時間
は３０分間乃至５時間である。

反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を氷水にあけ、必要に
応Ｂて酸性にした後、水不混和性有機溶剤で抽出し、有
機溶剤を留去することによって得ることができる。さら
に必要に応じて、常法、例えばカラムクロマトグラフィ
ー、再結晶法等により、さらに精製することもできる。

第８工程は、所望に応じて行う工程で、Ｒ１１゜Ｒ１２
及び／又はＲ７′に含まれる水酸基の保護基の除去反応
；Ｒが保護されたカルボキシ基である場合のその保護基
の除去反応；Ｒ１５をヒドロキシメチル基に変換する反
応；得られたヒドロキシメチル基をホルミル基に変換す
る反応（保護する反応を含む）　：　Ｒ１５のカルボキ
シ基をエステル化する反応：カルボキシ若しくはエステ
ルヲ置換されてもよいカルバモイル基に変換する反応；
Ｒ７′に含まれるアシル基の保護基の除去反応；並びに
カルボキシ基をヒドロキシメチル基に変換する反応（水
酸基の保護化反応を含む）を含み、各反応は適宜順序を
変えて行うことができる。

上記反応のうち、カルボキシ基の保護基を除去する反応
以外の反応は１．前記Ａ法第５工程における相当する反
応と同様に行われ、カルボキシ基の保護基を除去する反
応は、次の操作によシ行われる。

カルボキシ、基の保護基が低級アルキル基又はアリール
基の場合はその除去は通常の加水分解反応によって行な
われる。本反応は前記水酸基の保護基がアシル基の場合
と同様に行われる。

カルボキシ基の保護基がアラルキル基、ベンツヒドリル
基又はフェナシル基の場合には、その除去反応は前記の
水酸基の保護基がアラルキル基の場合と同様な反応に従
って行なわれる。

反応終了後、加水分解反応の目的化合物は常法に従って
反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反応混
合物を酸性とし、次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を
行ない、抽出液を洗浄し乾燥した後、抽出液よシ溶剤を
留去することによって得られる。

Ｂ　−（２）法 第９工程は、一般式（ＩＸ）を有する化合物を製造する
工程で、Ａ法の、化合物（ＩＶ）において、Ｒ及びＲ３
が水素原子であり、Ａ′が単結合である化合物（■つを
、前記化合物（ＸＸＶ）又は化合物（ＸＸＶＤと反応さ
せることによシ達成され、各反応は、前記Ｂ　−（１）
法第７エ程と同様に行われる。

第１０工程は、一般式（Ｘ）を有する化合物を製造する
工程で、化合物（■）のＲ１３′に含まれる水酸基の保
護基を除去して得られたアルコール体をスルホニル化し
た後又はノ・ロデン化した後、。

塩基と処理することによって達成され、各反応は、前記
へ法第３工程及び第４工程の相当する反応と同様に行わ
れる。

第１１工程は、所望に応じて行う工程で　Ｒ１１゜Ｒ１
２及びＲ７′に含まれる水酸基の保護基の除去反応；Ｒ
１５が保護されたカルボキシ基である場合のその保護基
の除去反応；Ｒをヒドロキシメチル基に変換する反応：
得られたヒドロキシメチル基をホルミル基に変換する反
応（保護する反応を含む）、Ｒのカルボキシ基をエステ
ル化する反応；カルブキシ若′シ＜は主ステルを置換さ
れてもよいカルバモイル基に変換する反応；實７′に含
まれるアシル基の保護基の除去反応；及びカルボキシ基
をヒドロキシメチルカルボニル基に変換する反応（水酸
基の保護化反応を含む）。

を含み、各反応は適宜順序を変えて行うことができる。

上記各反応は、前記Ｂ−（１）法第８工程の相当する反
応と同様に行われる。

Ｂ　−（３）法 第１２工程は、一般式（ＸＩ）を有する化合物を製造す
る工程で、不活性溶剤中、化合物（Ｉｆ）を塩基と処理
し、カルバニオンを発生させた後、一般式 （式中、Ｒ２及びＲ３は、前述したものと同意義を示す
。）を有するアルデヒド体又はケトン体と反応させるこ
とによって達成される。

本反応は、前記Ａ法第１工程と同様に行われる。又、本
反応は、クロル−トリプロポキシチタンのようなチタン
化合物の共存下にも好適に行われる。

第１３工程は、一般式（Ｘ［［）を有する化合物を製造
する工程で、化合物（ＸＩ）の水酸基をスルホニル化し
た後又はハロゲン置換した後、塩基と処理することによ
シ達成され、各反応は、前記へ法第４工程と同様に行わ
れる。

第１４工程は、一般式（Ｘ［［）を有する化合物を製造
する工程で、化合物（Ｘ［［）の式ＣＯ□Ｒ１０基をヒ
ドロキシメチル基に還元することによシ達成され、前記
へ法第１工程の相当する反応と同様に行われる。

第１５工程は、一般式（Ｘ［Ｖ）を有する化合物を製造
する工程で、化合物（ＸＩ）を化合物（ＸＸＶ）又は化
合物（ＸＸＶＩ）と反応させることにより達成され、各
反応は、前記Ｂ　−（１）法第７エ程と同様に行われる
。

第１６エ程は、所望に応じて行う工程で　Ｈｌｌ。

Ｒ１２及びＲ′に含まれる水酸基の保護基の除去反応；
Ｒ１５が保護されたカルボキシ基である場合のその保護
基の除去反応；Ｒをヒドロキシメチル基に変換する反応
、得られたヒドロキシメチル基をホルミル基に変換する
反応（保護する反応を含む）　：　Ｒ１５のカルボキシ
基をエステル化する反応又はカルボキシ若しくはエステ
ルを置換されてもよいカルバモイル基に変換する反応；
Ｒ７′に含まれるアシル基の保護基の除去反応；及びカ
ルボキシ基をヒドロキシメチルカルボニルに変換する反
応（水酸基を保護する反応を含む）を含み、各反応は適
宜順序を変えて行うことができる。

上記各反応は、前記Ｂ　−（１）法第８工程の相当する
反応と同様に行われる。

Ｃ法は、化合物（Ｉ）において、Ａが式−ＣＨ＝ＣＨ−
（ＣＨ２）ｎ−を有する基（式中、ｎは前述したものと
同意義を示す。）である化合物（Ｉｃ）を製造する方法
である。

第１７エ程は、一般式（８）を有する化合物を′製造す
る工程で、前記化合物（Ｉａ）において、Ａが式−４−
ＣＨ２）２−（ＣＨ２）ｎ−を有する基であり、Ｒ１が
Ｒ１５である化合物（Ｔａ’）（式中、Ｒ１５及びｎは
、゛前述したものと同意義を示す。）を、不活性溶剤中
、塩基で処理した後、一般式 ％式％［ （式中、Ｒ１６、ｙ及びＸは前述したものと同意義を示
す。）を有する化合物と反応させることによって達成さ
れる。

化合物（１ａ／）のＲは好適には保護されたカルボキシ
基であり、さらに好適にはメトキシカルゼニル基である
。

Ｒ１６は好適にはアリール基である。

使用される塩基としては、例えばメチルリチウム、ｎ−
ブチルリチウム、Ｓ−ブチルリチウム、フェニルリチウ
ムのような有機リチウム化合物；ジインプロピルアミノ
リチウム、ジ、シクロヘキシルアミノリチウム、インプ
ロピル−シクロへキシルアミノリチウムのようなジアル
キルアミノリチウム：又はビス（トリメチルシリル）リ
チウムアミド、ビス（トリエチルシリル）リチウムアミ
ド、ビス（ジフェニルメチルシリル）リチウムアミドの
ようなビス−シリルリチウムアミドをあげることができ
るが、好適にはジアルキルリチウムアミドである。

使用される不活性溶剤としては、例えばエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジグライムのよう
なエーテル類又はベンゼン、。

トルエン、キシレンのよう°な芳香族炭化水素類をあげ
ることができるが、好適にはエーテル類である。

反応温度は塩基との反応については一１００℃乃至室温
であり、化合物（豆■）又は（ＸＸＤＯとの反応におい
ては０℃乃至５０℃であシ、反応に要する時間は前者の
反応においては１０分間乃至２時間であり、後者の反応
においては３０分間乃至５時間である。

反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を水にあけ、水不混和
性有機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによって
得ることができる。

さらに、必要に応じて、常法、例えばカラλクロマトグ
ラフィー、再結晶法等によシさらに精製することもでき
る。

第１８工程は一般式（ＸＶＤを有する化合物を製造する
工程で、不活性溶剤中、化合物（ＸＶ）を酸化剤と処理
し、その後必要に応じて加熱することによって達成され
る。

使用される酸化剤としては、例えば過酸化水素又は過酢
酸、過プロピオン酸、過安息香酸、メタクロロ過安息香
酸のような有機過酸をあげることができるが、好適には
過酸化水素又はメタクロロ過安息香酸である。

使用される不活性溶剤としては、例えばベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジ
グライムのようなエーテル類；酢酸エチルのよう々エス
テル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパツールの
よう、なアルコール類；水；又はこれらの溶剤の混合溶
剤をあげることができるが、好適には過酸化水素を使用
する場合には水−アルコール類−エステル類の混合溶剤
であシ、有機過ｉを使用する場合には〉・ロダン化炭化
水素類である。

反応温度は通常−５０℃乃至５０℃であり、反応に要す
る時間は３０分間乃至５時間であり、さらに必要に応じ
て、二重結合の生成を促進させるため、５０℃乃至１０
０℃で１時間乃至５時間処理することもできる。

反応終了後、反応目的物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、反応混合物を水にあげ、必要に応
じて不溶物が生じた場合には濾過した後、水不混和性有
機溶剤で抽出し、有機溶剤を留去することによって得る
ことができる。さらに、必要に応じて、常法、例えばカ
ラムクロマトグラフィー、再結晶法等によシさらに精製
することもできる。

第１９工程は所望に応じて行う工程で、Ｒ４及び７文は
Ｒ５の水酸基の保護基の除去反応；Ｒ１５に含まれるカ
ルボキシ若の保護基の除去反応；Ｒ１５をヒドロキシメ
チル基に変換する反応；得られたヒドロキシメチル基を
ホルミル基に変換する反応（保護する反応を含む）　：
　Ｒ１５のカルボキシ若をエステル化する反応：及びカ
ルボキシ若しくはエステルを置換されてもよいカルバモ
イル基に変換する反応を含み、適宜頑序を変えて行うこ
とができる。

本工程は、前記Ｂ　−（１）法第８工程の相当する反応
と同様に行われる。

Ｄ法は、化合物（１）において、Ｂがビニレン又はエチ
ニレンである化合物（Ｉｄ）を別途に製造する方法であ
る。

第２０工程は一般式（ＸＶＩ［Ｄを有する不飽和ケトン
誘導体を製造する工程で、一般式（ＸＶＩＩ）を有する
アルデヒド誘導体に一般式 又は一般式 （惑中、Ｂ、７’、　ＲＩＡ及びＭは前述したものと同
意義を示し、Ｙは水素皿子又はハロゲン原子を示す。）
を有するウイテッヒ又は変法ウィテッヒ試剤を反応させ
ることによって達成される。

反応に使用される前記一般式α双）又は（ＸＸＸＤを有
するウイテッヒ又は−法ウィテッヒ試剤は、常法に従っ
て溶剤の存在下で一般式 又は一般式 （式中、Ｒ７’、　Ｒ１６、Ｘ及びＹは前述したものと
同意義を示す。） を有する化合物に水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ような水素化アルカリ金属あるいはナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド、ナトリウムア
ミド、カリウムアミドのようなアルカリ金属アミド、ｎ
−ブチルリチウムのようなアルキルアルカリ金属、゛ナ
トリウムジメチルスルホキシドアニオンのようなアルカ
リ金属ジメチルスルホキシドアニオンなどのアルカリ金
属塩基を反応させることによって得ることができる。使
用される溶剤としては一般のウイテツヒ反応に用いられ
る溶剤が特に限定なく用いられ、例えばエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン
のようｈエーテル預：スルホランの士らなチオエーテル
類；ベンゼン、トルエン、ヘキサンのような炭化水素類
；ジメチルスルホキシドのようなシア化キルスルホキシ
ド類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドの
ような脂肪酸ジアルキルアミド類；ジクロルメタン、ク
ロロホルムのようなハロダン化炭化水素類；ヘキサメチ
ルホスホリルトリアミド（ＨＭＰＡ）のようなリン酸ト
リアミド類等の不活性有機溶剤をあげることができる。

また反応は窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガ
ス中で好適に行なわれる。反応温度には特に限定はなく
、通常は一１０℃乃至溶剤の還流温度で行なわれ、好適
には室温付近で行なわれる。反応時間は反応温度などに
よって異なるが、通常は６乃至５０時間である。

反応終了後、ウイテツヒ反応の目的化合物は常法に従“
つて反応混合物から採取される。例えば反応終了後、反
応混合物に氷水を加え、次いで必要に応じて酸処理を行
ない、゛エーテルのような有機溶剤を加えて抽出し、得
られる有機溶剤層を水洗し乾燥した後、有機溶剤層よシ
溶剤を留去することによって得られる。

第２１工程は一般式（９）を有するアルコール誘導体を
製造する工程で、化合物（ＸＶｎＤを還元剤又は前記化
合物（支）と反応させることによってそれぞれＲ６が水
素原子である化合物及びＲ６がＣ４−Ｃ４のアルキル基
である化合物が製造される。

還元剤との反応は通常不活性溶剤中で行われる。

使用される還元剤としてはカル＆ニル基のみを水酸基に
変換する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素イヒホウ素亜鉛、水素化トリーｔｅｒ
ｔ−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化トリメトキ
シアルミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウ
ムなどの水素化金属化合物又はアルミニウムイソプロポ
キシド、シイ、ツブチル−（２，６−ジーｔ−ブチル−
４−メチルフェノキシ）アルミニウムのようなアルミニ
ウム化合物をあげることができるが、好適には水素化ホ
ウ素ナトリウムである。

又、二重結合の還元を抑制するために、塩化セリウム等
を加えることもできる。

使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ特に限定
されないが、例えばメタノール、エタノール、ｎ−ニア
’ロノ臂ノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノールのよ
うなアルコール類又はエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの混合溶剤を
あげることができるが、好適にはアルコール類、特にメ
タノールである。

反応温度は通常０℃乃至室温であシ、反応に要する時間
は反応試剤、反応温度等により異なるが１０分間乃至２
時間である。

反応終了後、本工程の目的化合物は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば反応終了後、溶剤を減圧
下で留去し、氷水を加えて水不混和性有機溶剤で抽出し
、有機溶剤を留去す、ることによって得られる。

なお、本工程の原料化合物（ＸＶＩ［Ｄにおいて、Ｒ１
７がヒドロキシメチル基である場合には、必要に応じて
その水酸基を保護した後、本反応に使用すること力°；
できる。水酸基に保護基を導入する反応は次に述べる第
２２工程の相当する反応と同様に行われる。

又、化合物（ＸＸ［Ｄとの反応は、前記第２工程の相当
する反応と同様に行われる。

第２２工程は、所望により一般式（ＸＸ）を有する化合
物を製造する工程であり、化合物（ＸＤＯのハロビニレ
ン基をエチニル基に変換する反応及び水酸基を保護する
反応を含む。

ハロビニレン基をエチニル基に変換する反応は、不活性
溶剤中、相当する化合物（ＸＤＯを塩基と処理すること
によって達成される。

使用される塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシ
ド、カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、ナ
トリウムｔ−ベントキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
アルカリ金属水酸化物をあげることができるが、好適に
は、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウム１−ベントキ
シド、水酸化カリウムのような強塩基である。

使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適には、メタノール、エタノー
ル、ｔ−ブタノールのよりす７　ＪＬｔ　コール類又ハ
ニーチル、テトラヒドロフランのようなエーテル類をあ
げることができる。

反応温度は、通常室温乃至溶剤の還流温度でアシ、反応
に要する時間は３０分間乃至５時間である。　　。

反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば反応終了後、適宜溶剤を減圧で留去
するか、留去しないで反応混合物を氷水にあけ必要に応
じて中和して、次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を行
ない、抽出液を水洗し乾燥した後、抽出液よシ溶剤を留
去することによって得られる。さらに必要に応じて、常
法、例えばシリカグルカラムクロマトグラフィー、再結
晶法等によって精製することもできる。

水酸基を保護する反応は常法に従って化合物（廐を保護
基を形成する化合物と接触させることによって行なわれ
る。使用される保護基を形成する化合物としては例えば
酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、ナフタリンカル
？ン酸のようなカルボン酸若しくはその反応性誘導体；
ベンジルクロリド、ベンジルプロミド、ｐ−二トロベン
ジルブロミド、ｐ−メトキシベンジルプロミドのような
アラルキルハライド化合物；トリチルクロリド、トリチ
ルプロミドのようなトリチルハライド；ジヒドロピラン
、ジヒドロチオピラン、ジヒドロチオフェン、４−メト
キシ−５，６−シヒドロー（２Ｈ）ピランのような５若
しルクロリド、ベンジルオキシメチルクロリドのような
アルコキシ、アルキルチオ若しくはアラルキルオキシ置
換アルキルチオイ）’化合物：メチルビニルエーテル、
エチルビニルエーテルのような不飽和エーテル類；ヘキ
サメチルジシラザン、トリメチルシリルクロリド、トリ
ーｎ−プロピルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシ
リルクロリド、ジフェニルｔ−ブチルシリルクロリドの
ようなシリル化合物などを好適な化合物としてあげるこ
とができる。

カルデン酸化合物を使用する場合には、ジシクロへキシ
ルカルボジイミドのような縮合痢の存在下に好適に行わ
れる。

カルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酢酸クロリ
ド、酢酸プロミド、ベンゾイルクロリド、ベンゾ、イル
プロミド、ナフトイルクロリドのような酸ハライド化合
物又は無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸のよ
うな酸無水物をあげることができ、本誘導体を使用する
場合には、トリエチルアミン、ピリジン、４−Ｎ、Ｎ−
ジメチルアニリンぎりジン、キノリン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアニリンのような有機塩基の存在下に好適に行われる
。

本反応は溶剤の存在下で行われる。使用される溶剤とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキ
サンのような炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素、クロルベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類をあげることができるが、好適には炭化水
素類である。

反応温度は通常Ｏ℃〜１００℃であり、反応に要する時
間は反応試剤、反応温度、溶剤等により異なるが、３０
分間乃至６時間である。

アラルキルハライド化合物、トリチルハライド、アルコ
キシ、アルキルチオ若しくはアラルキルオキシ置換アル
キルハライド化合物又はシリル化合物を使用する場合に
は、不活性溶剤中、化合物（ＸＤＯを水素化ナトリウム
、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物と反応
させ、化合物（Ｗのアルカリ金属塩を製造した後に、相
当するハライド化合物又はジシラザンのようなシリル化
試薬を反応させることによって達成される。

使用する不活性溶剤は反応に関与しなげれば特に限定さ
れないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリルトリアミ
ドのようなアミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリル
のよりなニトリル類又はジメチルスルホキシドのような
スルホキシド類をあげることができるが、好適にはアミ
ド類である。

反応温度は０℃乃至１００℃であり、反応に要する時間
は反応試剤１、反応温度によシ異なるが通常１０分間乃
至３時間である。

又、トリエチルアミン、ピリジン、４−　Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノピリジン、イミダゾールのような有機塩基又
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムの
ような無機塩基の存在下に、化合物（ＸＤＯと相当する
ハライド化合物を反応させることもできる。５若しくは
６員環状の複素環化合物又は不飽和エーテル類を使用す
る場合には、反応は不活性溶剤の存在下又は不存在下少
量の酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱酸またはピ
クリン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン！、ｐ
−）ルエンスルホン酸、カンファースルホン酸のような
有機酸の存在下で実施される。

使用される溶剤としては反応に関与しなければ特に制限
されないが、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、グロロホ
ルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類又はベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類
をあげることができるが、好適にはノ・ログン化炭化水
素類である。又、不活性溶剤の不存在下、溶剤を兼ねて
複素環化合物又はビニルエーテル化合物を過剰に使用す
ることによっても反応は行われる。

反応温度は通？、（０℃乃至５０℃であり、反応に要す
る時間は反応試剤、反応温度等により異なるが、３０分
間乃至３時間である。

以上の各反応終了後、水酸基の保護された目的化合物は
常法（従って反応混合物から採取される。例えば、反応
混合物を氷水にあけ不溶物が存在する場合には戸別した
後、溶液が酸性又はアルカリ性の場合には適宜中和し、
水不混和性有機溶剤で抽出した後、溶剤を留去すること
により得ることができる。さらに必要ならば常法、例え
ばカラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー
、再結晶法などを用いてさらに精製することができる。

なお、化合物（８）において、側鎖の水酸基の配位がβ
位の化合物が相当量生成した場合には、必要に応じて、
水酸基の保護基Ｒ１１を除去して、常法、例えば再結晶
、カラムクロマトグラフィー等によって、水酸基の配位
がβ位の化合物を除去して、本工程の水酸基の保護化反
応に使用することもできる。

第２３工程は所望に応じて行う工程で、Ｒ１７に含まれ
る水酸基の保護基、ホルミル基の保護基若しくはカルボ
キシ基の保護基の除去反応；Ｒ１１、Ｒ１２及び／又は
Ｒ７′に含まれる水酸基の保護基の除去反応、Ｒに含ま
れる水酸基の保護基を除去して得たヒドロキシメチル基
をホルミル基（保護基を付す反応も含む。）若しくはカ
ルボキシ基に変換する反応：カルボキシ基をエステル化
する反応又はカルボン酸基しくはエステルをアミド化す
る反応；Ｒ７′に含まれるアシル基の保護基を除去する
反応；並びにカルボキシ基をヒト・キ５丁４ｇ＝ル基に
変換する反応（水酸基を保護する反応）を含み、各反応
は適宜順序を変えて行うことができる。

上記各反応は、前記人法第５工程及びＢ　−（１）法第
８工程の相当する反応と同様に行われる。

Ｄ法の原料化合物（至）は、以下の方法に従って容易に
製造される。

２−／′ Ｅ法 ００ＯａＩ）　　　　　　　　　　（ＸＸ）（ト）♂Ｒ
１１ （ＸＸＸＩＩ／） （ＸＸＸＶ）　　　　　　　　　　　　（ＸＸＸＶＤＡ
Ｒｌｌ Ｆ法 （ＸＸＸＶリ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　（ＸＸＸＶＩ）晶１１ （ＸＸＸ［Ｋ）　　　　　　　　　　　　　　（ＸＩＪ
）晶１１ （ＸＶＩ［ｆ） （ＸＸＸＶ’リ　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　（ＸＬＩ）（ｘ、１）　　　　　　　　　　
　　　（Ｘｎｌ）（ＸＸＸＩＤ　　　　　　　　　　　
　　　　　（雇め（ＸＬＶ）　　　　　　　　　　　　
　（ＸＬＶＤ：、１ Ｒ （雇■ Ｇ法 昨匍　　　　　　　　　■幻 ♂Ｒ１１ （Ｌ） （Ｌｌ）　　　　　　　　　　　　　（Ｌｌｌ）♂Ｒ１
ｉ α■ｇ） 上記式中、Ｒ２＋　１３ｒ　Ｒ”　、Ｒ１１＋　Ｒ１２
，Ｒ１３ｒ　Ｒ１４＋　Ｒ１５ｔ　Ｒ１６＋Ｒ１７，Ａ
′、Ｅ、Ｗ、ｎ、ｐ＋（Ｌ及び点線ヲ含ム結合ハ、前述
したものと同意義を示し、Ｒ１５′は、保護されたカル
ボキシ基又はテトラゾリル基を示し　Ｒ１７’は、保護
されたカルボキシ基、保護された水酸基、保護されたホ
ルミル基又はテトラゾリル基を示す。

Ｅ法は、化合物（罵において、Ａが、単結合又は弗素原
子を含んでいてもよいＣ，−Ｃ，の直鎖状アルキレン基
である化合物α−）を製造する方法である。

本方法における第２４工程乃至２６エ程は、それぞれ、
前記Ａ法第、１工程乃至第３工程と同様に行われ、一般
式（ＸＸＸＩＤを有する化合物を出発原料として、式（
ＸＸＸｎｌ）　、式（ＸＸＸＩ￥）を有する化合物を経
て、式（ＸＸＸＶ）を有する化合物が得られる。

なお、化合物（ＸＸＸＩ［）は、公知化合物〔例えば、
ケミカル・ファーマシューテイカル・ブレタン、３２巻
、第３７６８頁（１９８４年）　：　Ｃｈｅｍ、　Ｐｈ
ａｒｍ。

Ｂｕｌｌ、、３２．３７６８（１９８４）〕又は公知化
合物から容易に製造される化合物である３−オキソビシ
クロ［：３．３．０］誘導体を、公知の方法（例えば、
ヨーロッ・ぐ特許公開１３６７７９号）に従ってウイテ
ツヒ反応を行うことによって容易に製造される。

第２７エ程は、一般式（豆腐）を有する化合物を製造す
る工程で、化合物（ＸＸＸＶ）の水酸基をスルホニル化
した後又は八日ｒンで置換した後、塩基と処理し、さら
に水酸基の保護基であるＲ１２を除去することによって
達成される。この際、必要に応じ、Ｒ１４に含まれる水
酸基の保護基を除去し、得られたヒドロキシメチル体を
他の水酸基の保護基で保護する反応、ヒドロキシメチル
体を酸化してカルボキシ体に変換する反応及び得られた
カル−キシ基を保護する反応を適宜行うことができる。

以上の各反応は、前記へ法第４工程、第５工程及びＤ法
第２２工程の相当する反応と同様に行われる。

Ｒ１２の除去反応で、Ｒｊ２とＲ１１が同一の反応条件
で゛除去される保護基である場合には、両方の基は同時
に除去される。この、場合には、必要に応じて、第１ア
ルコールと第２アルコールの反応性の差を利用して、２
級の水酸基を再保護するとともできる。例えば、Ｒ１２
とＲ１１が同時に除去されたジオール体（ＬＩ［［）を
トリクロロアセチルクロリド、トリフルオロアセチルク
ロリドのような活性アシルハライドと反応させ、１級の
水酸基がアシル化された化合物（ＬＩＶ）に導き（第４
６エ程）、２級の水酸基を保護して化合物（ＬＶ）を得
た後（第４７エ程）、温和な条件で活性アシルオキシ基
を加水分解して（第４８工程）、目的とする化合物（Ｘ
ＸＸＶ［）が製造される。

ろＲ１１０Ｈ （ＸＸＸＶ）　　　　　　　　　　　　側）Ｈ （ＴＪ／） 上記式中、Ｒ２，Ｒ３，、Ｒ１７′、　Ｒ１１，Ａ’及
び点線を含む結合は前述したものと同意義を示し、Ｒ１
９は活性アシル基を示す。

第４６エ程及び第４７エ程はそれぞれ前記り法第２２工
程における相当する反応と同様に行われる。第４６エ程
の反応においては温和な条件、で活性アシルハライドを
過剰にならないように使用することによって好適に行わ
れる。

第４８工程は化合物（ＬＶ）を不活性溶剤中、弱塩基と
温和な条件で反応させることによって達成される。

使用される弱塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩；
酢酸ナトリウム、酢酸カリウムのような脂肪族カル？ン
酸のアルカリ金属塩；塩基性アルミナ：又はトリエチル
アミン、ピリジンのような有機アミン類をあげることが
できるが、好適にはアルカリ金属重炭酸塩である。

使用される不活性溶剤は反応に関与しなければ特に制限
されないが、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パツール、イソプロピルアルコールのヨウナアルコール
類：エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチルスル
ホキシドのようなジアルキルスルホキシド類およびこれ
らの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることができる。

反応温度には特に限定はなく、通常は室温乃至５０℃で
行われる。反応時間は反応温度などによって異なるが、
通常は１乃至１２時間である。

第２８工程は、化合物（蹄）を製造する工程で、化合物
（ＸＸＸＶＤを酸化することによって達成され、本反応
は前記へ法第５工程の相当する反応と同機に行われる。

又、必要に応じて、カルボキシ基又はヒドロキシメチル
基の保護基を除去することもできる。

Ｆ法は、化合物（罵において、Ａが式 −（ＣＨ２）　−ｇ−（ＣＨ２）、−を有する基（式中
、Ｅ。

ｐ及びｑは、前述したものと同意義を示す。）それぞれ
、前記Ａ法第４工程、Ｂ法第６エ程及び第７エ程と同様
に行われ、化合物（ＸＸＸＶ）にお。

を有する基である（式中、Ｒ４′及びｑは前述したもの
と同意義を示す。）化合物（皿′）を出発原料として、
式（豆調）を有する化合物を経て、式（類句を有する化
合物が製造される。

第３１工程は、一般式（Ｗ釦を有する化合物を製造する
工程で、化合物（願）のＲ１５がカルボキシ基の場合に
そのカルボキシ基を保護する反応、及びＲ１５をヒドロ
キシメチル基に変換し、その水酸基を保護する反応を含
む。

上記各反応は、前記Ａ法第５工程及びＤ法第２２工程の
相当する反応と同様に行われる。

第３２工程及び第３３工程は、化合物［有］次のＲ１２
を除去し、ヒドロキシメチル体（ＸＬ）を製造し、酸化
してホルミル体（ＸＶＩＩｆ）を製造する工程であシ、
前記Ｅ法第２７エ程の相当する反応及び第２８工程と同
様に行われる。

Ｆ　−（２）法は、化合物（ＸＸＸｌ）ｏニオイテ、ｑ
　ｉｆ　１である化合物（ＸＬＩＩＩ）を別途に製造す
る方法であシ、化合物（ｘＸＸｖ）において、Ｒ２及び
Ｒ３が水素原子であり、ｎが０である化合物（ＸＸＸＶ
’つを出発原料として、式（ＸＬＩ）及び弐〇ＣＩ、Ｉ
ｆ）を有する化合物を経由して行われるが、第３４工程
乃至第３６エ程は、それぞれ、前記Ｂ法第９工程、第１
０工程及びＦ法第３１工程と同様に行われる。

Ｆ　−（３）法は、化合物淵罵）において、ｑが１であ
る化合物ニ■）を別途に製造する方法であり、化合物（
ＸＸ）Ｇｌ）を出発原料トシテ、式（ＸＩＶ）、　０Ｃ
ＬＶ）及び叫）を有する化合物を経由して行われるが、
第３７エ程乃至第４０工程は、それぞれ前記Ｂ法第１２
工程乃至第１５工程と同様に行われる。

Ｇ法は、化合物（層において、Ａが式 −ＣＨ−ＣＨ（ＣＨ２）ｎ−を有する基（式中、ｎは前
述したものと同意義を示す。）である化合物（ＸＶ［ｇ
）を製造する方法である。

本方法は、Ｅ法第２７エ程において、Ｒ１２を除去する
前に得られる一般式ニ■）を有する化合物を出発原料と
して、式（ＸＬりＯ、（Ｌ）　、　（Ｌｌ）及び（ＬＩ
Ｉ）を有する化合物を経由して行われるが、第４１工程
乃至第４５工程は、それぞれ前記Ｃ法第１７エ程、第１
８工程、Ｆ法第３１工程、第３２工程及び第３３工程と
同様に行われる。

このようにして得られる各工程の目的化合物が種々の位
皺異性体、幾何異性体及び光学異性体の混合物で得られ
る場合には、適当な合成段階においてこれらの異性体を
分離および分割することができる。

（効果） 前記一般式（１）を有する化合物及びその薬理上許容さ
れる塩は抗血小板剤、抗潰瘍剤として有用で血栓性疾患
、潰瘍疾患の治療および予防薬として用いることができ
る。その投与形態と、による非経口投与等をあげること
ができる。その使用量は症状、年令、体重等によって累
々るが、通常は成人に対して１日約０．０００１１ｎｇ
乃至１００Ｍ’、好適には１日約０．０１７＃乃至１０
０７７ｊｐであシ、１回または数回に分けて投与するこ
とができる。

次に実施例及び参考例をあげて、本発明をさらに具体的
に説明する。

実施例１ 無水テトラヒドロフラン４Ｑｍｌにジヘキシルアミン１
．９　ｍｌを溶解して一７８℃に冷却し、１５％ｎ−ブ
チルリチウム（ヘキサン溶液）５．３　＋ｎＡ！を滴下
して１０分間攪拌する。次いで、ヘキサメチルホスホル
アミド１．８２−を滴下して５分間攪拌した後に３．３
−　（メトキシカル？ニルメチレン）−６β−〔３α−
（２−テ）ラヒドロピラニルオキシ）−５β、９−ジメ
チル−１，８−デカジェニル〕−７α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）ビシクロ［：３．３．０：ｌオク
タン２．６ｇをテトラヒドロフラン１５ｒｎｌに溶解し
て滴下し、１０分間−７８℃に攪拌する。次に１−ベン
ジルオキシ−４−ブロモブタン２．３２９を加えて除徐
に室温に戻して室温に１時間攪拌する。反応液に、飽和
塩化アンモニウム水溶液１０−を加えて攪拌後、反応液
を水１５０ｍ１に希釈して酢酸エチル抽出、抽出液を水
洗、無水芒硝乾燥。

溶媒を減圧下に留去と屓次行な゛ったのち得られた残渣
４．６７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
すことによシ目的化合物２．７ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａｚ　ｃｍ−’　：１０
２５　、１１２０　、１７４ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤ
Ｃｌ２）δ：０．９２（３Ｈ，ｄ）、３．６２（３Ｈ，
ｓ）、４．４５（２Ｈ，ｓ）、４．９−５．７（４Ｈ，
ｍ）、７．３０（５Ｈ，ｓ） 実施例２ 無水エーテル８０Ｔｎｌに水素化アルミニウムリチウム
０．２９ｇを懸濁して、氷冷却攪拌下に実施例１で得ら
れたエステル体２．７１を１５ｍＪのエーテルに溶解し
て滴下し、室温で、１５分間攪拌した。次いで、４％水
酸化ナトリウム水溶液１、２　ｍｌを滴下して、室温で
１時間攪拌後、析出した不溶物をセライトを用いて戸去
し炉液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付すことにより目的化合物２．５３Ｉ
を得た。

ＩＲスにクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｃｒｎ−１：　９７
５　、１０２０　。

１０７５　、１１２０　、３４８Ｏ ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｚ３）δ：０．９５（３ｆ（
、ｄ）、４．５０（２Ｈ，ｓ）、４．７０（２Ｈ，ｂｒ
、　ｓ）、５．０−５．７　（４Ｈ，ｍ）、７．３３（
５Ｈ，ｓ）実施例３ 実施例２で得られたヒドロキシ体２．５３ｇをジメチル
ホルムアミド２５ｔｎｌに溶解して、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリド０．６８ｇ、イミダゾ−ル０．３０，
９．４−ジメチルアミノピリジン５４■を加えて、室温
で５時間放置した。反応液を１５０ｍ１の水に希釈して
酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を
減圧下に留去と順次行なったのち残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付すことによυ目的化合物２．
９９ｇを得たヶ ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｃｒｎ−’　：　８
３５　＋　　１０２０　＋１０７５　、１１１５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δ：　４．５０（２Ｈ
，ｓ）、５．０−５．７（４Ｈ，ｍ）、７．３４（５Ｈ
，ｓ）実施例４ ンの混合物 液体アンモニア５０ｍ１を一７８℃に冷却し実施例３で
得られたベンジル体２．９ｇをテトラヒドロフラン５０
ｍ１に溶解して加えたのち、金属ナトリウムＯ，’６ｇ
を加えて−７０〜−５０℃で１５分間攪拌する。次いで
、塩化アンモニウムの粉末約５ｇを加えて徐々に室温に
戻してアンモニアを除き残った反応液を水１５０ｄに希
釈して酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、無水芒硝乾燥。

溶媒を減圧下に留去と順次行なって得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付すことによシ目的
化合物２．１ｙを得た。

■、Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）シｙ１ａｘｃｍ−’　：　
８４０　、　１０２５　。

１０８０　、１１２０　、３４７Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２ρδ：　４．７７（２Ｈ，
ｂｒ、ｓ）、４．９５−５．７（４Ｈ，ｍ） 実施例５ ［：３．３．０］オクト−２−エン及びオクト−３−エ
ンの混合物 実施例４で得たヒドロキシ体１．７ｇをぎリジン６ゴに
溶解して無水酢酸３　ｍｌを加えて室温に２時間放置す
る。反応液を、水１００ｍＡ！に希釈して振とう後酢酸
エチル抽出、抽出液を水洗。

゛希塩酸水洗、水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留
去と順次行なって目的化合物１．８１を得た。

工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）νｍｅＬｚ（７Ｆ＋　　、　
８４０　、１０２０　、１０３３゜１０８０　、１１２
０　、１２３５　ｊ１７４５ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ
ｔ、）δ：　２．０３（３Ｈ，ｓ）、４．０５（２Ｈ，
ｔ） 実施例６ 実施例５で得たシリル体１６８Ｉをテトラヒドロンラン
３Ｑｍｌに溶解してテトラｎ−ブチルアンモニウムフロ
リド（ＩＭ−テトラヒドロフラン溶液）　４．９　ｍ７
！を加えて室温に２時間攪拌する。

反応液を、水１５０ＴＬｌに希釈して酢酸エチル抽出、
抽出液を水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順
次行なって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付すことによ、９１．５３．ｌｉ＋の目的化
合物を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νＩｎａＸ”　　：９８０　
＊　１０２０　、１０３３＋１０７５　、１１２０　、
１１３０　、１２４０　、１７４３　。

Ｍスペクトル（ＣＤＣ２ρδ：２．０３（３Ｈ，ｓ）、
４．０５（２Ｈ，ｔ、）、４．６８（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）
、５．０５−５．７（４Ｈ，ｍ） 実施例７ 実施例６で得たヒドロキシ体１．５３ｇをピリジン３Ｑ
ｍＡ！に溶解してメタンスルホニルクロリド０．２８ｍ
Ｊを加えて室温に１時間攪拌した。反応液を水１５０ｍ
７！に希釈して酢酸エチル抽出、抽出液を希塩酸水洗、
水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行ない
目的化合物１．７ｇを得た。

工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）シ工Ｘ”　　−９８０＋　１
０２５　＋１０３５　、１１８０　、１２４０　、１３
６０　、１７４３ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＬ３）δ：
２．０３（３Ｈ，ｓ）、２．９５（３Ｈ，ｓ）、４．６
８（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．０−５．７（４Ｈ，ｍ） 実施例８ クトー３−二ンの混合物 実施例７で得たメチルスルホニルオキシ体１、７　ｇヲ
ヘキサメチルホスホルアミド３０ｒｎｌに溶解して１．
８−ジアゾビシクロ（５，４，Ｏ］タウンカ−７−エン
３　ｍｌとヨウ化ナトリウム１．０ｇを加えて９０℃に
１時間攪拌する。反応液を冷却後、水１００−に希釈し
て酢酸エチル抽出、抽出液を希塩酸水洗、水洗、無水芒
硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行なって得られた残
ｉをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことに
よシ目的化合物１．２ｇを得た。

ＩＲス４クトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｃｒｎ−’　：　１
０２０　、１０３０、−１２３５　、１５９０　、１６
２０　、１７４２ＮＭＲ，１，ゝクト“（ＣＤＣＡ３）
δ：ｏ、９２（３ｍ、ａ）、２．０２（３Ｈ，ｓ　）、
４．８３　（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．７１（ＩＥ（。

ｂｒ、ｓ） 実施例９ ニル〕−７α−（２−テトラヒドロピラニルオ実施例８
で得たアセトオキシ体１．２５．９をメタノール３０ｒ
ｎｌに溶解して無水炭酸カリウム０．２５Ｉを加えて室
温に２．５時間攪拌した。反応液を、水１５０　ｒｒｔ
ｌに希釈して酢酸エチル抽出、抽出液を水洗、無水芒硝
乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行なって得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しオクト−
２−エン体０．６８ｇとオクト−３−エン体０．５１ｇ
を得た。

オクト−２−エン体：　　゛ ＩＲス被クりル（Ｌｉｑ）νｍａ！”−’　：９ｓｏ　
、　１０２５　、１０３５゜１０８０　、１５９５．４
６２５　、３４７ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δ
：　０．９５（３Ｅ（、ｄ）、４．７３（２Ｈ、ｂｒ、
ｓ　）、４．９０（２Ｈ，ｓ）、５．０−５．６５（３
Ｈ，ｍ）、５．７０（ＩＨ，ｓ） オクト−３−エン体： 泳ス啄りトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｍ−’　：　９７５．
１０２５　ｍ　１０８０゜１５９７　、１６２５　、３
４７Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δ：　０．９５（３Ｈ
，ｍ）、４．７３（２Ｈ，ｍ）、４．９０（２Ｈ，ｓ）
、５．０−５．６５（３Ｈ，ｍ）、５．７２（Ｈ，ｍ） 実施例１０ 実施例９で得たヒドロキシ体（オクト−２−エン）０．
４５９をピリジン１　ｍｌに溶解して、無水り≧ム酸０
．１．９を水０．−１ｍ７！に溶解して滴下し室温に２
０時間攪拌した。反応液を、エーテルとベンゼン１対１
の混合溶媒に希釈して析出した不溶物をセライトを用い
て涙去したのち、テ液を希塩酸水洗、水洗、無水芒硝乾
燥、溶媒を減圧下に留去と順次行なって得られた残渣に
ジアゾメタンのエーテル溶液をジアゾメタンの黄色が消
失しなくなるまで加えてエーテルを留去し油状残渣０．
４０ｇを得た。この残渣を、シリカダルカラムクロマト
グラフイーに付すことによシ目的化合物０．２４．９を
得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸｆｆｉ　　、　９７
５　、１０２０　、１０３０ｍ１０７５　、１１３０．
１２００　、１５９０　、１６２０　。

７４Ｏ ＮＭＲ玉イクトル（ＣＤＣ２３）δ：３．６７（３Ｈ，
ｓ）、４．７２（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、４．９２（２Ｈ，
ｓ）、５．０−５．６８（３Ｈ，ｍ）、５．７１（ＩＨ
，ｂｒ、ｓ）実施例１１ 実施例１０で得たジビラニル体０．２２ｊｉをテトラヒ
ドロフラン４　ｍｌに溶解して酢酸８ゴを加え５０℃で
攪拌中、水１５ｍ／を白濁しない程度に徐々に滴下しつ
つ３時間攪拌する。反応液を、水１５０ゴに希釈して酢
酸エチル抽出、抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液にて
酢酸を除去。

飽和食塩水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順
次行なって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付すことによシ０．１５ｇの目的化合物を得
た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａｚｃｍ−’　：　９６
５　、１０８７　。

１１５０　、１４３０　、１５９０　、１６２０　、１
７４０　。

３５Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３）δ：　０．９４（３Ｈ
，ｄ）、１．６２（３Ｆｉ、ｓ）、１．６．９（３Ｈ，
ｓ）、３．６９（３Ｅ（。

Ｓ）、４．１６（ＬＨ，ｍ）、４．９３（２Ｈ，ｓ）、
５．１３（ＩＨ，ｔ）、５．６（２Ｅ（、ｍ）、５．７
４（ＩＨ，ｓ）実、雄側１２ 実施例１１で得たメチルエステル体０．１３．９をメタ
ノール７ｄに溶解して５％水酸化ナトリウム水溶液３ゴ
を加えて、室温で１時間攪拌する。

反応液を水ｘｏｏｍｇに希釈して希塩酸水にて酸性とし
て酢酸エチル抽出、抽出液を飽和食塩水洗、無水芒硝乾
燥、溶媒を減圧下に留去と順次行ない０．１２１１の目
的化合物を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νゆα　、９６５　、１０８
５　、１２３０゜１４５０　、１５９５　、１６２３　
、１７０７　、２６３０　。

３２Ｏ ＮＭＲスイクトル（ＣＤＣｔ、＋Ｄ２０）δ：０．９４
（３Ｈ，ｄ）、１．６１（３Ｈ，ｓ）、１．６９（３Ｆ
ｉ、ｓ）、３．１３　（ＩＨ。

ｍ）、３．７７（ＩＨ，ｍ）、４．１８（ＩＨ，ｍ）、
４．９４（２Ｈ，ｓ）、５．１３（ＩＨ，ｔ：Ｊ＝７．
５Ｈｚ）ミ５．５５（２Ｈ，ｍ）、５．７４（ＩＨ，ｓ
）実施例１３ 実施例９で得たヒドロキシ体（オクト−３−エン体）０
．２９９を実施例１０と同様に処理して目的化合物０．
１８ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｆｆｉ−１＝９７０
　＊　１０２０　　。

１０７５．１１３０．１２００．１４３５．１５９５　
。

１６２３．１７４Ｏ ＮＭＲス”！クト／Ｉ／　（ＣＤＣＪ！−３）δ：　ｏ
、９ｓ（３ｕ、　ｍ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、４．７
３　（２Ｈ、ｂｒ、ｓ　）、４．９０（２Ｈ，ｓ）、５
．０−５．８（４Ｈ，ｍ）実施例１４ 実施例１３で得たジピラニル体０．１６ｇを実施例１１
と同様に処理して目的化合物０．１１Ｊを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）ν皿Ｘｃｒｎ　、９７０．１
０８５　。

１１５０　、１４３０　、１５９０　、１６２３　、１
７４０．３３５ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＯＬ、）６ｍ
　０．９２　（３Ｈ，ｄ）　、１．５９（３Ｈ，ｓ）、
１．６５（３Ｈ，ｓ）、３．６２（３Ｈ，ｓ）、４．１
２（ＩＨ，ｍ）、４．８４（２Ｈ，ｓ）、５．０３　（
ＩＨ。

ｔ　：　Ｊ　＝　７．５Ｈｚ）、５．４３−５．６３　
（３Ｈ，ｍ）実施例１５ 実施例１４で得たメチルエステル体０．１１ｇ、を実施
例１２と同様に処理して目的化合物０．１５ＩＩを得た
。

工Ｒ７，−！！クトル（Ｌｉｑ）νｍＥＬｘ（７Ｆ＋−
’　：　９７０　、１０８０’　。

１２４０　、１４５０　、１５９０　、１６２３　、１
７０５　。

２６３０　、３３２Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ／＝３）δ：０．９４（３Ｈ
，ａ）、１．６１（３Ｈ，ｓ）、１．６９（３Ｈ，ｓ）
、３．７８（ＬＨ，ｍ）、４、ｚ３（ｘａ、ｍ）、４．
９５（２Ｈ，ｓ）、５．１３（ＩＨ。

ｔ　：　Ｊ＝７．５Ｈｚ）、５．６３　（２Ｈ，ｍ）　
、　５．７７（ＩＨ。

Ｓ） 〔α）　、　＋１００．２’　（Ｃ＝１．０．　ＣＨＣ
Ｌ３）実施例１６ ヒドロビラニルオキシ）〜１−オクテニル〕−３，３−
メトキシ力Ａ／　＆　ニルメチレン−６β−〔３α−（
２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−オクテニル〕
−７α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ビシクロ
（３，３，０）オクタン１．９７ｇを実施例１と同様に
処理して目的化合物２．１５９を得た。

’工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）νｚａｚｉ’　：１０２０
　、１０７５　、１７４ＯＮ′ＭＲスペクトル（ＣＤＣ
ｔ３）δ二３．６４（３Ｈ，ｓ）、　　−４，４５（２
Ｈ，ｓ）、４．７０（２Ｈ，ｍ）、５．３−５．７（３
Ｈ，ｍ）、了３２Ｃ：ＳＨ，β） 実施例１７ エンの混合物 エステル体（実施例１６の化合物）２．１９を実施例２
と同様に処理して目的化合物２．０ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸｃＷ１．１０２５　
、１０８０　、３４９ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３
）δ：　０．９４（３Ｈ，ｍ）、４．５０　　・（２Ｈ
，ｓ）、４．７０（２ｑ、ｍ）、５．３−５．７（３Ｈ
。

ｍ）、７．３６（５Ｈ，ｓ） 実施例１８ ヒドロキシ体（実施例１７の化合物）１．９５ｇを実施
例３と同様に処理して目的化合物２．３２，９を得た。

ＩＲス４クトル（Ｌｉｑ）νｍａｚｃｒｎ　　−１０２
０，１０１０７５Ｎスイクトル（ＣＤＣｔ、）δ：０．
８８（９Ｈ，ｓ）、４．５０（２Ｈ，ｓ）、４．７３（
２Ｂ、ｍ）、５．２−５．８（３Ｈ，ｍ）、７．３６（
５Ｈ，ｓ） 実施例１９ ベンジル体（実施例１８の化合物）２．２８ｇを実施例
４と同様に処理して目的化合物１．７２．９を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）ν、ｍａＸｃｒｎ、　８４０
　、９８０　、１０２０゜１０８０　、１１２０　、１
２５５　、３４８ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３）δ
：　０．８８（９Ｈ，ｓ）、４．７４（２Ｈ，ｍ）、５
．２−５．８　（３Ｈ、ｍ　）実施例２０ ヒドロキシ体（実施例１９の化合物）１．６（１を実施
例５と同様に処理して目的化合物１．８０ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸＱＩ！−’　：　８
４０．９８０　、１０２０゜１０３０　、１０８０　、
１１２０　、１２３０　、１７４５ＮＭＲスペクトル（
ＣＤＣ２３）δ：　０．９０（９Ｈ，ｓ）、２．０３（
３Ｈ，Ｓ）、４．０５（２Ｈ，ｔ：Ｊ＝６Ｈｚ）、４，
７４（２Ｈ，ｍ）、５．３−５．８　（３Ｈ、ｍ　）実
施例２１ ンの混合物 シリルエーテル体（実施例２０の化合物）１．８３ｇを
実施例６と同様に処理して目的化合物１．５０！ｉ＋を
得た。

工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）シＩｎａｘｆｆｉ−’　：　
９８０　、１０２０　、１０３０゜１７４５　．３４８
Ｏ ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣｔ、）δ：０．８８（３Ｈ
，ｍ）、２．０３（３Ｈ，ｓ）、４．０５（２Ｈ，ｔ：
Ｊ＝６Ｈｚ）、４．７０（２Ｈ，ｍ）、５．２−５．７
（３Ｈ，ｍ）実施例２２ ヒドロキシ体（実施例２１の化合物）１．５５．９を実
施例７と同様に処理して目的化合物１．７５ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ（”−’　：　９７
５　、１０２０．１０３０゜７４Ｏ ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣ２３）δ：０．８６（３Ｈ
，ｍ）、２．０３（３Ｈ，ｓ）、２．９７（３Ｈ，ｓ）
、４．７３（３Ｈ，ｍ）、５．３−５．７　（３Ｈ、ｍ
　） 実施例２３ 一二 メチルスルホニルオキシ体（実施例２２の化合物）１．
７５ｇを実施例８と同様に処理して目的化合物１．３３
ｐを得た。

ＩＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ”−’　：　９８
０　、１０２０　、１０３０゜１０８０　、１１３５　
、１２４０　、１５９５　、１６２５　。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３）δ：ｏ、ｓｃ＋（３Ｈ
，ｔ）、２．０３（３Ｈ，ｓ）、４．９０（２Ｈ，ｓ）
、５．２−５．８　（３Ｈ。

伍） 実施例２４ アセトオキシ体（実施例２３の化合物）　１．３５ｇを
実施例９と同様に処理して目的化合物のオクト−２−エ
ン体（より極性の高い化合物）０．７３９及びオクト−
３−エン体（より極性の低い化合物）０．５４ｇを得た
。

ＩＨスにクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ”　　、　９８０　
、１０２０　、１０３５゜１０８０　、１５９５　、１
６２５　、３４５ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δ
：　０．９０（３Ｈ，ｍ）、３１０（、ＩＨ，ｍ）、４
．７３　（２Ｈ、ｂｒ、ｓ）、４．９２　（２Ｈ。

Ｓ）、５．２−５．８（３Ｈ，ｍ） ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シＩＢｚｃｍ−１：　９７５
　、１０２０　、１０８０゜１５９５　、１６２５　、
３４６Ｏ ＮＭＲ，１，ベクトル（ＣＤＣｔ３）δ：　０．９０（
３Ｈ，ｍ）、４．７４（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、４．９２（
２Ｈ，ｓ）、５．２−５．８（３Ｈ，ｍ） 実施例２５ ヒドロキシ体（実施例２４の化合物）　０．７１７を実
施例１０と同様に処理して目的化合物０．４Ｉを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌユｑ）νｍａＸ”−’　：　９７５
　、１０２０　、１０７５＋１１３５　、１２００　、
１５９５　、１６２５　、１７４ＯＮＭＲスペクトル（
’ＣＤＣｔ３）δ：　０．８５　（３Ｈ，ｍ）、３．６
７（３Ｈ，ｓ）、４．７３（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、４．９
２　（２Ｈ。

Ｓ）、５．７０　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、ｓ）実施例２６ ジピラニル体（実施例２５の化合物）０．３６ｆ！を実
施例１１と同様に処理したのち酢酸エチルとｎ−へキサ
ンにて再結晶することによシ、融点６９−７０℃を有す
る目的化合物０．１５＆を得た。

ＩＲス４クトル（Ｎｕｊ　ｏｌ）νｍａＸ”−１：９７
０　＋　１０６５　、１１８０゜１２１０　、１５９０
　、１６２０　、１７３０　、１７４５　。

４４Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：０．９０（３Ｈ，
ｔ、）、３．１０（ｉＨ，ｍ）、３．６’８（３Ｈ，ｓ
）、４．９３　（２Ｈ，’　ｓ）、５．５７（２Ｈ，ｍ
）、５．７４　（Ｌ　Ｈ、ｂｒ、ｓ）〔α］Ｄ−３１，
１°（Ｃ＝１．０　、　ＣＨＣｌ３）実施例２７゛ −エン エステル体（実施例２６の化合物）０．１８ｇを実施例
１２と同様に処理したのち酢酸エチルとｎ−ヘキサンに
て再結晶することによシ、融点７８−８０℃を有する目
的化合物０．１５ｇを得た。

工Ｒスペクトル（Ｎｕｊ　ｏｌ　）νｍａｘｃｍ−’　
：　９７０　ｒ　１０８０　＋　１５９５゜１６２５．
１６８０．１７２５．１７４５．２６２０，３４０ＯＮ
ＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δ：０．９０（３Ｈ，ｔ
）、３．０７（ＩＨ，ｍ）、３．６−４．２（２Ｈ，ｍ
）、４．９４　（２Ｅ（。

Ｓ）、５．５５（２Ｈ，ｍ）、５．７４（ＬＨ，ｓ）〔
α〕智−３３，４°（Ｃ＝１．０．ＣＨＣＬ３）実施例
２８ ヒドロキシ体（実施例２４のオクト−３−エン体）０．
５２ｐを実施例１０と同様に処理して目的化合物０．４
０ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸＣｒｎ、９７５　、
１０２０　、１０７５＋１５９５　、１６２５　、１７
４Ｏ ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣｌ２）δ：０．９３（３Ｈ
，ｍ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、４．７３　（２Ｈ、ｍ
　）、４．７０（２Ｈ，ｓ）、５．３−５．７（３Ｈ，
ｍ） 実施例２９ ジピラニル体（実施例２８の化合物）０．３８ｇを実施
例１１と同様に処理して目的化合物０２２５ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａｚｃｍ−１：’９７０
　、１０９０　、１°５９５゜１６２５　、１７４０　
、３３６Ｏ ＮＭＲス＜クト＃　（ＣＤＣ２３）δ：　０．９０（３
Ｈ，ｔ、）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、４．９４（２Ｈ，
ｓ）、５．６２　（２Ｈ，ｍ）、５．７５（ＩＨ，ｓ） 〔α〕管＋１２１．０°（Ｃ＝１．０　、　ＣＨＣＬ３
）実施例３〇 一エン エステル体（実施例２９の化合物）０．２３ｇを実施例
１２と同様に処理したのち酢酸エチルとｎ−ヘキサンに
て再結晶することによシ、融点８８−８９℃を有する目
的化合物０．２０ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｎｕｊｏｌ）νｍａＸ”−’　：　９
６５　、１０８０　。

１１８０　、１５９５　、１６２５　、１７１０　、１
７３０　。

３８Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：０．８８（３Ｈ，
ｔ）、３．５−４．２（２Ｈ，ｍ）、４．９３（２Ｈ，
ｓ）、５．５８（２Ｈ，ｍ）、５．７５（ＩＨ，ｓ） 〔α）＋１３７．４°（Ｃ＝　１．０　、　ＣＥ（ＣＥ
３）実施例３に エン ３．３−メトキシカルボニルメチレン−６β−〔３α−
（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−メチル−１
−オクテニル〕−７α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）ビシクロ［３，３，０：］オクタンを出発原料と
して、実施例１乃至実施例９と同様の反応を順次行うこ
とによって、標記目的化合物が得られる。

実施例３２ オクト−２−エン体（実施例３１の化合物）を用いて、
実施例１０．１１及び１２と同様の反応を順次行うこと
によって、標記目的化合物が得られる。

実施例３３ ３−エン ３．３−　（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔
３α−（２−テトラヒドロピラニル）−４，４−ジメチ
ル−１−オクテニル〕−７α−（２−テトラヒドロピラ
ニルオキシ）ビシクロ（３，３，０）オクタンを出発原
料として、実施例１乃至実施例９と同様の反応を屓次行
うことによって、標記目的化合物が得られる。

実施例３４ オクト−２−エン体（実施例３３の化合物）を用いて、
実施例１０．１１及び１２と同様の反応を頭次行うこと
によって、標記目的化合物が得られる。

実施例３５ （３，３，０）オクト−２−エン ３．３−　（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔
３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４，４−
ジメチル−１，８−ノナシュエル〕−７α−（２−テト
ラヒドロピラニルオキシ）ビシクロ（３，３，０）オク
タンを出発原料として、実施例１乃至実施例１２と同様
の反応を順次行うことによって、標記目的化合物が得ら
れる。

実施例３６ ３．３−（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔３
α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−メチル
−１，７−オクタジェニル〕−７α−ヒドロキシビシク
ロ（３，３，０）オクタンを出発原料として、実施例１
乃至実施例１２と同様の反応を順次行うことによって、
標記目的化合物が得られる。

実施例３７ ３．３−　（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔
３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−５α−メ
チルノナ−１−エニル〕−７α−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ）ビシク≦（３，３，０）オクト−２−エ
ンを出発原料として、実施例１乃至実施例１２と同様の
反応を順次行うことによって、標記目的化合物が得られ
る。

実施例３８ ３．３−　（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔
３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−３−シク
ロヘキシル−１−プロ４二＃　’１１−７α−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）ビシクロ（３，，３，０：
ｌオクタン２．７ｇを実施例１と同様に処理して目的化
合物３．４．ｌｉ＋を得た。

工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｃｒｎ−’　：　９
８０　、１０２５　、１０３５゜１０８０　、１７４Ｏ ＮＭＲス４クトル（ＣＤＣｌ２）δ：３．６５（３Ｈ，
ｓ）、４．５０（２Ｈ，ｓ）、５．３−５．７（３Ｈ，
ｍ）、７．３４　（５Ｈ。

Ｓ） 実施例３９ エステル体（実施例３８の化合物）３．３ｇを実施例２
と同様に処理することにょシ目的化合物３．１ｇを得た
。

ＩＲス４クトル（Ｌｉｑ）シヱエα　、　９７５　、１
０２０　、１０３０゜１０７５　．３４８Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δ：４．５０（２Ｈ，
ｓ）、４．６８（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．３−５．７（
３Ｈ，ｍ）、７．３４（５Ｈ，ｓ） 実施例４０ ヒドロキシ体（実施例３９の化合物）　３．１　ｇを実
施例３と同様に処理して目的化合物３．６１を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シュＩＣｍ−’　：　９８０
　、１０２５　、１０１０３５Ｎスペクトル（ＣＤＣ２
ρδ：０．８８（９Ｈ，ｓ）、４．５０（２Ｈ，ｓ）、
４．７０（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．１−５．７（３Ｈ，
ｍ）、７．３６（５Ｈ，ｓ） 実施例４１ 物 ベンジル体（実施例４０の化合物）３．６ｉｉを実施例
４と同様に処理して目的化合物２．５９を得た。

ＩＲスヘク）　Ａ／　（Ｌｉｑ　）　ｖ　ｍａＸＱ”−
’　：　９８０　＋　１０２０　、１０３０゜１０８０
　、１１２０　、３４８Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３）δ：０．８７（９Ｈ，
ｓ）、４．７０（２Ｈ，ｍ）、５．３−５．７（３Ｈ，
ｍ）実施例４２ （２−テトラヒドロピラニルオキシ）ビジクロンの混合
物 ヒドロキシ体（実施例４１の化合物）１．８５ｇを実施
例５と同様に処理して目的化合物１．９５ｇを得た。

ＩＲスｄクトル（Ｌｉｑ）νｍａｚ　ｃｍ　　、　８３
５　、９７５．１０２０＃１０３０　、１０７５　；　
１１２０　、１２３０　、１７４３ＮＭＲスペクトル（
ＣＤＣｌ２）δ：０．８８（９Ｈ，ｓ）、’２．０３（
３Ｈ，ｓ）、４．０７（２Ｈ，ｔ；Ｊ　＝６Ｈｚ）、４
．７４（２Ｈ，ｍ）、５．３−５．７（３Ｈ，ｍ）実施
例４３ シリルエーテル体（実施例４２の化合物）１．９ｇを実
施例６と同様に処理して目的化合物１．６ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａｚ　ｃｍ−’　：　９
７５　、１０２０　、１０３０゜１０７５　、１１２０
　、１１３０　、１２４０　、１７４０　。

４７Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：２．０３（３Ｈ，
ｓ）、４．０６（２Ｈ，ｔ　；Ｊ＝６Ｈｚ）、４．６８
（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．３−５．７（３Ｈ，ｍ） 実施例４４ ヒドロキシ体（実施例４３の化合物）１．５：１１を実
施例７と同様に処理して目的化合物１．７ｇを得た。

工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸｃＩｎ、　９７５　
、１０２０　ｍ　１０３０　。

１１７５　、１２４０　、１３６０　、１７４ＯＮＭＲ
スペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：２．０３（３Ｈ，ｓ）、
２，９７（３Ｈ，ｓ）、４．７０　（２Ｈ、ｂｒ、ｓ）
、５．３−５．７（３Ｈ，ｍ） 実施例４５ メチルスルホニルオキシ体（実施例４４の化合物）１．
８ｇを実施例８と同様に処理して目的化合物１．４３ｇ
を得た。　　゛ ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸｃｒｎ−’　：　９
７５　、１０２０　、１０３０゜１０８０　、１２４０
　、１５９５　、１６２５　、１７４ＯＮＭＲスペクト
ル（ＣＤＣ４３）δ：２．０３（３Ｈ，Ｓ）、４．７０
（２８，ｍ）、４．９０（２Ｈ，ｓ）、５．２−５．８
（３Ｈ，ｍ） 実施例４６ オキシ）−３−シクロヘキシル−１−プロベニＩを実施
例９と同様に処理して目的化合者イツト−２−エン体０
．８９ｇ（よシ極性の高い異性体）及びオクト−３−エ
ン体（より極性の低い異性体）０．３８．Ｆを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ”−’　：　９７５
　＋　１０２０　、１０３０＋１０７５　、１１２０　
、１１３５　、１２００　、１４５０　。

１５９５　、１６２５　、３４７Ｏ ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣｌ２）δ：４．７２（２Ｈ
，ｍ）、４．９２（２Ｈ，ｓ）、５．７０　（ＩＨ，ｂ
ｒ、５）ＩＲス４クトル（Ｌｉｑ）シ９工σ　、　９７
５　、１０２０　、１０８０゜１１２０　、１１３５　
、１２０５　、１４５５　、１５９５　。

１６２５　、３４８Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δ：４．７０（２Ｈ，
ｍ）、４．９０（２Ｈ，ｓ）、５．２−５．８（３Ｈ，
ｍ）実施例４７ ヒドロキシ体（実施例４６のオクト−２−エン化合物）
０．８６．９を実施例１０と同様に処理して目的化合物
０．５４ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νヱエー　、　９８０　、１
０２５　、１０３５゜１０８０　、１２０５　、１５９
５　、１６２５　、１７４５ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ
１３）δ：３．６７（３Ｈ，ｓ）、４．７３（２Ｈ，ｂ
ｒ、ｓ）、４．９３（２Ｈ，ｓ）、５．３−５．８（３
Ｈ，ｍ） 実施例４８ ジビラニル体（実施例４７の化合物）０．５１Ｊを実施
例１１と同様に処理したのち酢酸エチルとｎ−ヘキサン
にて再結晶することにより、融点７６−７８℃を有する
目的化合物０．２０ｇを得た。

工Ｒスペクトル（Ｎｕｊ　ｏ　ｌ）νｍａＸ”−”　１
５９０．１６２０＋１７２０　、１７３５　、３４６Ｏ ＮＭＲスペクト／ｌ／　（ｃＤｃｔ３）’δ：３．１４
（ＩＨ，ｍ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、３．６−３．９
　（２Ｈ，ｍ）、４．９４（２Ｈ，ｓ）、５．５５（２
Ｈ，ｍ）、５．７５　（ＩＨ，ｓ）〔α］　２Ｄ’−１
８，３°（Ｃ＝　１．０　、　ＣＥ（ＣＥ３）実施例４
９・ エステル体（実施例４８の化合物）０．２５ｇを実施例
１２と同様に処理したのち酢酸エチルとｎ−ヘキサンに
て再結晶することによシ、融点６０−６５℃を有する目
的化合物０．２１を得た。

工Ｒスペクトル（Ｎｕｊｏｌ）νｍａｘ　ｃｍ　　、　
９８０．１０８０−１５９５゜１６２５．１７１０．２
６７０．２７３０．３２８ＯＮＭＲス硬クトル（ｃＤｃ
ｔ３）δ：３．１０（ＩＨ，ｍ）、３．６−３．９（２
Ｈ，ｍ）、４．９４（２Ｈ，ｓ）、５．５５　（２Ｈ。

ｍ）、５．７５（ＩＨ，ｓ） 〔α：ｌ２ｏ３−２２．６°（Ｃ’＝１．０　、　ＣＨ
Ｃｌ５）実施例５０ ヒドロキシ体（実施例４６のオクト−３−エン体）０．
３６ｇを実施例１０と同様に処理して目的化合物０．３
０ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｃｒｎ、９７５　＋
　１０２５　＋　１０８（Ｌ１１３５　、１２０５　、
１４５０　、１５９５　、１６２５　。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δ：　３．６７　（３
Ｈ、ｓ　）、４．７３（２Ｈ，ｍ）、４．９３（２Ｈ，
ｓ）、５．３−５．９　（３Ｈ。

ｍ） 実施例５１ ジビラニル体（実施例５０の化合物）０．２７ｇを実施
例１１と同様に処理したのち酢酸エチルとｎ−ヘキサン
にて再結晶することによシ、融点８０−８２℃を有する
目的化合物０．１３．９を得た。

五スペクトル（Ｎｕｊ　ｏｌ）シｍａＸｆｆｉ−’　：
　９６０　、１０８０　、１１５０゜１２１０　、１５
９０　、１６２０　、１７４０　、３４２ＯＮＭＲスペ
クトル（ＣＤＣ４３）δ：３．６７（３Ｈ，ｓ）、４．
９４（２Ｈ，ｓ）、５．６（２Ｈ，ｍ）、５．７６　（
Ｉ　Ｈ、ｂｒ、ｓ）〔α：］　’、’　＋１３７．８°
（Ｃ＝　１．０　、　ＣＨＣｌ３）実施例５２ ロ［３，３，０］オクト−３−エン エステル体（実施例５１の化合物）０．１２ｇを実施例
１２と同様に処理したのち酢酸エチルとニーヘキサンに
て再結晶することによシ、融点１０２−１０７℃を有す
る目的化合物０．１０ｇを得た。

ＩＲスイクトル（Ｎｕｊｏｌ）νｍａｚｃｍ　　、　９
７０　、１５９５゜１６２５　、１６９０　、１７１０
　、１７５０　、３２８０゜４０Ｏ ＮＭＲスＲクトル（ＣＤＣ４３）δ：３．８（２Ｈ，ｍ
）、４．９４（２Ｈ，ｓ）、５．６（２Ｈ，ｍ）、５．
７６　（ＩＨ，ｓ）〔α〕２ｏ３＋１４１．７°（Ｃ＝
１．０　、　ｃａｃｔ３）実施例５３ ２−エン ジピラニル体（実施例４６のよシ極性の高い化合物：ｚ
４１ｍ９）をジメチルスルホキシド３ｍｌにとかしトリ
゛エチルアミン０．７−を加えた。

この混合液に攪拌下、ビリノン−無水硫酸複合体７３０
ｍ９のジメチルスルホキシド溶液３　ｒｎｌを室温にて
滴下した。３０分攪拌したのち氷水にあけ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を飽和食塩水、冷１チ塩酸、稀重曹
水次いで飽和食塩水で洗滌したのち、無水硫酸ナトリウ
ムと共に乾燥した。溶媒を留去すると油状のアルデヒド
体２３９１Ｑ［ＩＲス啄クりル（Ｌｉｑ）シｍａｘｍ−
’　：　２７２０　。

１７１０〕が得られた。このアルデヒド体を実施例１１
と同様に反応処理すると１０３すの目的化合物゛が得ら
れた。

ＩＲス’　り）　／’　（ＣＨＣＬ３　）　’ｒｎ；５
ｘｃｒｎ−１：　９７０　＋　１５９０　＋　　。

１６２０．１７１８．３３５０ 実施例５４ ３．３−　（メトキシカルボニルメチレン）−６β−Ｃ
３（！、−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−
シフローンチル−１−ブテニル〕−７α−（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ）ビシクロ（３，３，０）オクタ
ンを出発原料として実施例１乃至実施例１２と同様の反
応を順次行うことによって標記目的化合物が得られる。

実施例５５ ３．３−（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔３
α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−７二ノ
キシー１−ブテニル〕−７α−（２−テトラヒドロビラ
ニルオキシ）ビシクロ（３，３，０）オクタンを出発原
料として実施例１乃至実施例１２と同様の反応を順次行
うことによって、標記目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（ｃａｃｚ３）シｍａＸｆｆｉ−’　：
　９５６　、１２３０　＊１５９５　、１６０α、　１
６２４　、１７０４　、３３２０実施例５６ ドロピラニルオキシ）−５（］：］０．９−ジメチルー
１，８無水テトラヒドロフラン５Ｑｍにジシクヘキシル
アミン２．７４ｍＡ！を溶解して一７８℃に冷却し、１
５％ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン溶液）８．３８ＴＬ
ｌを滴下して１０分間攪拌後、ヘキサメチルホスホルア
ミド２．３　ｍｌを滴下して１０分間攪拌する。次いで
、３．３−　（メトキシカル？ニルメチレン）−６β−
〔３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−５β、
９−ジメチル−１，８−デカジェニル〕−７α−（２−
テトラヒドロピラニルオキシ）ビシクロ（３，３，０）
オクタン５．（ｌをテトラヒドロ７ラン１０ｒＩｔ／！
に溶解して滴下し、１０分間−７８℃に攪拌したのち、
モノクロルメチルベンジルエーテル１．９１ｍ１をテト
ラヒドロ７ラン５　Ｉ＋Ｉｔに溶解して滴下し−２５〜
−３０℃に３０分間攪拌した。反応溶液に、飽和塩化ア
ンモニウム水溶液５ゴを加えて１０分間攪拌後、室温に
戻して水５００ｍ１！に希釈し酢酸エチル抽出、抽出液
を水洗、希塩酸水洗、水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧
下に留去と順次行なって得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付すことにより目的化合物３．
０ｇを得た。

工Ｒスにクトル（Ｌｉｑ）νｆｎａｚ　ｃｍ−’　：９
７５　、１０２０　、１０３０゜１０８０　、１１２０
　、１２００　、１７４３ＮＭＲス４クトル（ｃｐｃｚ
３）δ：３．７０（３Ｈ，ｓ）、４．５５（２Ｈ，ｓ）
、４．７０（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．１５（ＩＨ。

ｔ、　；Ｊ＝７．５Ｈｚ）、５．３５−５．７　（３Ｈ
，ｍ）、７．３６（５Ｈ，ｓ） 実施例５７ 無水テトラヒドロフラン５０ｍ／に水素化アルミニウム
リチウム０．３ｇを懸濁して、氷冷却攪拌下にエステル
体（実施例５６の化合物）３．１リウム水溶液１．２　
ｍｌを滴下して室温に１．５時間攪拌後、析出した不溶
物をセライトを用いて炉去しＦ液を濃縮することによシ
目的化合物２．９ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａ！”−’　：　９８０
　、１０２０　、１０３０゜１０７５　、１１２０　、
１２００　、１４５０　、３４７ＯＮＭＲ，１，ベクト
ル（ＣＤＣ１３）δ：０．９５（３Ｈ，ｍ）、４．５３
（２Ｈ，ｓ）、４．７０（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．０−
５．９（４Ｈ，ｍ）、７．３６（５Ｈ，ｓ） 実施例５８ 実施例５７で得たヒドロキシ体２．９．９を無水テトラ
ヒドロフラン１２ｍ１に溶解して、１５％ｎ−ブチルリ
チウム（ｎ−ヘキサン溶液）３．８ｍＡ’を氷冷却攪拌
下に滴下し５分間攪拌後、ジメチルホルムアミド５　ｍ
ｌ　、モノクロル酢酸のリチウム塩０．６’ｌ、ジメチ
ルスルホキシド５　ｍｌ　、無水ヨウ化ナトリウム２．
０５９と頭次加えて１時的に４０℃まで加温したのち、
室温に１６時間攪拌した。反応溶液を氷水１５０ｍ／に
希釈して塩酸酸性として酢酸エチル抽出、抽出液を水洗
、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行なって得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
すこと・により目的化合物２．２ｙを得た。

凪スペクトル（Ｌｉｑ）νｍａｚ　ｃｍ−’　：　９８
０　、１０２０　、１１３０゜１７３５　、１７６０　
、３２００ 船スペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：４．０８（２Ｈ，ｓ）
、４，５３・（２Ｈ，ｓ）、５．１５　（ＬＨ，ｔ　：
Ｊ　＝７．５Ｈｚ）、５．３−５．７（３Ｈ，ｍ）、７
．３６（５Ｈ，ｓ）、８．７３（ＩＨ，ｂｒ、ｓ） 実施例５９ ンの混合物 実Ｍ例５８で得たベンジルオキシ体２．２　、！ｉ’　
ヲ冥雄側４と同様に処理（後処理において水で希釈、の
ちに、塩酸酸性として抽出する。）して得られた残渣に
ジアゾメタンのエーテル溶液をジアゾメタンの黄色が消
失しなくなるまで加え。

エーテルを留去して残渣をシリカダルカラムクロマトグ
ラフィーに付すことにより目的化合物１、ＩＩを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａｘｃｒｎ−”　：９８
０　、１０２０　、１０３０゜１０７５　、１１３０　
、１２００　、１４４０　、１７４０゜１７６０　、３
５０Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２３）δ：３．７０（３Ｈ，
ｓ）、４．１３（２Ｈ，Ｓ）、４．７３　（２Ｈ、ｂｒ
、ｓ）、５．１５（ＩＨ。

ｔ　；　Ｊ　＝７．５　Ｈｚ　）、５．４−５．７　（
３Ｈ、ｍ）実施例６０ 実施例５９で得たヒドロキシ体０．８７ｇを実施例７と
同様に処理して目的化合物０．９７９を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ”　　、　９８０　
、１０２５　、１１４０゜１１８０　、１３６０　、１
７６０ 懇スペクトル（ＣＤＣＬ５）δ：３．０（３Ｈ，ｓ）、
３．７７（３Ｈ，ｓ）、４．１０（２Ｈ，ｓ）、４．３
９（２Ｈ。

ｄ：Ｊ＝６Ｈｚ）、４．７３　（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５
．０−５．７（４Ｈ，ｍ） 実施例６１ キシカルゼニルブチル）−６β−〔３α−（２−テ実雄
側６０で得たメチルスルホニルオキシ体０．９５ｇを実
施例８と同様の処理を行ない目的化の 金粉イクトー２−二ン体０．４６５’とオクト−３−エ
ン体０．２５．９を得た。

工Ｒスペクトル（Ｌｉｑ）シシェロー’　：　９８０　
、１０２０　、１０３０゜１０？５　、１１３０　、１
２００　、１４４０　、１５（１５。

１６３０　、１７６Ｏ ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣ４３）δ：　０．９５　（
３Ｈ，ｍ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、４．０８（２Ｈ，
ｓ）、４．３０（２Ｈ，ｓ）、４．７３　（２Ｈ、ｂｒ
、ｓ）、５．１２（ＩＨ，ｓ）、５．２４（ＩＨ，Ｓ）
、５．８８　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、５）ＩＲスペクトル（Ｌ
ｉｑ）νＩｎａＸｌ”−１：９７５　、１０２５　、１
０８０＋１１３５　、１２０５　、１４４０　、１７４
５　、１７６ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｊ３）δ：３
．７？（３８，ｓ）、４．１０（２Ｈ，ｓ）、４．３０
（２Ｂ、ｓ）、５．１０（ＩＨ，ｓ）、５．２３　（１
ｆ−１，ｓ　）、５．８８（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）実施例６
２ 一エン 実施例６１で得たオクト−２−エン体０．４３．９をテ
トラヒドロフラン７、５　ｒｎｌに溶解して酢酸１５＋
ａ６を加え５０℃で攪拌中、水２Ｑｍｌを白濁しない程
度に徐々に滴下しつつ３０分間攪拌した。反応液を、水
１５０ｍＡ！に希釈して酢酸エチル抽出、抽出液を炭酸
水素ナトリウム水溶液にて酢酸を除去、飽和食塩水洗、
無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行なって得ら
れた残渣をシリカダルカラムクロマトグラフィーに付す
ことによシ目的化合物０．２８．９を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸｃＩｎ、　９７０　
、１０９０　、１１３０＋１２１０．１４４０．１５９
５．１６３０．１７５５　。

３３７Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：　０．９４　（３
Ｅ（、ｄ　：Ｊ＝６Ｈｚ）、１．６２　（３Ｈ，ｓ　）
、１．６８（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、４．
１０（２Ｈ，ｓ）、４．３０（２Ｈ，ｓ）、５．１０（
ＩＨ，ｓ）、５．２３　（ＩＨ，ｓ　）、５．５７（２
Ｈ，ｍ）、５．９０（ＩＨ，ｓ）実施例６３ 実施例６２で得たエステル体０．２６ｇを実施例１２と
同様に処理して目的化合物０．２５ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａｚｃｍ−’　：　９７
０　＋　１０９０　、１１２０゜１２１０　、１３８０
　、１４５０　、１６００　、１６３０　。

１７３５　、２６３０　、３３５０ 小出スペクトル（ＣＤＣ４３）δ：０．９４（３Ｈ，ｄ
：Ｊ＝６Ｈｚ）、１６０　（３Ｈ，ｓ　）、１．６８（
３Ｈ，ｓ）、４．０８（２Ｈ，ｓ）、４−３２（２Ｈ，
ｓ）、５．１３（ＬＨ，ｓ）、５．２６（ＩＨ，ｓ）、
５．５（２Ｈ，ｍ）、５．９０　（Ｌ　Ｈ、ｂｒ、ｓ） 〔α）”、’−２３，９°（Ｃ＝　１．０　、　ＣＨＣ
ｌ３）実施例６４ 一エン 実施例６１で得たオクト−３−エン体０．２２ｇを実施
例６２と同様に処理して目的化合物０．１５１を得た。

・ ＩＲスペクトル（Ｉ４ｑ）ν、ｍａＸＧ”−’　：　９
７０．１０９０　＊　１１３０゜１２１０　、１４４０
　、１６００　、１６３５　、１７６０゜３８Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：０．９４（３Ｈ，
ｄ：Ｊ＝６Ｈｚ）、１．６１（３Ｈ，ｓ）、１．６８（
３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、４．１０（２Ｈ，
ｓ）、４．３０（２Ｈ，ｓ）、５．１３（ＩＨ，ｓ）、
５．２４（ＬＨ，ｓ）、５．６４（２Ｆ（。

ｍ）、５．９０（ＩＨ，ｓ） 実施例６５ 実施例６４で得たエステル体０．１２ｇを実施例１２と
同様に処理して目的化合物０．１１ｇを得た。

ＩＲス４クトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ”　　、　９７０　
＋　１０９０　＋　１１２５＋１２２０　、１３８０　
、１４５０　、１６００　、１６３５　。

１７４０　、２６５０　、３３５Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３）δ：０．９３（３Ｈ，
ｄ：、Ｔ＝６Ｈｚ）、ｉ、６０（３Ｈ，ｇ）、１．６８
（３Ｈ，ｓ）、４．０６（２Ｈ，ｓ）、４．３０（２Ｈ
，ｓ）、５．１３（ＩＨ，ｓ）、５．２３（ＩＨ，ｓ）
、５．６（２Ｈ，ｍ）、５．９３（ＩＨ。

ｂｒ、Ｓ） 〔α３％５　＋　ｇ　２．７°（Ｃ’＝１．０　、　Ｃ
ＨＣｌ３）実施例６６ シピシクロ（３，３，０”ｌオクト−２−エン３．３−
　（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔３α−（
２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−メチルノナ−
１，８−ジェニル〕−７α−（テトラヒドロピラニルオ
キシ）ビシクロ（３，３，Ｏ］オクタンを出発原料とし
て実施例５６乃至実施例６３と同様の反応を順次行うと
、標記目的化合物が得られる。

実施例６７ ３．３−（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔３
α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４，４−ジ
メチルノナ−１，８−ジェニル）−７α−（テトラヒド
ロピラニルオキシ）ビシクロ（３，３，０）オフタラを
出発原料として実施例５６乃至実施例６３と同様の反応
を順次行うと標記目的化合物が得られる。

実施例６８ ３．３−（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔３
α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−オクテ
ニル〕−７α−２−（テトラヒドロピラニルオキシ）ビ
シクロＣ３，３，０］オクタンを出発原料として実施例
５６乃至実施例６３と同様の反応を厘次行うと標記目的
化合物が得られた。

融点　４５−４７℃ 〔α〕２５３２．５°（Ｃ＝１．０　、　ｃＨｃｚ３）
ＩＲス被ツクトルＫＢｒ）　νｍａＸ”−’　：　９０
０　ｒ　９７０　ｒ１０９０　、１１２５　、１６３０
　、１７３０　、３４０ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣへ
）δ９．。：０．９０（３Ｈ，ｔ、）、３．１０（ＩＨ
，ｍ）４．０７（２Ｈ，ｓ）、４．３１（２Ｈ，ｓ）５
．１２（ＩＨ，ｓ）、５．２０（ＩＨ，ｓ）５．５５（
２Ｈ，ｍ）、５．９０（ＩＨ，ｓ）実施例６９ ３．３−　（メトキシカルボニルメチレン）−６βご〔
３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−３−シク
ロヘキシル−１−プロペニル〕−７α−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）ビシクロ（３，３，ｏ”ｌオクタ
ンを出発原料として実施例５６乃至実施例６３と同様の
反応を順次行うと、標記目的化合物が得られる。

実施例７０ ３．３−　（メトキシカルボニルメチレン）−６β−〔
３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−４−フェ
ノキシ−１−ブテニル〕−７α−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ）ビシクロ［３，３，０：１オクタンを出
発原料として、実施例５６乃至実施例６３と同様の反応
を順次行うと標記目的化合物が得られた。

ＩＲスイクトル（Ｌｉｑ）シｍａｚｃｍ−’　：１７３
５実施例７１ 一テトラヒドロピラニルオキシ）ビシクロ５５％油性ナ
トリウム水素８８ｍ９をヘキサンで洗滌した後、テトラ
ヒドロフランｌＱ＋＋＋４’を加え、水冷下ジメチル２
−オキソ−４，８−ジメチル−７−ツネニルホスホネー
）　７５０ｒｎ９を加え、更に室温で１時間攪拌した。

その後氷冷し、アルデヒド体（参考例８の化合物：５０
Ｃ）Ｉ！９）を加え、２時間反応した。反応終了後、氷
水にあけ酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後
、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ｂマドグラフィーで精製すると５２７■の油状の目的化
合物が得られた。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａｘｃｔｎ−’：　１５
９５　、１６３０゜１６７０　、１６９２　、１７５０ 実施例７２ （３，３，０：ｌオクト−２−エン ５１０ｍ９の塩化セリウム・７水和物をメタノール５　
ｒｎｌに溶かし、０〜５℃でエノン体（実施例７１の化
合物：５１５ｍｇ）のメタノール溶液５　ｒｎｌを加え
た。次いでこの反応液に攪拌下、０〜３℃で水素化ホウ
素ナトリウム１００ｍ９を加えＯ，ｓ時間反応した。反
応終了後、水を加えて酢酸エチルで抽出した。抽出液を
水洗、乾燥後溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製すると５０１ｒｎ９の油状
の目的化合物（３α−及び３β−の混合物）が得られた
。

工Ｒスペクトル（ＣＨＣＬ３）シ＆ｌｚｃｍ−’　；　
１０２０　、１５９５　ｍ１６２０　、１７５０　、３
４５０ 実施例７３ ピラニル体（実施例７２の化合物；４９５７Ｑ）を用い
実施例１１と同様に反応、処理すると、よシ極性の大き
い部分よシ３α−ヒドロキシ体１０１　ｍ９が得られ、
より極性の小さい部分より３β−ヒドロキシ体７０１Ｑ
が得られた。

ＩＲスｄ　り）　ｆｉｙ　（Ｌｉｑ）　シｍａｘｚ−’
　：９７０　、１０９０　、１１３０゜１２１０　、１
４４０　、１５９５　、１６３０　、１７５５　。

３α−ヒドロキシ体； ＩＲス＜　／　）　ｋ　（Ｌｉｑ）　ｌ’　ｍａｚｅ”
−’　：　９７０　、１０９０　、１１３０゜１２１０
　、１４４０　、１５９５　、１６３０　、１７５５　
。

実施例７４ アルデヒド体（参考例８の化合物：５１０■）及びジメ
チル２−オキノー３−メチル−５，５，６，６−チトラ
デヒドロへプチルホスホネー）　７７０ｍ９を用い実施
例７２と同様に反応、処理すると５２３　ｍ９の油状の
目的化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａｘｃｍ−’：　１５９
５　＃　１６３０゜１６７０　、１６９２　、１７５０ 実施例７５ エノン体（実施例７４の化合物；５１ｏ■）。

水素化ホウ素す・トリウム１００■、及び塩化上　゛リ
ウムー７水和物５２０１ｎ９を用い実施例７３と同様に
反応、処理すると５０１■の油状の目的化合物が得られ
た。

ＩＲスペクトル（ＣＨＣＬ３）シｍａｘα−’：１０２
０　ｓ　１５９Ｌ１６２２　、１７５０　、３４５０ 実施例７６ キシカルボニルブチル）−６β−（３−とドロキシアル
コール体（実施例７５の化合物：５００ダ）を用い実施
例７３と同様に反応、処理すると１５７９の油状の目的
化合物が得られた。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａｘ’ｃｍ−’　：　９
７０　＋　１２５０　＋　１５９５゜１６２５　、１７
５０　、３３７０ 実施例７７ エステル′体（実施例７６の化合物；　１５　（ＩＩり
）−異性体の混合物として得られた。

ＴＲｙ、ぺ／ＩＬｎｚＯ１ｒｉ）ｖ−、−”ｏ７ｎ　　
ｖｇｎｎ　　１ＧＭＩ１７３３　．３３５０ 実施例７８ アルデヒド体（参考例８の化合物）を出発原料として、
実施例７１乃至実施例７３と同様の反応を順次行うと、
標記目的化合物が得られた。

融点　６４−６５℃ 〔α珊−２８，３°（（＝　１．０　、　ＣＨＣＬ３）
工Ｒスにクトル（ＫＢｒ）νｍａＸ譚　、９１０　ｒ　
９７０＋１１２５　、１２０５　、１６２５　、１７２
０　、１７５０゜１７６５　、３４３Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＦ３）δｐ１）ｍ　’０．９
（３Ｈ，ｔ、）、３．１３（ＩＨ，ｍ）３．７５（３Ｈ
，ｓ）、４．１０（２Ｈ，ｓ）４．３０（２Ｈ，ｓ）、
５．１０（ＩＨ，ｓ）５．２２（ＩＥ（、ｓ）、５．５
７（２Ｈ，ｍ）５．９０　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、ｓ） 実施例７９ アルデヒド体（参考例８の化合物：０．７０Ｆ）を出発
原料として実施例７１乃至実施例７３続いて実施例１２
と同様の反応を順次行い得られた残渣を酢酸エチルとｎ
−ヘキサンよシ再結晶することによシ融点１４０°（分
解）を示す標記目的化合物０．１５．９を得た。

〔α翔−１，１，８°（Ｃ＝　１．０　、　ＭｅＯＨ）
ＩＲス４クトル（ＫＢｒ）　’ｍａＸ”　　、　９００
　＋　９７０＋１０７０　、１１３０　、１２２０　、
１４４０　、１６３０゜１７４５　、３４４Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤ３０Ｄ）δｐｐｍ　’４．０５
（２Ｈ，ｓ）、４．３０（２Ｈ，ｓ）５．１２（ＩＨ，
ｓ）、５．２４（ＩＨ，ｓ）５．６　（２Ｈ、ｍ）、５
．９２（ＩＨ，ｓ）実施例８０ アルデヒド体（参考例８の化合物：０．７（１）を出発
原料として実施例７１乃至実施例７３続いて実施例１２
と同様の反応を順次行うと標記目的化合物がオクテニル
鎖の４位−異性体の混合物としてＱ、３３．９得られた
。

〔α席−１７．０°（Ｃ＝　１．０　、　ＣＦ（ＣＦ３
）ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｇ３２ａｎ、　、　　８
８０　＋　９７０　＋１０４５　、１０９０　、１１２
５　、１２２０　、１５９５　。

１６３０　、１７３０　、３３３Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＦ３）δｐｐｍ’０．８−１
．０（６Ｈ，ｍ）、３．１　（ＩＨ、ｍ）４．１０（２
Ｈ，ｓ）、４．３１（２Ｈ，ｓ）５．１２（ＬＨ，ｓ）
、５．２２（ＩＨ，ｓ）５．５５（２Ｈ，ｍ）、５．９
２（ＩＨ，ｓ）実施例８１ アルデヒド体（参考例８の化合物：０．６１）を出発原
料として実施例７１乃至実施例７３続いて実施例１２と
同様の反応を順次行い標記目的化合物０．３：ｌを得た
。

〔α〕贋−７．８°（Ｃ＝　１．０　、　ＣＨＣＬ３）
ＩＲス硬クりル（Ｌｉｑ）νｍａＸ”　　、８８０　ｒ
　９７０　＋１０４５　、１０９０　、１１２５　、１
２２０　、１３８０゜１５９５　、１６３０　、１７３
５　、３３５ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＦ５）δｐｐ
ｍ’０．９０（９Ｈ，ｍ）、３．１　（ＩＨ、ｍ）４．
０８（２Ｈ，ｓ）、４．３０　（２Ｈ、ｓ　）５．１２
（ＩＨ，ｓ）、５．２１（ＩＨ，ｓ）５．５５（２Ｈ，
ｍ）、５．９０（ＩＨ，ｓ）実施例８２ ジプロピル）−６β−〔３α−（２−テトラヒドロビ隻 無水テトラヒドロフラン１８ゴにジシクロヘキシルアミ
ン０．８１ｍ１を溶解して一７０℃に冷却し、１５％ｎ
−ブチルリチウム（ｎ−ヘキサン溶液）２．４８ｍ１を
滴下して１０分間攪拌後へキサメチルホスホルアミド（
ＨＭＰＡ）　０．７３ｍＡ！を滴下して１０分間攪拌し
た。次いで、３，３−メトキシカルボニルメチレン−６
β−〔３α−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１
−オクテニル〕−７α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）ビシクロ〔３，３，Ｏ）オクタン１．０　！９を
５Ｎのテトラヒドロフランに溶解して滴下し１５分間攪
拌後アセトアルデヒド０．２３ｍ１を滴下して一７０℃
に３０分間攪拌した。反応液に、飽和塩化アンモニウム
水溶液５　ｍｌを加えて徐々に室温に戻して水１５０ｒ
ｎｌに希釈したのち酢酸エチル抽出、抽出液を希塩酸水
洗、水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を減圧下に留去と順次行
った。得られた油状残渣１．２ｇを２０Ｆのシリカゲル
（７０−２３０メツシユ）を用いたカラムクロマトに付
すことにょシ目的化合物１．０５Ｆを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）ν、ｎａｘｃｍ　’　：　９
８０　＋　１０２５　ｖ１０８０　、１１２０　、１１
６０　、１２０５　、１７４０゜４７Ｏ ＮＭＲスイクトル（ＣＤｃｔ３）δｐｐｍ　’３．７０
（３Ｈ，ｓ）、４．７０　（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）５．３〜
５．７　（３Ｈ、ｍ） 実施例８３ ンの混合物 ヒドロキシ体（実施例８２の化合物）２．１８．９を実
施例７と同様に処理して目的化合物２．７２１を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νゆｍ−’：９０５　、９８
０゜１０２５　、１０３５　、１０８０　、１１２５　
、１１８０゜１２０５　、１３６０　、１７４Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＬ５）　Ｊ　１）Ｉ）ｍ　’
２．９８（３１，ｓ）、３．７１　（３Ｌ　ｓ　）４．
７０　（２Ｈ、ｂｒ　、ｓ）、５．２　（ＩＨ、ｍ）５
．４〜５．７　（３Ｈ、ｍ） 実施例８４ メチルスルホニルオキシ体（実施例８３の化合物）２．
７：ｌを実施例８と同様に処理して目的化合物１．８４
．９を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａｘｚ−１：　９８０　
＋　１０２５　。

１０３５　、１０８０　、１１４０　、１２０５　、１
２６０　。

１４４０　、１６２５　、１７２５ ＮＭＲス！クトル（ＣＤＣ４３）δｐｐｍ　’０．９（
３Ｈ，ｔ）、１．８２（３ａ、ａ）３．７７（３Ｈ，ｄ
）、４．７３　（２Ｈ、ｂｒ、ｓ）５．３〜５．９（４
Ｈ，ｍ） 実施例８５ 水素化アルミニウムリチウム０．４　ｌＩを無水ジエチ
ルエーテル２０ｍ／に憲濁し氷冷却下に無水塩化アルミ
ニウム０．４６ｇを無水ジエチルエーテル１０ｍ７に溶
解して滴下して２０分間攪拌した。

次いで、エステル体（実施例８４の化合物）１８４Ｊを
１０ｍ７！のジエチルエーテルに溶解して滴下し２０分
間攪拌した後、４％水酸化す）　ＩＪウム水溶液１．６
４ｍＡ！を滴下して３０分間室温に攪拌した。続いて、
析出した不溶物をセライトを用いて炉去しＦ液を減圧濃
縮して得られた残渣をシリカグルカラムクロマトに付す
ことによシ目的化合物０．５８Ｉｉを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｃＷ！−’：　８１
５　＋　８７０゜９８０　、１０２０　、１０８０　、
１１２０　、１１３５　。

１２０５　、３４５Ｏ ＮＭＲス４クトル（ＣＤＣｔ３）δｐｐｍ　”１．８３
（３Ｈ，ｄ）、４．４（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）４．７　（２
，Ｈ、ｂｒ、ｓ）、５．２〜５．８　（４Ｈ、ｍ　）実
施例８６ ヒＰロキシ体（実施例８５の化合物）０．５７．９を実
施例５８と同様に処理して目的化合物０．２５ｇを得た
。

ＩＲスイクトル（Ｌｉｑ）νｍａＸ（’ＴＩ−’　：　
９８０　ｅ　１０２０　＋１１２０　、１７３０　、１
７６Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３）δｐｐｍ　’４゜０７
（２Ｈ，ｓ）、４．４（２Ｈ，Ｓ）４．７２　（２Ｈ、
ｂｒ、ｓ）、５．４〜５．９　（４Ｈ、ｍ　）実施例８
７ ジビラニル体（実施例８６の化合物）　０．２４／！を
実施例６２と同様に処理して得られた残渣を酢酸エチル
とｎ−ヘキサンよシ再結晶することによ′シ融点１００
〜１０２℃を有する目的化合物０．０’９５１１を得た
。

〔α片−１８，９°（Ｃ＝　１．０　、　ＣＨＣｊ３）
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）シｍａｚＣｍ−’　：　８１
５　＋　９７０　＋１１２５　．１６３０　．１７４０
　．３４３ＯＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ
　’０．９（３Ｈ，ｔ）、１．５ｚ（３Ｈ，ａ）３．１
　（ＩＨ、ｍ）、４．０３（２Ｈ，ｓ）４．４（２Ｈ，
ｓ）、５．１６（３Ｈ，ｓ）５．４〜５．９　（４Ｈ、
ｍ　） 参考例１ ３．３−メトキシカルボニルメチレン−６β−（２−テ
トラヒドロピラニルオキシメチル）−７α−（２−テト
ラヒＰロピラニルオキシ）ビシクロ〔３，３，Ｏ］オク
タン０．５Ｊを実施例５６と同様に処理して目的化合物
０．３５１を得た。

ＩＲスイクトル（Ｌｉｑ）シｍａｚｃｍ−１：　１０３
０　＋　１０８０゜１１２０．１１４０．１２０５．１
３５０．１７４５ＮＭＲス＜クトル（ＣＤＣ４３）δ：
３．６７（３Ｈ，ｓ）、４．４９（２Ｈ，ｓ）、５．４
８（ＬＨ，ｍ）、７．３（５Ｂ、ｓ）参考例２ エステル体（参考例１の化合物）０．３５．９を実施例
５７と同様に処理して目的化合物０．２９９を得た。

ｘＲ，ｘ、ヘク）　／Ｌ／　（Ｌｉｑ）’ｍａｚｃｍ−
’　：１０３０　＊　１０８０　。

１１２０　、３４７Ｏ ＮＭＲスー！クトル（ＣＤＣ２３）δ：４．５４（２Ｈ
，ｓ）、４．６４（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、５．４５　（Ｉ
　Ｈ、ｍ　）、７．３６（５Ｈ。

Ｓ） 参考例３ サー４−カル？キシブチル）−６β−（２−テトヒドロ
キシ体（参考例２の化合物）１．２ｇを実施例５８と同
様に処理して目的化合物１．２５．９を得た。

ＩＲ／＜　４り）　／’　（Ｌｉｑ）　Ｖ　＆Ｌｚｃｍ
−’　：　９７５　＋　１０２０　、１０３０ｔ１０７
５　、１１２０　、１１３０　、１２００　、１２６０
’。

１３５０　、１４５５　、１７４０　、１７６０　、２
６５０　。

２０Ｏ ＮＭＲスペクト／Ｉ／　（ＣＤＣｌ３）δ：４．０７（
２Ｈ，ｓ）、４５４（２Ｈ，ｓ）、４．６５　（２Ｈ、
ｂｒ、ｓ）、４．４３　（Ｉ　Ｈ。

ｍ）、７．３６（５Ｈ，ｓ） 参考例４ ンの混合物 ベンジル体（参考例３の化合物）１．２６．！ｉ＋を実
施例５９と同様に処理して目的化合物０．７８９を得た
。

工Ｒス＜　り）　／Ｌ／　（Ｌｉｑ）　ｖｌｙｌｚｃｍ
−’　：１０３０　、１７４０　。

１７６０　、３４８０ 凪ｍｘベクトル（ＣＤＣｌ２）δ：３．７６（３Ｈ，ｓ
）、４，１゜（２Ｈ，ｓ）、４．６３（２Ｈ，ｂｒ、ｓ
）、５．４７　（Ｉ　Ｈ。

ｍ） 参考例５ −３−エン゛ ヒドロキシ体（参考例４の化合物）０．７７ｆｉを実施
例７と同様に処理して目的化合物０．８５ｇを得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）Ｉ’ｍａｚｃｎ−１：　１０
３０　＋　１０７５゜Ｊ＝６Ｅ（ｚ）、４．６４（２Ｈ
，ｂｒ、ｓ）、４．５３（ＬＨ。

ｍ） 参考例６ ！ メチルスルホニルオキシ体（参考例５の化合物）０．８
３ｇを実施例８と同様に処理して目的化合物０．５２．
９を得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シ＆ＬＸｔＭ−’　：　１０
２５　、１０３０ｇ１５９５　、１６３０　、１７４０
　、１７６ＯＮＭＲスペクトルＣＣＤＣＬ３）δ：３．
７６（３）Ｉ、Ｓ）、４．０８（２Ｈ，ｓ）、４．３９
（２Ｈ，ｓ）、４．６６（２Ｈ。

ｂｒ、ｓ）、５．１０（ＩＨ，ｓ）、５．ｌｃ＋（１ａ
、ｓ）、５．９０　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、ｓ） 参考例７ ジピラ＝ル体（参考例６あ化合物）０．５２．．９を実
施例１１と同様に処理して目的化合音イクトー２−エン
体（よシ極性の低い化合物）０．２０！ｉとオクト−３
−エン体（よシ極性の高い化合物）０．１０．９を得た
。

融点６０？６１℃（酢酸エチルとｎ−へキサンにて再結
晶） ＩＲスペクトル（ＭｅｌｔｅｄＦｉｌｍ）νｍａｚＣｍ
−’　：１７４０　、３４０ＯＮＭＲ，１，ベクトル（
ＣＤＣ１，）δ：ａ、７ｓ（３Ｈ，ｓ）、４．１０（２
Ｈ，ｓ）、４．３１（２Ｈ，ｓ）、５．１２（ＬＨ，ｓ
）、５．２３（ＩＨ，ｓ）、５．９４（ＩＨ，ｂｒ、５
）ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シｍａＸｃｒｎ−１：　１
０１０　、１０４０　。

１０８０　、１１２０　、１２１５　、１４４０　、１
５９５　。

１６３０．１７５０．３４０Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δ：３．７６（３Ｈ，
ｓ）、４．１０（２Ｈ，Ｓ）、４．３２（２Ｈ，ｓ）、
５．１３　（ＬＨ，ｓ）、５．２４（ＩＨ，ｓ）、５．
９４（ＩＨ，ｓ）参考例８ 一エン ジオール体（参考例７のよシ極性の低い化合物：０．５
１ｇ）とトリエチルアミン０．４４扉ｌをベンゼン１０
ＴｒＬｌに溶かし、水冷下トリクロロアセチルクロリド
０．２０１ｎｌのベンゼン溶液（５ゴ）を滴下し、２０
分攪拌する。反応液を氷水に稀釈し酢酸エチルで抽出し
、抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去するとモノ−トリク
ロロアセチル体０．５２ｐが得られる。アセチル体０．
５２ｇと０．１６ｍ／のジヒドロピランをメチレンクロ
リド２ｍ７！に溶解シ、ｐ−）ルエンスルホン酸を加え
室温で１０分攪拌する。反応液を酢酸エチルに稀釈して
水洗、乾燥後溶媒を留去する。得られたピラニル体をメ
タノール１５ｍ１に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液１ｍｌを加えて３０〜４０℃に２時間攪拌する。反
応液を飽和食塩水に稀釈して酢酸エチル抽出し抽出液を
水洗、乾燥後溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製することにより　０
．３９Ｉの油状のアルコール体（ＩＲスペクトル（Ｌｉ
ｏｑ）シｍａＸ！−’　：　１０２０　ｒ　１７５０　
、３４２０　）を得た。アルコール体０．３７９をジメ
チルスルホキシド０．５　ｍｌに溶解して、トリエチル
アミン１．５ＴｒＬｌを加えて室温で無水硫酸−ピリジ
ン・コンプレックス９００■のジメチルスルホキシド溶
ｉ（：ｌＬＡ’）を攪拌下に滴下する。３０分後反応液
を氷水に稀釈して酢酸エチルで抽出、抽出液を水洗、乾
燥後溶媒を留去すると０．３１の油状の目的化合物が得
られた。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）シコエ副　、１０３０．１５
９５　。

１６３０　、１７２０　、１７５０　、２７２０参考例
９ 金物 無水テトラヒドロフラン２０１ｎｌにジシクロヘキシル
アミン０．８４　ｒｄを溶解して一７８℃に冷却し、１
５％ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン溶液）２．７−を滴
下して１０分間攪拌後、ヘキサメチルホスホルアミド０
．６９ゴを滴下して１０分間攪拌する。次いで、エステ
ル体（参考例１１の化合物：　９１４ｒｎ？）のテトラ
ヒドロンラン５−に溶解して滴下し、３０分間−７８℃
に攪拌したのち、モノクロルメチルベンジルエーテル０
、５　ｒｄをテトラヒドロ７ラン２−に溶解して滴下ｊ
−２ｓ〜−３０℃に３０分間攪拌した。反応溶液に、飽
和塩化アンモニウム水溶液５−を加えて１０分間攪拌後
、室温に戻して水２００ゴに希釈し酢酸エチル抽出、抽
出液乞水洗、希塩酸水洗、水洗、無水芒硝乾燥、溶媒を
減圧下に留去と順次行なって得られた残渣乞シリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付すことにより目的化合物
５３３’Ｗ’ａ’得た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａｘｃｒｒＬ・１０２０
．１５９０．１７３８ ＮＭＲスペクト＃　（ｃｐｃｚ、）δＩ）Ｉ）ｍ　：　
１．０９（９Ｈ。

Ｓ）、３．６３（３Ｈ，ｓ）、４．４８（２Ｈ，Ｓ）、
５．４８（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）、７．１〜７．９　（１５
Ｈ、ｍ　）又、上記反応において、エステル体（参考例
１１の化合物）をジシクロヘキシルリチウムアミドと処
理した後、モノクロルメチルベンジルエーテルを加える
代りに、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、上記操作
と同様に後処理及び精製を行った結果、二重結合につい
て、厚料化合物の異性体でめる３−（メトキシカルボニ
ルメチル）−６β−（・ジフェニル−ｔ−ブチルシリル
オキシメチル）−７α−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−シスービシクロｒ３．３．０］オクト−２−エ
ン及びオクト−３−エンの混合物がほぼ定量的に得られ
た。

ＩＲスペクトル（Ｌｉｑ）　ｖ　　　ｃＷＬ−１：　　
５０３＋ａｘ ７００．１１１５，１５９０．１７４５ＮＭ１”ｔスペ
クトル（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ　：　１．０８（９Ｈ。

Ｓ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、５．５２（ＩＨ，ｂｒ−
ｓ）、７．３〜７．９　（１０Ｈ、ｍ　） さらに又、参考例１の化合物の原料化合物（参考例１０
の化合物）乞ジシクロヘキシルリチウムアミドで上記と
同様に処理することによって、二重結合についての異性
体である３−（メトキシカルボニルメチル）−６β−（
２−テトラヒドロピラニルオキシメチル）−７α−（２
−テトラヒドロピラニルオキシ）−シス−ビシクロｃ３
．３．ｏ）オクト−２−エン及びオクト−３ニエンの混
合物がほぼ定量的に得られた。

ＩＰスペクトル（Ｌｉｑ）νＤｏａＸｃＩＩＬ−に８１
８，８７ｏ。

９１０．９８０，１０２４，１０３８，１０８０゜１１
２２．１１４０．１２６０，１４４０．１７４２参考例
　１０ ５５チナトリウム水素１．４３ｆをヘキサンで洗滌した
めち、テトラヒドロフラン６７．５ｄ及びツメチルホル
ムアミド４９＋ｄに憑濁する。氷冷した後、トリメチル
ホスホノアセテ−）８．６３２を加えた。次に６β−（
２−テトラヒドロピラニルオキシメチル）−７α−（２
−テトラヒドロピラニルオキシ）−３−オキソ−シス−
ビシクロ〔３゜３．０〕オクタン８．２１ｆのテトラヒ
ドロフラン溶液１４．５ｍｌを加え室温で４時間攪拌し
た。反応終了後、氷水１５０−に稀釈し酢酸エチルで抽
出する。抽出液を食塩水で洗滌し硫酸ナトリウムと共に
乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製すると８．６２　Ｐの油状
の目的化合物が得られた。

ＩＦＩスペクトル（Ｌｉｑ）ｖ　　　ｃｍ−１：８１６
，８６９，９１０゜ａｘ ９７５．１０３２，１０７７．１１３０，１３６８，１
６５６．１７４０参考例　１１ ５５％油性水素化ナトリウムをヘキサンで洗滌後、テト
ラヒドロフラン１５ゴおよびジメチルホルムアミド１０
ｍｇＫ懸濁し、トリメチルホスホノアセテート１．３７
！を氷冷下に滴下した。

３０分攪拌したのち、６β−（ジフエニｋ　−ｔ　−ブ
チルシリルオキシメチル）−７α−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−３−オキソ−シス−ビシクロ［３，
３，０〕オクタン２．０１のテトラヒドロフラン溶液８
−を加えた。室温に４時間攪陣後、氷水に稀釈し酢酸エ
チルで抽出する：抽出液を飽和食塩水で洗滌したのち硫
酸す）　ＩＪウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られ
た残渣？シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製す
ると２．２６Ｆの油状の目的化合物が得られた。

ＩＦＩスペクトル（Ｌｉｑ）νｍａｘｃＩｒＬ　、５０
４，７０３゜１１１３．１３００；１５９０，１６５８
．１７１０　　　−ＮＭＦ＋スペクトル（ＣＤＣ２ｓ）
δｐＩ）ｍ　：　１．０８（９Ｈ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｒ＾１は、保護されていてもよいカルボキシ基、テトラ
   ゾリル基、置換されていてもよいカルバモイル基、保護
   されていてもよいホルミル基、保護されていてもよいヒ
   ドロキシメチルカルボニル基又は保護されていてもよい
   ヒドロキシメチル基を示し、 Ｒ＾２及びＲ＾３は、同一又は異なつて水素原子若しく
   はＣ＿１〜Ｃ＿４のアルキル基を示すか又はそれらが結
   合している炭素原子と共に形成する３乃至７員環のシク
   ロアルキル基を示し、 Ｒ＾４及びＲ＾５は、同一又は異なつて水素原子又は水
   酸基の保護基を示し、 Ｒ＾６は、水素原子又はＣ＿１〜Ｃ＿４のアルキル基を
   示し、 Ｒ＾７は、置換されていてもよいアルキル基、置換され
   ていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアル
   キニル基又は式−Ｄ−Ｒ＾８を有する基〔式中、Ｄは単
   結合又は酸素原子、硫黄原子、Ｃ＿３〜Ｃ＿７の環状ア
   ルキレン基、若しくはビニレン基を含んでいてもよいＣ
   ＿１〜Ｃ＿６のアルキレン基（直鎖又は分枝状）を示し
   、Ｒ＿８は、置換されていてもよいＣ＿３〜Ｃ＿１＿０
   のシクロアルキル基、Ｃ＿５〜Ｃ＿１＿０のシクロアル
   ケニル基、アリール基、ヘテロシクリル基又はヘテロア
   リール基を示す。〕を示し、 Ａは、単結合、弗素原子を含んでいてもよいＣ＿１〜Ｃ
   ＿７の直鎖状アルキレン基、式−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ＿
   ２）＿ｎ−を有する基（式中、ｎは、０乃至５の整数を
   示す。なお、左端の結合でＲ＾１と結合している。以下
   同じ。）又は式−（ＣＨ＿２）＿ｐ−Ｅ−（ＣＨ＿２）
   ＿ｑ−を有する基（式中、ｐは、０乃至３の整数を示し
   、ｑは１乃至３の整数を示し、Ｅは、酸素原子又は硫黄
   原子を示す。）を示し、 Ｂは、エチレン基、ビニレン基又はエチニレン基を示し
   、 点線を含む結合は、２位又は３位の二重結合を示す。〕 を有するプロスタグランジン類及びその業理上許容され
   る塩。