JPS625432B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS625432B2 JPS625432B2 JP9159383A JP9159383A JPS625432B2 JP S625432 B2 JPS625432 B2 JP S625432B2 JP 9159383 A JP9159383 A JP 9159383A JP 9159383 A JP9159383 A JP 9159383A JP S625432 B2 JPS625432 B2 JP S625432B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- atom
- group
- general formula
- benzene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Pyridine Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
本発明はカーバメート誘導体、その製造法およ
び該化合物を有効成分として含有することを特徴
とする除草剤に関する。 従来アリールチオカーバメート系化合物が医薬
として抗菌性を有することは周知である。また特
定のアリール Ｎ−アリールカーバメート系化合
物を除草剤として使用し得ることが知られてい
る。 本発明者らは先に特定のＮ−ピリジルカーバメ
ート誘導体が除草活性を有することを見出した。 本発明者らは、さらにＮ−ピリジルカーバメー
ト誘導体で、十分な除草活性を有し、かつ、高度
の選択性を有する化合物を開発すべく鋭意研究を
進めた結果、本発明を完成した。 すなわち本発明は、一般式（）： （式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、
Ｒはハロゲン原子または低級アルキル基を示し、
ｎは１または２を示す。）で表わされるカーバメ
ート誘導体（以下、本発明化合物という。）その
製造法および該化合物を有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤を提供するものである。 本発明化合物を有効成分とする除草剤は、特に
湛水下の水田において、ノビエをはじめとする多
くの雑草に対して極めてすぐれた除草活性を示す
とともに、移植水稲には実質的に無害であり、水
田用除草剤として好適である。 本発明の一般式（）で表わされるカーバメー
ト誘導体は、下記反応式に従つて製造することが
できる。 （式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、
Ｒはハロゲン原子または低級アルキル基を示し、
ｎは１または２を示し、Halはハロゲン原子を示
す。） 上記の反応は、脱ハロゲン化水素剤の存在下、
さらに反応溶媒の存在下あるいは不存在下に、通
常、０℃から150℃の反応温度で進行し、反応時
間は数分ないし48時間程度である。 脱ハロゲン化水素剤としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ、水酸化
カルシウム等の水酸化アルカリ土類、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム等の炭酸アルカリ塩、水酸化ナトリ
ウム等の水素化金属、トリエチルアミン、ジメチ
ルアニリン、ピリジン等の第三級アミン等を挙げ
ることができる。反応式(2)においては、原料の２
−メチルアミノピリジン誘導体を脱ハロゲン化水
素剤として使用できる。 反応溶媒としては、水およびメタノール，エタ
ノール，イソプロパノール等のアルコール類，ア
セトン，メチルエチルケトン等のケトン類、ベン
ゼン，トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素
類、エチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオ
キサン等のエーテル類、クロルベンゼン，クロロ
ホルム，四塩化炭素，ジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルスルホキシド等の極性溶媒等が用いられる。 本発明化合物の原料物質である置換ピリジン誘
導体、カーバモイルハライド誘導体及びチオカー
バモイルハライド誘導体は例えば次の方法で得ら
れる。 （式中Ｒ，ｎ，ＸおよびHalは前記と同じ意味
を示す。） 次に、参考例および実施例によつて本発明化合
物の製造法をさらに詳細に説明する。 ［参考例］ 200mlの電磁攪拌式オートクレーブに２，６−
ジクロルピリジン25g、40％−メチルアミン水溶
液600mlを取り、120℃にて５時間反応させた。 反応終了後、オートクレーブを冷却し内容物を
取り出し、固体を過して集めた。次いでこの固
体をｎ−ヘキサンにて再結晶し、融点63.5〜64.5
℃の２−クロル−６−メチルアミノピリジン
22.7gを得た。 元素分析値（％） 実測値 Ｃ：50.41 Ｈ：4.99 Ｎ：19.73 計算値 Ｃ：50.54 Ｈ：4.95 Ｎ：19.64 トリクロロメチルクロロホルメイト15gを200
mlのベンゼンに溶解し、これに２−クロロ−６−
メチルアミノピリジン14.25gを100mlのベンゼン
に溶かした液を10℃で攪拌しながら滴下した。反
応混合液を一昼夜攪拌下加熱還流した後、ベンゼ
ンを減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロ
マトグラフイー（シリカゲル，ベンゼン展開）で
精製し、さらにヘキサンより再結晶することによ
り、融点41〜42℃のＮ−（６−クロロ−２−ピリ
ジル）−Ｎ−メチルカルバモイルクロライド19.5g
を得た。 元素分析値（％） 実測値 Ｃ：40.79 Ｈ：3.11 Ｎ：13.29 計算値 Ｃ：41.00 Ｈ：2.94 Ｎ：13.66 〔実施例 １〕 ２−ナフチル Ｎ−（６−メチル−２−ピリジ
ル）−Ｎ−メチルカーバメートの製造法 （本発明化合物No.１） Ｎ−（６−メチル−２−ピリジル）−Ｎ−メチル
カルバモイルクロライド1.85g，２−ナフトール
1.44gおよび無水炭酸カリウム1.38gをメチルエチ
ルケトン50mlに添加し、48時間加熱還流した。 反応混合物を室温まで冷却した後、冷水中に注
ぎ、生成物をベンゼンで抽出した。ベンゼン溶液
を水，飽和塩化ナトリウム水溶液の順で洗い、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下でベン
ゼンを留去した。残留物をカラムクロマトグラフ
イー（シリカゲル，酢酸エチル／ベンゼン＝1/9
（Ｖ／Ｖ）展開）で精製して２−ナフチル Ｎ−
（６−メチル−２−ピリジル）−Ｎ−メチルカーバ
メート2.63g（収率90％）を得た。このものの一
部をエタノールより再結晶し、融点91〜92.5℃の
無色結晶を得た。 〔実施例 ２〕 ０−２−ナフチル Ｎ−（５，６−ジメチル−
２−ピリジル）−Ｎ−メチルチオカーバメート
の製造法 （本発明化合物No.８） ２，３−ジメチル−６−メチルアミノピリジン
1.36gおよび無水炭酸カリウム1.38gをアセトン20
mlに添加し、室温で攪拌しながら、０−２−ナフ
チル クロルチオホルメイト2.23gをアセトン20
mlに溶かして加えた。このまま30分間攪拌した
後、２時間加熱還流した。反応混合物を室温まで
冷却した後、冷水中に注ぎ、生成物をベンゼンで
抽出した。ベンゼン溶液を水，飽和塩化ナトリウ
ム水溶液の順で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下でベンゼンを留去した。残留物
をカラムクロマトグラフイー（シリカゲル，酢酸
エチル／ベンゼン＝1/9（Ｖ／Ｖ）展開）で精製
して０−２−ナフチル Ｎ−（５，６−ジメチル
−２−ピリジル）−Ｎ−メチルチオカーバメート
2.74g（収率85％）を得た。このものの一部をエ
タノールより再結晶し、融点108〜109℃の無色結
晶を得た。 第１表に前記一般式（）で示される化合物の
代表例および物理定数を示した。
び該化合物を有効成分として含有することを特徴
とする除草剤に関する。 従来アリールチオカーバメート系化合物が医薬
として抗菌性を有することは周知である。また特
定のアリール Ｎ−アリールカーバメート系化合
物を除草剤として使用し得ることが知られてい
る。 本発明者らは先に特定のＮ−ピリジルカーバメ
ート誘導体が除草活性を有することを見出した。 本発明者らは、さらにＮ−ピリジルカーバメー
ト誘導体で、十分な除草活性を有し、かつ、高度
の選択性を有する化合物を開発すべく鋭意研究を
進めた結果、本発明を完成した。 すなわち本発明は、一般式（）： （式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、
Ｒはハロゲン原子または低級アルキル基を示し、
ｎは１または２を示す。）で表わされるカーバメ
ート誘導体（以下、本発明化合物という。）その
製造法および該化合物を有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤を提供するものである。 本発明化合物を有効成分とする除草剤は、特に
湛水下の水田において、ノビエをはじめとする多
くの雑草に対して極めてすぐれた除草活性を示す
とともに、移植水稲には実質的に無害であり、水
田用除草剤として好適である。 本発明の一般式（）で表わされるカーバメー
ト誘導体は、下記反応式に従つて製造することが
できる。 （式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、
Ｒはハロゲン原子または低級アルキル基を示し、
ｎは１または２を示し、Halはハロゲン原子を示
す。） 上記の反応は、脱ハロゲン化水素剤の存在下、
さらに反応溶媒の存在下あるいは不存在下に、通
常、０℃から150℃の反応温度で進行し、反応時
間は数分ないし48時間程度である。 脱ハロゲン化水素剤としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ、水酸化
カルシウム等の水酸化アルカリ土類、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム等の炭酸アルカリ塩、水酸化ナトリ
ウム等の水素化金属、トリエチルアミン、ジメチ
ルアニリン、ピリジン等の第三級アミン等を挙げ
ることができる。反応式(2)においては、原料の２
−メチルアミノピリジン誘導体を脱ハロゲン化水
素剤として使用できる。 反応溶媒としては、水およびメタノール，エタ
ノール，イソプロパノール等のアルコール類，ア
セトン，メチルエチルケトン等のケトン類、ベン
ゼン，トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素
類、エチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオ
キサン等のエーテル類、クロルベンゼン，クロロ
ホルム，四塩化炭素，ジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルスルホキシド等の極性溶媒等が用いられる。 本発明化合物の原料物質である置換ピリジン誘
導体、カーバモイルハライド誘導体及びチオカー
バモイルハライド誘導体は例えば次の方法で得ら
れる。 （式中Ｒ，ｎ，ＸおよびHalは前記と同じ意味
を示す。） 次に、参考例および実施例によつて本発明化合
物の製造法をさらに詳細に説明する。 ［参考例］ 200mlの電磁攪拌式オートクレーブに２，６−
ジクロルピリジン25g、40％−メチルアミン水溶
液600mlを取り、120℃にて５時間反応させた。 反応終了後、オートクレーブを冷却し内容物を
取り出し、固体を過して集めた。次いでこの固
体をｎ−ヘキサンにて再結晶し、融点63.5〜64.5
℃の２−クロル−６−メチルアミノピリジン
22.7gを得た。 元素分析値（％） 実測値 Ｃ：50.41 Ｈ：4.99 Ｎ：19.73 計算値 Ｃ：50.54 Ｈ：4.95 Ｎ：19.64 トリクロロメチルクロロホルメイト15gを200
mlのベンゼンに溶解し、これに２−クロロ−６−
メチルアミノピリジン14.25gを100mlのベンゼン
に溶かした液を10℃で攪拌しながら滴下した。反
応混合液を一昼夜攪拌下加熱還流した後、ベンゼ
ンを減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロ
マトグラフイー（シリカゲル，ベンゼン展開）で
精製し、さらにヘキサンより再結晶することによ
り、融点41〜42℃のＮ−（６−クロロ−２−ピリ
ジル）−Ｎ−メチルカルバモイルクロライド19.5g
を得た。 元素分析値（％） 実測値 Ｃ：40.79 Ｈ：3.11 Ｎ：13.29 計算値 Ｃ：41.00 Ｈ：2.94 Ｎ：13.66 〔実施例 １〕 ２−ナフチル Ｎ−（６−メチル−２−ピリジ
ル）−Ｎ−メチルカーバメートの製造法 （本発明化合物No.１） Ｎ−（６−メチル−２−ピリジル）−Ｎ−メチル
カルバモイルクロライド1.85g，２−ナフトール
1.44gおよび無水炭酸カリウム1.38gをメチルエチ
ルケトン50mlに添加し、48時間加熱還流した。 反応混合物を室温まで冷却した後、冷水中に注
ぎ、生成物をベンゼンで抽出した。ベンゼン溶液
を水，飽和塩化ナトリウム水溶液の順で洗い、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下でベン
ゼンを留去した。残留物をカラムクロマトグラフ
イー（シリカゲル，酢酸エチル／ベンゼン＝1/9
（Ｖ／Ｖ）展開）で精製して２−ナフチル Ｎ−
（６−メチル−２−ピリジル）−Ｎ−メチルカーバ
メート2.63g（収率90％）を得た。このものの一
部をエタノールより再結晶し、融点91〜92.5℃の
無色結晶を得た。 〔実施例 ２〕 ０−２−ナフチル Ｎ−（５，６−ジメチル−
２−ピリジル）−Ｎ−メチルチオカーバメート
の製造法 （本発明化合物No.８） ２，３−ジメチル−６−メチルアミノピリジン
1.36gおよび無水炭酸カリウム1.38gをアセトン20
mlに添加し、室温で攪拌しながら、０−２−ナフ
チル クロルチオホルメイト2.23gをアセトン20
mlに溶かして加えた。このまま30分間攪拌した
後、２時間加熱還流した。反応混合物を室温まで
冷却した後、冷水中に注ぎ、生成物をベンゼンで
抽出した。ベンゼン溶液を水，飽和塩化ナトリウ
ム水溶液の順で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下でベンゼンを留去した。残留物
をカラムクロマトグラフイー（シリカゲル，酢酸
エチル／ベンゼン＝1/9（Ｖ／Ｖ）展開）で精製
して０−２−ナフチル Ｎ−（５，６−ジメチル
−２−ピリジル）−Ｎ−メチルチオカーバメート
2.74g（収率85％）を得た。このものの一部をエ
タノールより再結晶し、融点108〜109℃の無色結
晶を得た。 第１表に前記一般式（）で示される化合物の
代表例および物理定数を示した。
【表】
直径９cmの磁製ポツトに水田土壌を入れ、水を
加えて代かき後、土壌表層に雑草種子を播き、２
葉期の水稲苗（品種、日本晴）を１cmの深さに、
２本２株植とした。翌日２cmの湛水を行い、各本
発明化合物の水和剤の所定薬量をポツト当り10ml
の水に希釈して水面に滴下処理した。その後、温
室に静置し、薬液処理３週間後に除草効果および
水稲に及ぼした影響を調査した。 評価は６段階で表示したが、具体的には下記の
通りである。その結果は第２表に示した。 表示 水稲薬害 除 草 効 果 ５ 枯死 100％防除（残草量 ０％） ４ 甚害 80％防除（残草量 20％） ３ 中害 60％防除（残草量 40％） ２ 小害 40％防除（残草量 60％） １ 僅小害 20％防除（残草量 80％） ０ 無害 ０％防除（残草量100％）
加えて代かき後、土壌表層に雑草種子を播き、２
葉期の水稲苗（品種、日本晴）を１cmの深さに、
２本２株植とした。翌日２cmの湛水を行い、各本
発明化合物の水和剤の所定薬量をポツト当り10ml
の水に希釈して水面に滴下処理した。その後、温
室に静置し、薬液処理３週間後に除草効果および
水稲に及ぼした影響を調査した。 評価は６段階で表示したが、具体的には下記の
通りである。その結果は第２表に示した。 表示 水稲薬害 除 草 効 果 ５ 枯死 100％防除（残草量 ０％） ４ 甚害 80％防除（残草量 20％） ３ 中害 60％防除（残草量 40％） ２ 小害 40％防除（残草量 60％） １ 僅小害 20％防除（残草量 80％） ０ 無害 ０％防除（残草量100％）
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（）： （式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、
Ｒはハロゲン原子または低級アルキル基を示し、
ｎは１または２を示す。）で表わされるカーバメ
ート誘導体。 ２ 一般式（）： （式中、Ｙは水素原子、ハロカルボニル基また
はハロチオカルボニル基である。）で表わされる
ナフトール誘導体を 一般式（）： （式中、Ｚは（）式のＹが水素原子のときハ
ロカルボニル基またはハロチオカルボニル基であ
り、（）式のＹがハロカルボニル基またはハロ
チオカルボニル基のとき水素原子であり、Ｒはハ
ロゲン原子または低級アルキル基であり、ｎは１
または２を示す。）で表わされるアミノピリジン
誘導体と反応させることを特徴とする。 一般式（）： （式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、
Ｒはハロゲン原子または低級アルキル基を示し、
ｎは１または２を示す。）で表わされるカーバメ
ート誘導体の製造法。 ３ 一般式（）： （式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、
Ｒはハロゲン原子または低級アルキル基を示し、
ｎは１または２を示す。）で表わされるカーバメ
ート誘導体を有効成分として含有することを特徴
とする除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9159383A JPS59216874A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | カ−バメ−ト誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9159383A JPS59216874A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | カ−バメ−ト誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59216874A JPS59216874A (ja) | 1984-12-06 |
| JPS625432B2 true JPS625432B2 (ja) | 1987-02-04 |
Family
ID=14030845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9159383A Granted JPS59216874A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | カ−バメ−ト誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59216874A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01150334U (ja) * | 1988-04-09 | 1989-10-18 | ||
| JPH03109231U (ja) * | 1990-02-23 | 1991-11-11 |
-
1983
- 1983-05-26 JP JP9159383A patent/JPS59216874A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01150334U (ja) * | 1988-04-09 | 1989-10-18 | ||
| JPH03109231U (ja) * | 1990-02-23 | 1991-11-11 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59216874A (ja) | 1984-12-06 |
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