JPS6253953A - ４′−低級アルコキシ−２−（ｎ，ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン - Google Patents
４′−低級アルコキシ−２−（ｎ，ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタンInfo
- Publication number
- JPS6253953A JPS6253953A JP19467485A JP19467485A JPS6253953A JP S6253953 A JPS6253953 A JP S6253953A JP 19467485 A JP19467485 A JP 19467485A JP 19467485 A JP19467485 A JP 19467485A JP S6253953 A JPS6253953 A JP S6253953A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- dibenzoylmethane
- skin
- cosmetics
- lower alkoxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
- A61K8/42—Amides
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ。
Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン
、更に詳細には、例えば化粧料用紫外線吸収剤として有
用な４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ。
、更に詳細には、例えば化粧料用紫外線吸収剤として有
用な４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ。
Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン
誘導体に関する。・ 〔従来の技術〕 紫外線はさまざまな変化を皮膚にもたらすことが知られ
ている。皮膚科学的には作用波長を、４００〜３２０ｎ
ｍの長波長紫外線、３２０〜２９０１ｍの中波長紫外線
および２９Ｑｎｍ以下の短波長紫外線に分け、それぞれ
ＵＶ−Ａ％ＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ｃと呼んでいる。
誘導体に関する。・ 〔従来の技術〕 紫外線はさまざまな変化を皮膚にもたらすことが知られ
ている。皮膚科学的には作用波長を、４００〜３２０ｎ
ｍの長波長紫外線、３２０〜２９０１ｍの中波長紫外線
および２９Ｑｎｍ以下の短波長紫外線に分け、それぞれ
ＵＶ−Ａ％ＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ｃと呼んでいる。
通常、人間が曝露される紫外線源の大部分は太陽光線で
あるが、地上に届く紫外線はＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂで
、ＵＶ−Ｃはオゾン層において吸収されて地上にはほと
んど達しない。地上にまで達する紫外線の中でＵＶ−Ｂ
はある一定量以上の光量が皮膚に照射されると紅斑や水
痘を形成し、またメラニン形成が先進され、色素沈着を
生ずる等の変化を皮膚にもたらす。これに対し、従来、
ＵＶ−Ａは皮膚にあまり大きな変化を生じさせないと考
えられていた。しかしながら、電子顕微鏡や組織化学的
な手法によ、９ ＵＶ−Ａ照射によっても皮膚は変化を
受けることが近年明らかにされてきた。特に、ＵＶ−Ａ
はＵ”／−Ｂと異なシそのエネルギーは真皮にまでも到
達し、血管壁や結合組織中の弾性線維に微慢性の変化を
もたらし、これらの変化が皮膚の老化促進につながると
考えられている。また、ＵＶ−Ａは照射直後に皮膚を黒
化させる作用（即時黒化）を有することやｔｆｆ−Ｈの
皮膚に対する変性作用を増強することが知られておシ、
ＵＶ−Ａはシミ、ソバカスの発生や増悪の一因子になっ
ていると考えられる。
あるが、地上に届く紫外線はＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂで
、ＵＶ−Ｃはオゾン層において吸収されて地上にはほと
んど達しない。地上にまで達する紫外線の中でＵＶ−Ｂ
はある一定量以上の光量が皮膚に照射されると紅斑や水
痘を形成し、またメラニン形成が先進され、色素沈着を
生ずる等の変化を皮膚にもたらす。これに対し、従来、
ＵＶ−Ａは皮膚にあまり大きな変化を生じさせないと考
えられていた。しかしながら、電子顕微鏡や組織化学的
な手法によ、９ ＵＶ−Ａ照射によっても皮膚は変化を
受けることが近年明らかにされてきた。特に、ＵＶ−Ａ
はＵ”／−Ｂと異なシそのエネルギーは真皮にまでも到
達し、血管壁や結合組織中の弾性線維に微慢性の変化を
もたらし、これらの変化が皮膚の老化促進につながると
考えられている。また、ＵＶ−Ａは照射直後に皮膚を黒
化させる作用（即時黒化）を有することやｔｆｆ−Ｈの
皮膚に対する変性作用を増強することが知られておシ、
ＵＶ−Ａはシミ、ソバカスの発生や増悪の一因子になっ
ていると考えられる。
これらのことよシ明らかなようにＵＶ−Ｂだけでな（Ｕ
ｖ−Ａからも皮膚を保Ｉすることは皮膚の老化促進を予
防し、シミ、ソバカスの発生や増悪を防ぐ意味において
重要である。
ｖ−Ａからも皮膚を保Ｉすることは皮膚の老化促進を予
防し、シミ、ソバカスの発生や増悪を防ぐ意味において
重要である。
しかしながら、ＵＶ−Ａの皮膚に対する作用に関する研
究は歴史が浅く、皮膚に適用した場合、効果的にＵＶ−
Ａを吸収する物質はあまシ知られていないのが実状であ
シ、現在わずかにジベンゾイルメタン誘導体および桂皮
醗が知られているのみであった（西独特許公開第２７２
８２４１号公報、同第２７２８２４３号公報、特開昭５
１−６１６４１号公報、同５２−４６０５６号公報、同
５７−１９７２０９号公報、特開昭５７−５９８４０号
公報）。しかも、これらの物質は、汎用性を欠くため、
これをＵＶ−Ａ吸収剤として化粧料に添加配合しようと
すると、化粧料の基剤の性状に制限が加わるという欠点
があった。
究は歴史が浅く、皮膚に適用した場合、効果的にＵＶ−
Ａを吸収する物質はあまシ知られていないのが実状であ
シ、現在わずかにジベンゾイルメタン誘導体および桂皮
醗が知られているのみであった（西独特許公開第２７２
８２４１号公報、同第２７２８２４３号公報、特開昭５
１−６１６４１号公報、同５２−４６０５６号公報、同
５７−１９７２０９号公報、特開昭５７−５９８４０号
公報）。しかも、これらの物質は、汎用性を欠くため、
これをＵＶ−Ａ吸収剤として化粧料に添加配合しようと
すると、化粧料の基剤の性状に制限が加わるという欠点
があった。
このため、更に汎用性のあるＵＶ−Ａ吸収剤の開発が望
まれていた。斯かるＵＶ−Ａ吸収剤は、次の条件を満た
すものでなければならない。
まれていた。斯かるＵＶ−Ａ吸収剤は、次の条件を満た
すものでなければならない。
■ 波長３５０ ｎｍ付近に最大吸収波長を有する。
■ 上記波長においてモル吸光係数（ε）が十分に大き
い。
い。
■ 化粧用組成物としての着色は望ましくないので、可
視部の吸収が小さいこと、すなわち４００ｎｍ以上でｇ
へＯであること。
視部の吸収が小さいこと、すなわち４００ｎｍ以上でｇ
へＯであること。
■ 熱、光に対して安定であること。
■ 皮膚に対する毒性、刺激性、更に他の有害作用もな
いこと。
いこと。
■ 化粧品基剤との相溶性に優れていること。
■ 皮膚に塗布し九とき、経皮吸収されにくく、発汗等
によシ除去されにくいこと。従って効果が有効に持続す
ること。
によシ除去されにくいこと。従って効果が有効に持続す
ること。
■ 安価であること。
本発明者らは、斯様な現状に鑑み鋭意研究したところ、
今般新規化合物である４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ
、 Ｎ −ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイ
ルメタンがＵＶ−Ａ領域の光を吸収することを見い出し
、本発明を完成した。
今般新規化合物である４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ
、 Ｎ −ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイ
ルメタンがＵＶ−Ａ領域の光を吸収することを見い出し
、本発明を完成した。
すなわち本発明は、次式（１）
（式中、Ｒ１、鳥、Ｒ３は各々同一もしくは異なって低
級アルキル基を示す） で表わされる４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ、Ｎ−シ
低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタンを提供
するものである。
級アルキル基を示す） で表わされる４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ、Ｎ−シ
低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタンを提供
するものである。
本発明化合物（１）は、例えば４′−低級アルコキシ−
２−カルボキシジベンゾイルメタン（旧を原料として用
い、次の反応式に従って製造される。
２−カルボキシジベンゾイルメタン（旧を原料として用
い、次の反応式に従って製造される。
すなわち本発明化合物（Ｉｌは、４′−低級アルコキシ
−２−カルボキシジベンゾイルメタン（ＩＩ）に、反応
に不活性な溶媒中でハロゲン化試薬を作用させて中間体
の３−（４’−低級アルコキシフエナシリデン）フタリ
ド（１）となし、次いでこの化合物（１）を反応に不活
性な溶媒中で２級アミンと反応させることによシ製造さ
れる。
−２−カルボキシジベンゾイルメタン（ＩＩ）に、反応
に不活性な溶媒中でハロゲン化試薬を作用させて中間体
の３−（４’−低級アルコキシフエナシリデン）フタリ
ド（１）となし、次いでこの化合物（１）を反応に不活
性な溶媒中で２級アミンと反応させることによシ製造さ
れる。
４’ −低級アルコキシ−２−カルボキシジベンゾイル
メタン（旧から中間体の３−（４’−低級アルコキシフ
エナシリデン）フタリド（１）を得るには、塩化チオニ
ル等のハロゲン化試薬が有効である。
メタン（旧から中間体の３−（４’−低級アルコキシフ
エナシリデン）フタリド（１）を得るには、塩化チオニ
ル等のハロゲン化試薬が有効である。
この反応は、クロロホルム、ジクロロメタン等の反応に
不活性な溶媒中に４′−低級アルコキシ−２−カルボキ
シジベンゾイルメタン（旧と小過例の塩化チオニルのご
ときハロゲン化試薬を加え、−１０℃〜２００℃の温度
、好ましくは３０〜１００℃で行なう。反応終了後、減
圧下で溶媒および過剰のハロゲン化試薬を留去すれば目
的の３− （４’−低級アルコキシ７エナシリデン）７
タリド（［）が定量的に得られる。このものは２体とＥ
体の混合物として得られることが多いが、次段の反応に
はいずれをも使用できる。
不活性な溶媒中に４′−低級アルコキシ−２−カルボキ
シジベンゾイルメタン（旧と小過例の塩化チオニルのご
ときハロゲン化試薬を加え、−１０℃〜２００℃の温度
、好ましくは３０〜１００℃で行なう。反応終了後、減
圧下で溶媒および過剰のハロゲン化試薬を留去すれば目
的の３− （４’−低級アルコキシ７エナシリデン）７
タリド（［）が定量的に得られる。このものは２体とＥ
体の混合物として得られることが多いが、次段の反応に
はいずれをも使用できる。
次に、３−（４’−低級アルコキシ７エナシリデン）７
タリド（［）ｔ２級アミンと反応させ目的の４′−低級
アルコキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイ
ル）ジベンゾイルメタン（Ｉ） Ｋ導くには、反応に不
活性な溶媒に３− （４’−低級アルコキシ７エナシリ
デン）７タリド（１）と過剰量の２級アミンを加え一１
０℃〜２００℃の温度、好ましくは１０〜１００℃で反
応させ反応を完了する。反応終了後、抽出、洗浄等の後
処理を行ない、減圧下で溶媒の留去を行なうと微黄色の
結晶もしくは油状物が得られてくる。更に再結晶または
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行な
い目的の４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ。
タリド（［）ｔ２級アミンと反応させ目的の４′−低級
アルコキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイ
ル）ジベンゾイルメタン（Ｉ） Ｋ導くには、反応に不
活性な溶媒に３− （４’−低級アルコキシ７エナシリ
デン）７タリド（１）と過剰量の２級アミンを加え一１
０℃〜２００℃の温度、好ましくは１０〜１００℃で反
応させ反応を完了する。反応終了後、抽出、洗浄等の後
処理を行ない、減圧下で溶媒の留去を行なうと微黄色の
結晶もしくは油状物が得られてくる。更に再結晶または
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行な
い目的の４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ。
Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン
（１）を得る。
（１）を得る。
本発明の４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジ（ｌ
ｔアルキ、ルカルパモイル）ジベンゾイルメタン（Ｉ）
は、無臭で、微黄色の結晶または油状物であシ、前記の
如く有害な作用を起こすＵＶ−Ａ領域の紫外線を有効に
吸収し、これの及ぼす悪影響から皮膚を保護する。ｔた
光及び熱に対して経日的に安定であシ１、化粧料中にお
いてもほとんど加水分解を受けず、さらに化粧料用に通
常使用される溶媒に対しても優れた溶解性を示す等、化
粧料用紫外線吸収剤として極めて有用である。
ｔアルキ、ルカルパモイル）ジベンゾイルメタン（Ｉ）
は、無臭で、微黄色の結晶または油状物であシ、前記の
如く有害な作用を起こすＵＶ−Ａ領域の紫外線を有効に
吸収し、これの及ぼす悪影響から皮膚を保護する。ｔた
光及び熱に対して経日的に安定であシ１、化粧料中にお
いてもほとんど加水分解を受けず、さらに化粧料用に通
常使用される溶媒に対しても優れた溶解性を示す等、化
粧料用紫外線吸収剤として極めて有用である。
次に参考例、実施例及び試験例を挙げて説明する。
参考例
３− （４’−メトキシ７エナシリデン）７タリドの合
成： ４′−メトキシ−２−カルボキシジベンゾイルメタン（
１００５４，０，３４ｍｏｌ ）を塩化メチレン（４０
０ｘ７りに加え、この懸濁液に塩化チオニル（６０，９
４Ｓ’ 、 ０．５１ ｍｏｌ ）を１度に加え、３０
℃で１時間、さらに還流温度で３時間攪拌し反応を完結
させる。
成： ４′−メトキシ−２−カルボキシジベンゾイルメタン（
１００５４，０，３４ｍｏｌ ）を塩化メチレン（４０
０ｘ７りに加え、この懸濁液に塩化チオニル（６０，９
４Ｓ’ 、 ０．５１ ｍｏｌ ）を１度に加え、３０
℃で１時間、さらに還流温度で３時間攪拌し反応を完結
させる。
反応混合溶液は、減圧下で溶媒および過剰の塩化チオニ
ルを留去すれば目的の３− （４’−メトキシ７エナシ
リデン）フタリド（２体、Ｅ体の混合物）をほぼ定量的
に与える。なお２体とＥ体の割合はＮＭＲのオレフィン
水素の積分比から決定したところ３０ニア０でＥ体の方
がよシ多く生成していた。
ルを留去すれば目的の３− （４’−メトキシ７エナシ
リデン）フタリド（２体、Ｅ体の混合物）をほぼ定量的
に与える。なお２体とＥ体の割合はＮＭＲのオレフィン
水素の積分比から決定したところ３０ニア０でＥ体の方
がよシ多く生成していた。
この混合物を熱したアセトンで洗浄することによシ、黄
色の針状晶として、はぼ純粋なＥ体を分離することがで
きる（収率：約６５％）。
色の針状晶として、はぼ純粋なＥ体を分離することがで
きる（収率：約６５％）。
ｍｐ１６３〜１６４℃
ＮＭＲ（ＣＤ（ＪＳ）δｐｐｍ ：
３．９１ （３Ｈ，ｓ、 −ＯＣＨ，）７．００ （２
Ｈ，ｄ、 Ｊ−８，５Ｈｚ、 ベンゼン核水素Ｈｂ１７
．１９（ＩＨ，ｓ、オレフィン水素Ｈｃ１７．６７〜７
．８８ （２Ｈ，ｍ、ベンゼン核水素Ｈｅ、 Ｈｆ １
７．９５〜８．０２ （Ｉ Ｈ，ｍ、ベンゼン核水素Ｈ
ｄ）８．０４ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ−８，５Ｈｚ、ベンゼ
ン核水素Ｈａ）９．００ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ−８、ｌＨ
ｚ、 べ／ゼア核水素Ｈｇ）Ｅ体 エＲＶｍａｚ （ＫＢｒｌ （Ｍ−’ ？１７９５，１
６６０，１６０５．１５１０，１４７０，１４２０゜１
３９５．１３１０，１２５５，１１８０，１０６５．９
７５また、熱したアセトンに溶解した化合物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し精製を行ない、黄色
針状晶として、純粋な２体を得た。
Ｈ，ｄ、 Ｊ−８，５Ｈｚ、 ベンゼン核水素Ｈｂ１７
．１９（ＩＨ，ｓ、オレフィン水素Ｈｃ１７．６７〜７
．８８ （２Ｈ，ｍ、ベンゼン核水素Ｈｅ、 Ｈｆ １
７．９５〜８．０２ （Ｉ Ｈ，ｍ、ベンゼン核水素Ｈ
ｄ）８．０４ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ−８，５Ｈｚ、ベンゼ
ン核水素Ｈａ）９．００ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ−８、ｌＨ
ｚ、 べ／ゼア核水素Ｈｇ）Ｅ体 エＲＶｍａｚ （ＫＢｒｌ （Ｍ−’ ？１７９５，１
６６０，１６０５．１５１０，１４７０，１４２０゜１
３９５．１３１０，１２５５，１１８０，１０６５．９
７５また、熱したアセトンに溶解した化合物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し精製を行ない、黄色
針状晶として、純粋な２体を得た。
ｍｐ１７２〜１７３℃
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ｓ ） δｐｐｍ ：３．８９
（３Ｈ，ｓ、 −ＯＣＨ，）６．７２ （ＩＨ，Ｓ、オ
レフィン水素Ｈａ ）６．９３〜７．０３ （２Ｈ，ｍ
、ベンゼン核水素Ｈｂ）７．６６〜７．９１ （３Ｈ，
ｍ、ベンゼン核水素Ｈｅ、 Ｈｆ、 Ｈｇ １７．９４
〜８．０５ （３Ｈ，ｍ、ベンゼン核水素Ｈａ、 Ｈｄ
）工Ｒｖｍａｘ （ＫＢｒ）ｃｍ−’ ：１７９５
．１６７０，１６１５，１５９０，１５１０，１４７０
゜１３６５．１３３０，１３００，１２６０，１２２０
，１１６５゜１０８０．１００５．９６５ 実施例 ４′−メトキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル
）ジベンゾイルメタン； ） ルｘｙ （６０ｒＩｌｔ ）に３− （４’−メト
ー＋シアーｍナシリデン）フタリド（１０ｆｉ４．３５
．７ｍｍａｌ ｌおよびジエチルアミ７ （１０，３ｔ
、 １４０．８ｍｍｏｌ ｌを加え加熱還流下で６時
間攪拌を続ける。
（３Ｈ，ｓ、 −ＯＣＨ，）６．７２ （ＩＨ，Ｓ、オ
レフィン水素Ｈａ ）６．９３〜７．０３ （２Ｈ，ｍ
、ベンゼン核水素Ｈｂ）７．６６〜７．９１ （３Ｈ，
ｍ、ベンゼン核水素Ｈｅ、 Ｈｆ、 Ｈｇ １７．９４
〜８．０５ （３Ｈ，ｍ、ベンゼン核水素Ｈａ、 Ｈｄ
）工Ｒｖｍａｘ （ＫＢｒ）ｃｍ−’ ：１７９５
．１６７０，１６１５，１５９０，１５１０，１４７０
゜１３６５．１３３０，１３００，１２６０，１２２０
，１１６５゜１０８０．１００５．９６５ 実施例 ４′−メトキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル
）ジベンゾイルメタン； ） ルｘｙ （６０ｒＩｌｔ ）に３− （４’−メト
ー＋シアーｍナシリデン）フタリド（１０ｆｉ４．３５
．７ｍｍａｌ ｌおよびジエチルアミ７ （１０，３ｔ
、 １４０．８ｍｍｏｌ ｌを加え加熱還流下で６時
間攪拌を続ける。
反応混合溶液は、室温まで冷却した後にエーテルで希釈
し、１２チ塩酸水溶液で２回、続いて炭酸水素す） Ｉ
Ｊウム飽和水溶液で１回、飽和食塩水で１回洗浄する。
し、１２チ塩酸水溶液で２回、続いて炭酸水素す） Ｉ
Ｊウム飽和水溶液で１回、飽和食塩水で１回洗浄する。
硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後に減圧下で溶媒を留
去し褐色油状物を得る。
去し褐色油状物を得る。
このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
液；ヘキサン／酢酸エチル＝２００／１〜３／１）Ｋ付
して精製を行ない、微黄色固体として、目的の４′−メ
トキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル）ジベン
ゾイルメタン（９，６９））を得た（収率ニア７チ）。
液；ヘキサン／酢酸エチル＝２００／１〜３／１）Ｋ付
して精製を行ない、微黄色固体として、目的の４′−メ
トキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル）ジベン
ゾイルメタン（９，６９））を得た（収率ニア７チ）。
ｍｐ７７〜７８．８℃
ＮＭＲ（ＣＤ（Ｊ、 ） δｐｐｍ ：０．９７ （
３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ、 −ＣＨ，１１，１４（３Ｈ
，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ、−ＣＨ８１１８６〜３．７３ （
４Ｈ，ｍ、 −ＣＨ：ｌＣＨ３Ｘ２ ）３．８０ （３
Ｈ，ｓ、−α■３） ６．６７ （ＩＨ，ａ、オレフィン水素）６．７６〜７
．１０ （２Ｈ，ｍ、 ヘアセン核水素）７．１４〜８
．１０ （６Ｈ，ｍ、 ベンセン核水素）１６．５８
（ＩＨ，ｂｓ、エノール水素）工ＲＡ／ｍａｘ （ＫＢ
ｒ） ｃｍ−’ ：２９７０、２９５０．２８９０．１
７３０．１６００．１５１０゜１４６５、１２９０．１
２６０．１２３０．１１７５．１１１５゜１０９０、１
０６０．１０３５ ＵＶλｍａｚ （ＥｔＯＨ） ｎｍ ：３５３ｎｍｌ−
ｇｏｇελｍａｘ＝ ４．３８試験例 本発明化合物を４チ含有する次の組成のΦＷ型ツクリー
ム以下、本発明品という）を用い、本発明化合物がＵＶ
−Ａ照射から皮膚を防御する効果を下記方法によシ調べ
た。結果を第１表に示す。
３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ、 −ＣＨ，１１，１４（３Ｈ
，ｔ、 Ｊ−７Ｈｚ、−ＣＨ８１１８６〜３．７３ （
４Ｈ，ｍ、 −ＣＨ：ｌＣＨ３Ｘ２ ）３．８０ （３
Ｈ，ｓ、−α■３） ６．６７ （ＩＨ，ａ、オレフィン水素）６．７６〜７
．１０ （２Ｈ，ｍ、 ヘアセン核水素）７．１４〜８
．１０ （６Ｈ，ｍ、 ベンセン核水素）１６．５８
（ＩＨ，ｂｓ、エノール水素）工ＲＡ／ｍａｘ （ＫＢ
ｒ） ｃｍ−’ ：２９７０、２９５０．２８９０．１
７３０．１６００．１５１０゜１４６５、１２９０．１
２６０．１２３０．１１７５．１１１５゜１０９０、１
０６０．１０３５ ＵＶλｍａｚ （ＥｔＯＨ） ｎｍ ：３５３ｎｍｌ−
ｇｏｇελｍａｘ＝ ４．３８試験例 本発明化合物を４チ含有する次の組成のΦＷ型ツクリー
ム以下、本発明品という）を用い、本発明化合物がＵＶ
−Ａ照射から皮膚を防御する効果を下記方法によシ調べ
た。結果を第１表に示す。
組成ニ
ステアリン酸 １．０モノステアリ
ン酸グリセリド ｚＯセチルアルコール
１．０ステアリルアルコ
ール １．０スクワラン
１０．０流動パラフイン
２０．０ワセリン５．０ フ゛チルパラベン ０．
１メチルパラベン ０．１
トリエタノールアミン １．０
グリセリン １０．０香
料 適 量水
バランスｉｏ
ｏ、。
ン酸グリセリド ｚＯセチルアルコール
１．０ステアリルアルコ
ール １．０スクワラン
１０．０流動パラフイン
２０．０ワセリン５．０ フ゛チルパラベン ０．
１メチルパラベン ０．１
トリエタノールアミン １．０
グリセリン １０．０香
料 適 量水
バランスｉｏ
ｏ、。
試験方法：
グシュナイ） （Ｇｓｃｈｎａｉｔ ）等の方法〔アー
カイブス・オプ・デルマドロジカル・リサーチ（Ａｒｃ
ｈｉｖｅｓ ｏｆ Ｄｅｒｍａｔｏｌｏｇｉｃａｌ Ｒ
ｅ５ｅａｒｃｈ ） ２６３−＋１８１〜１８８ （１
９７８１） に従って行なった。すなわち、モルモッ
トの背部毛を刷毛し皮膚を露出させ、ＵＶ−Ａに対する
感受性を予め８−メトキシプソラーレンを腹腔内投与す
ることによシ高めた。次いで背部刷毛部皮膚に先に示し
た組成の本発明品を２■／ｄの量で塗布し、１５分後に
ＵＶ−Ａ照射を行なった。照射後、２４時間経過した時
点で皮膚の紅斑出現状態を観察し、皮膚に紅斑を生じさ
せる最少のＵＶ−Ａ照射時間を求めた。この時間と、朱
塗布部皮膚における紅斑を生じさせる最少のＵＶ−Ａ照
射時間を比較し、下式からサンプロチクティングファク
ター（以下ＳＰＦと略称する）を求めて各化合物の皮膚
防御効果を調べた。なお、比較品としてはクリームベー
スのみのものを使用した。
カイブス・オプ・デルマドロジカル・リサーチ（Ａｒｃ
ｈｉｖｅｓ ｏｆ Ｄｅｒｍａｔｏｌｏｇｉｃａｌ Ｒ
ｅ５ｅａｒｃｈ ） ２６３−＋１８１〜１８８ （１
９７８１） に従って行なった。すなわち、モルモッ
トの背部毛を刷毛し皮膚を露出させ、ＵＶ−Ａに対する
感受性を予め８−メトキシプソラーレンを腹腔内投与す
ることによシ高めた。次いで背部刷毛部皮膚に先に示し
た組成の本発明品を２■／ｄの量で塗布し、１５分後に
ＵＶ−Ａ照射を行なった。照射後、２４時間経過した時
点で皮膚の紅斑出現状態を観察し、皮膚に紅斑を生じさ
せる最少のＵＶ−Ａ照射時間を求めた。この時間と、朱
塗布部皮膚における紅斑を生じさせる最少のＵＶ−Ａ照
射時間を比較し、下式からサンプロチクティングファク
ター（以下ＳＰＦと略称する）を求めて各化合物の皮膚
防御効果を調べた。なお、比較品としてはクリームベー
スのみのものを使用した。
第１表
゛ 第１表から４′−メトキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルカルバモイル）ジペンゾイルメタンを含有するクリー
ムはσＶ−Ａ線から皮膚を効果的に防御していることが
わかる。
ルカルバモイル）ジペンゾイルメタンを含有するクリー
ムはσＶ−Ａ線から皮膚を効果的に防御していることが
わかる。
以上
手続補正書（自発）
１、 事件の表示
昭和６０年 特許 願第１９４６７４ 号２、発明の
名称 ４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキル
カルバモイル）ジペンゾイルメタン３、 補正をする者 事件との関係 出願人 住 所 東京都中央区日本橋茅場町１丁目１４番１０号
名 称 （０９１）花王石鹸株式会社 代表者 丸 １）芳 部 ４、代理人 ６、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ７６ 補正の内容 （１） 明細書中、第４頁第１行 「桂皮酸」とあるを 「桂皮酸誘導体」と訂正する。
名称 ４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキル
カルバモイル）ジペンゾイルメタン３、 補正をする者 事件との関係 出願人 住 所 東京都中央区日本橋茅場町１丁目１４番１０号
名 称 （０９１）花王石鹸株式会社 代表者 丸 １）芳 部 ４、代理人 ６、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ７６ 補正の内容 （１） 明細書中、第４頁第１行 「桂皮酸」とあるを 「桂皮酸誘導体」と訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、次式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は各々同一もしくは異
なつて低級アルキル基を示す） で表わされる４′−低級アルコキシ−２−（Ｎ，Ｎ−ジ
低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19467485A JPS6253953A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ４′−低級アルコキシ−２−（ｎ，ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19467485A JPS6253953A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ４′−低級アルコキシ−２−（ｎ，ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6253953A true JPS6253953A (ja) | 1987-03-09 |
Family
ID=16328412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19467485A Pending JPS6253953A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ４′−低級アルコキシ−２−（ｎ，ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル）ジベンゾイルメタン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6253953A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05186322A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-07-27 | Unilever Nv | 化粧品組成物 |
-
1985
- 1985-09-03 JP JP19467485A patent/JPS6253953A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05186322A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-07-27 | Unilever Nv | 化粧品組成物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4584190A (en) | Novel chalcone derivatives and ultraviolet absorbers comprising the same | |
| US4775526A (en) | 3-benzylidene benzheterazoles in ultraviolet screening compositions | |
| US5518713A (en) | Benzoxazole derivatives, the use thereof as sunscreens and cosmetic compositions containing them | |
| EP0350386B1 (fr) | Nouveaux dérivés insaturés liposolubles des benzalmalonates et leur utilisation en tant qu'absorbeurs du rayonnement ultra-violet en cosmétique | |
| US4978523A (en) | Melanin inhibitor | |
| JPS63165310A (ja) | 光に安定な化粧品組成物 | |
| US4985237A (en) | Benzylidene compounds, cosmetic compositions containing the same and ultraviolet absorber comprising the same | |
| JP3725564B2 (ja) | ベンジリデンキヌクリジノン類 | |
| JP2005539052A (ja) | 化粧品および医薬品における光安定性ｕｖフィルターとしてのジケトピペラジン誘導体の使用 | |
| US4070450A (en) | Sunscreening compound and method | |
| JPH04290882A (ja) | γ−ピロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 | |
| JPH04134041A (ja) | ｐ―キシリデンケトン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 | |
| JPH04134042A (ja) | スチリルケトン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 | |
| JPS6311343B2 (ja) | ||
| EP0646109B1 (fr) | Nouvelles 2-nitro p-phenylenediamines hydroxyethylees et leur utilisation en teinture des fibres keratiniques | |
| JP3071990B2 (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JPS6256459A (ja) | Ｎ，Ｎ−ジアルキル−ｐ−ヒドロキシシンナムアミド及びこれを含有するメラニン抑制剤 | |
| US4045549A (en) | Sulfonium salt substantive sunscreen compositions | |
| JP2780091B2 (ja) | 長波長紫外線吸収剤 | |
| JPH0987234A (ja) | 皮膚又は毛髪用紫外線吸収剤、並びにこれを含有する皮膚外用剤及び毛髪化粧料 | |
| JPH01211546A (ja) | 不飽和３―ベンジリデンカンファー誘導体および化粧品組成物 | |
| JP3170386B2 (ja) | シリコーン系ヒダントイン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤 | |
| JPS6256454A (ja) | ４′−低級アルコキシ−２−アルコキシカルボニルジベンゾイルメタン | |
| JP2002053527A (ja) | ５，５−ジアリール−２，４−ペンタジエン酸エステル系化合物および該化合物を有効成分とする紫外線吸収剤 | |
| JPH0635416B2 (ja) | ベンゾイルピナコロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 |