JPS6260123A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、特に六方晶系の板状磁性粉を含有する磁性層
を有する塗布型の磁気記録媒体に関する。 さらに詳し
くは六方晶系板状磁性粉を特にディスク媒体に使用した
時のオーバーライ □ト特性を改善しようとするも
のである。 先行技術とその問題点 近年、磁気記録に関して、記録の大容量化。 小型化を達成するために記録密度の向上が強く要望され
てい“る。 従来、生産性等に優れたメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、γ−Fe2O3、Co被被着−Fe
2O2等の針状磁性粉 。 を含有させた磁性層を有するものが;り(、川されてき
た。 しかしながら、このような磁性粉を有する磁気
記録媒体では、その記録密度に、おのずから限界がある
。 そこで、より高記録密度化を可使にならしめる方策とし
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を用い
る方式が提案されている。 このような垂直方式に用いられる媒体としては1例えば
BaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性
粉を磁性層に含有する磁気記録媒体がある。 このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化が実現するが、ディスク媒体として、従来のリング
型磁気ヘッドを用いたとき、十分なオーバーライド特性
を得ることができないという問題があり、この点の改善
が強く必要とされている。 II 発明の目的 本発明の目的は、オーバーライド特性が良好で、しかも
記録密度が高く、磁気特性の良好な磁気記録媒体、特に
ディスク媒体を提供することにある。 ■ 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち1本発明は、支持体上に板状磁性粉とバインダ
ーとを含有する磁性層を有する磁気記録媒体において。 板状磁性粉が平均粒径(x) 0 、1’5 gm以下
であり、かつ粒径分布の標準偏差(α)0゜36x以下
であることを特徴とする磁気記録媒体である。 ■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明の磁気記録媒体は、下記のような六方晶系板状磁
性粉とバインダ、−左を含有する磁性層を有する。 本発明に用いる六方晶系板状磁性粉は、好ましくは六角
板状のバリウムフェライト系、ストロンチウムフェライ
ト系のものであり、平均粒径(x)は、0.15p層以
下、通常o、oi〜O,L5p+sであり、かつ粒径分
布の標準偏差(σ)が0.36x以下のものである。 すなわち、オーバーライド特性について磁性粉の面より
追及した結果:磁性粉の粒径分布が大きいと、媒体のオ
ーバーライド特性が悪くなる関係があることを見出した
。 そして、種々実験を行った結果、平均粒径(又)が0.
151Lm以下であり、かつ粒径分布(σ)が0.36
x以下であれば、オーバーライド特性が実質上問題ない
ことがわかった。 平均粒径(i)が0.15!■をこえると、表面粗度が
悪くなり出力低下を生じる。 また、iがあまりに小さくなると強磁性とならず、磁性
粉の製造が困難となる傾向にある。 このため、又は通常0.005gm以上、特に0.01
〜0.15p4程度とすることが好ましい。 また、平均粒径(X)が0.15gm以下を満足してい
ても、粒径分布の標準偏差(σ)が0.36EIEをこ
えるとオーバーライド特性が悪くなる。 板状磁性粉の平均厚みは0.0006〜0゜15pm、
特に0.0008〜0.05gm程度である。 また板状磁性粉の平均板状比は1以上のものであればよ
い、 この場合、板状比の上限値には特に制限はないが
、通常、30以下である。 ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真(SEMおよび
TEM)によって、例えば六方晶系のバリウムフェライ
ト粒子の断面100個程度を観察し、粒径についての測
定値を平均したものである。 平均厚みも電子顕微鏡写
真による測定値の平均である。 また平均板状比とは平
均粒径/平均厚みの値である。 バリウムフェライトとしては、B a F e 120
19等の六方晶系バリウムフェライトやノヘリラムフェ
ライトのBa、Feの一部をCa。 Sr、Pb、Co、Ni、Ti、Cr、Zn、I n、
Mn、Cu、Ge、Nb、Zr、Snその他の金属で置
換したもの等が挙げられる。 また、六方晶ストロンチウムフェライトSrF e +
7019、あるいはこれを上記に準じて置換したもので
あってもよい。 これらは併用してもよい。 バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい、 これらの方
法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミック
ス18 (1983)No、10”などを参照すること
ができる。 このような磁性粉を含有する磁性層の厚さは5通常の厚
さであってよ<、0.1〜101程度とされる。 磁性層の垂直方向の保磁力(Hc JL)は、8000
e以下、特に400〜8000 e、さらに400〜7
000e程度が好ましい。 磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以五、平均分
子量10.000〜 200.000、重合度200〜2.000程度のもの
である。 熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子−1itは無限大のもの
となるものである。 そして、これらの樹脂のなかで5
MA脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しないも
のが好ましい。 、具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホ
ルマール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ーン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分
子址ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリマーの
混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプ
レポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイ
ソシアネートの混合物、低分子量−グリコール/高分子
品−ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネート
の混合物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネート化
合物などの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル
(カルボン酸含有も含ム)、塩化ビニル−ビニルアルコ
ール−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、
ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル共玉舎
系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロ
ースアセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混
合物、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と
架橋剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好適であ
る。 そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第3.058,844号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭4
9−131101号に記載のビスフェノールA型エポキ
シ樹脂とアクリル酎エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物が好ましい。 このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すれ
ばよい。 バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。 放射Va、硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重
合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を
熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である
。 その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結
合を有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物1例えば下記(2)の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上
にマレイン醜、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の
存在下で。 180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アル
コール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5
〜l+mmHgの減圧下、縮合反応により得ることがで
きる。 マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の
架橋、放射線硬化性等から酸成分中1−40モル%、好
ましくは10〜30モル%である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 (1) ffm化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合(4,
11!化ビニール−ビー、−ルアルコーループロピオン
酸ビニール共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マ
レイン酸共ffi合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−
ビニルアルコール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール
−酢酸ビニール−末端OH@鎖アルキル基共重合体1例
工jf U CC社製VROH,VYNC。 VYEGX、VERR,VYES、VMCA、VAGH
,UCARMAG520.UCARMAG528等が挙
げられ、このものにアクリル系二重結合、マレイン酸系
二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性
を行う。 これらはカルボン酸を含有してもよい。 (2)飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1.2プロピレングリコール、
1,3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1゜
4ブタンジオール、1.6ヘキサンジオール。 ペンタエリスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオ
ペンチルグリコール、1.4シクロヘキサンジメタツー
ルのような多価アルコールとのエステル結合により得ら
れる飽和ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル
樹脂をSO3Na等で変性した樹脂(例えばバイロン5
3S)が例として挙げられ、これらも放射線感応変性を
行う。 (3)ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。 (4)エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート152゜154 、828 、1001.100
4.1007) 、ダウケミカル製(D E N431
、 D E R732、D E R511、DER3
31)、大日木インキ製(エピクロン400 、800
)、さらに上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社
製フェノキシ樹脂(PKHA、PKHC,PKHH)、
臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの共重
合体、大日本インキ化学工業製(エビクロン145.1
52 、153 、1120)等があり、またこれらに
カルボン酸基を含有するものも含まれる。 これら樹脂
中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行
う。 (5)繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射線感応性・性に用いることのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PV
Pオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基
を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステル
を組合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 (1)ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。 ウレタン化合物の例としては、インシアネート
として、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−
トルエンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシ
アネート、1.4−キシレンジイソシアネート、1.5
−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソ
シアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3.3
′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート
、3.3′−ジメチルビフェニレンジイソシアネー)、
4.4′−ビフ、エニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、インフォロンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモ
ジュールL、デスモジュールN等の各種多価インシアネ
ートと、線状飽和ポリエステル(エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、1.4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペン
チルグリコール、1.4−シクロヘキサンジメタツール
の様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、コハク族、アジピン酸、セバシン酸の様な
飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和ポリエ
ーテル(ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、ポリテトラメチレングリコール)やカプロラク
タム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒトミキ
シル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のインシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有する
ものも含む。 さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。 (2)アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいはロ木ゼオ
ン社製ハイカー+432J 1のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
架橋および重合させるエラストマー成分として適する。 (3)ポリブタジェンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンR−15′:Jの低分子量末端水酸基を有するプレポ
リマーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である
。 R−15プレポリマーにおいては分子末端が水酸
基となっている為1分子末端にアクリル系不飽和二重結
合を付加することにより放射線感応性を高めることが可
能であり、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴ・ム製CBR
−M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性
質を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
へイロン#300)等のエラストマーも放射vj感応変
性処理を施すことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレ−)・。 エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6
−ヘキサングリコールジアクリレート、1.6−ヘキサ
ングリコールジアクリレート、N−ビニルピロリドン、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタクリレ
ート)、ペンタエリ−スリトールトリアクリレート (
メタクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
多官能オリゴエステルアクリレート(アロニックスM−
7100、M−5400、5500、5700等、東亜
合成)、ウレタンエラストマーにツインラン4040’
)のアクリル変性体、あるいはこれらのものにC0OH
等の官能基が導入されたもの、トリメチロールプロパン
ジアクリレート(メタクリレート)フェノールエチレノ
キシド付加物のアクリレート(メタクリレート)、下記
一般式で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリ
ル基(メタクリル基)またはεカプロラクトン−アクリ
ル基のついた化合物。 ]8 式中、m=1.a=2、b=4の化合物(以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Aという)、 m−1,a=3.b=3の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、m−1,a=6、b=
oの化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物C
という)、m−2、a=6.b=oの化合物(以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、および下記
式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる
。 1) (CH2=CHCOOCH2)3 CCH2
0H(特殊アクリレートA) 2) (CH2=CHCOOCH2)3 CCH
2CH3(特殊アクリレートB) 3) (CH2=CHCO(OC2H5)n−OC
H2)3−CCH2CH3(特殊アクリレートC) (特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) CH2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレートF) (特殊アクリレートH) +2) A+M−N+nM−A A:アクリノLa M : 2(fアルコール(特殊
アクリレ−)−L) 次に,放射&a[応性バインダー合成例を説明する。 a)3i!化ビニ一ル酢酸ビニール共重合系樹脂のアク
リル変性体(放射線感応変性樹脂)の合成○H基を有す
る一部ケン化塩ビー酢ビ共重合体(平均重合度 n=5
00)750部とトルエン1250ffl!、シクロへ
キサノン500部を51の4つロフラスコに仕込み、加
熱溶解し、80℃昇温後トリレンジイソシアネートの2
−ヒドロキシエチルメタクリレートアダクト※を61、
4部加え,さらにオクチル酸スズ0。 012部、ハイドロキノン0.012部を加え、80°
CでN2気流中、NGO反応率が90%となるまで反応
せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250分を加
え希釈する。
を有する塗布型の磁気記録媒体に関する。 さらに詳し
くは六方晶系板状磁性粉を特にディスク媒体に使用した
時のオーバーライ □ト特性を改善しようとするも
のである。 先行技術とその問題点 近年、磁気記録に関して、記録の大容量化。 小型化を達成するために記録密度の向上が強く要望され
てい“る。 従来、生産性等に優れたメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、γ−Fe2O3、Co被被着−Fe
2O2等の針状磁性粉 。 を含有させた磁性層を有するものが;り(、川されてき
た。 しかしながら、このような磁性粉を有する磁気
記録媒体では、その記録密度に、おのずから限界がある
。 そこで、より高記録密度化を可使にならしめる方策とし
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を用い
る方式が提案されている。 このような垂直方式に用いられる媒体としては1例えば
BaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性
粉を磁性層に含有する磁気記録媒体がある。 このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化が実現するが、ディスク媒体として、従来のリング
型磁気ヘッドを用いたとき、十分なオーバーライド特性
を得ることができないという問題があり、この点の改善
が強く必要とされている。 II 発明の目的 本発明の目的は、オーバーライド特性が良好で、しかも
記録密度が高く、磁気特性の良好な磁気記録媒体、特に
ディスク媒体を提供することにある。 ■ 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち1本発明は、支持体上に板状磁性粉とバインダ
ーとを含有する磁性層を有する磁気記録媒体において。 板状磁性粉が平均粒径(x) 0 、1’5 gm以下
であり、かつ粒径分布の標準偏差(α)0゜36x以下
であることを特徴とする磁気記録媒体である。 ■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明の磁気記録媒体は、下記のような六方晶系板状磁
性粉とバインダ、−左を含有する磁性層を有する。 本発明に用いる六方晶系板状磁性粉は、好ましくは六角
板状のバリウムフェライト系、ストロンチウムフェライ
ト系のものであり、平均粒径(x)は、0.15p層以
下、通常o、oi〜O,L5p+sであり、かつ粒径分
布の標準偏差(σ)が0.36x以下のものである。 すなわち、オーバーライド特性について磁性粉の面より
追及した結果:磁性粉の粒径分布が大きいと、媒体のオ
ーバーライド特性が悪くなる関係があることを見出した
。 そして、種々実験を行った結果、平均粒径(又)が0.
151Lm以下であり、かつ粒径分布(σ)が0.36
x以下であれば、オーバーライド特性が実質上問題ない
ことがわかった。 平均粒径(i)が0.15!■をこえると、表面粗度が
悪くなり出力低下を生じる。 また、iがあまりに小さくなると強磁性とならず、磁性
粉の製造が困難となる傾向にある。 このため、又は通常0.005gm以上、特に0.01
〜0.15p4程度とすることが好ましい。 また、平均粒径(X)が0.15gm以下を満足してい
ても、粒径分布の標準偏差(σ)が0.36EIEをこ
えるとオーバーライド特性が悪くなる。 板状磁性粉の平均厚みは0.0006〜0゜15pm、
特に0.0008〜0.05gm程度である。 また板状磁性粉の平均板状比は1以上のものであればよ
い、 この場合、板状比の上限値には特に制限はないが
、通常、30以下である。 ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真(SEMおよび
TEM)によって、例えば六方晶系のバリウムフェライ
ト粒子の断面100個程度を観察し、粒径についての測
定値を平均したものである。 平均厚みも電子顕微鏡写
真による測定値の平均である。 また平均板状比とは平
均粒径/平均厚みの値である。 バリウムフェライトとしては、B a F e 120
19等の六方晶系バリウムフェライトやノヘリラムフェ
ライトのBa、Feの一部をCa。 Sr、Pb、Co、Ni、Ti、Cr、Zn、I n、
Mn、Cu、Ge、Nb、Zr、Snその他の金属で置
換したもの等が挙げられる。 また、六方晶ストロンチウムフェライトSrF e +
7019、あるいはこれを上記に準じて置換したもので
あってもよい。 これらは併用してもよい。 バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい、 これらの方
法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミック
ス18 (1983)No、10”などを参照すること
ができる。 このような磁性粉を含有する磁性層の厚さは5通常の厚
さであってよ<、0.1〜101程度とされる。 磁性層の垂直方向の保磁力(Hc JL)は、8000
e以下、特に400〜8000 e、さらに400〜7
000e程度が好ましい。 磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以五、平均分
子量10.000〜 200.000、重合度200〜2.000程度のもの
である。 熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子−1itは無限大のもの
となるものである。 そして、これらの樹脂のなかで5
MA脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しないも
のが好ましい。 、具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホ
ルマール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ーン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分
子址ポリエステル樹脂とインシアネートプレポリマーの
混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプ
レポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイ
ソシアネートの混合物、低分子量−グリコール/高分子
品−ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネート
の混合物など、上記の縮重合系樹脂とインシアネート化
合物などの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル
(カルボン酸含有も含ム)、塩化ビニル−ビニルアルコ
ール−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、
ビニルブチラール、ビニルホルマール等のビニル共玉舎
系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロ
ースアセトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混
合物、ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と
架橋剤との混合物、さらにはこれらの混合物が好適であ
る。 そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第3.058,844号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭4
9−131101号に記載のビスフェノールA型エポキ
シ樹脂とアクリル酎エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物が好ましい。 このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すれ
ばよい。 バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。 放射Va、硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重
合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を
熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である
。 その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結
合を有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物1例えば下記(2)の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上
にマレイン醜、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の
存在下で。 180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アル
コール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5
〜l+mmHgの減圧下、縮合反応により得ることがで
きる。 マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の
架橋、放射線硬化性等から酸成分中1−40モル%、好
ましくは10〜30モル%である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 (1) ffm化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合(4,
11!化ビニール−ビー、−ルアルコーループロピオン
酸ビニール共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マ
レイン酸共ffi合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−
ビニルアルコール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール
−酢酸ビニール−末端OH@鎖アルキル基共重合体1例
工jf U CC社製VROH,VYNC。 VYEGX、VERR,VYES、VMCA、VAGH
,UCARMAG520.UCARMAG528等が挙
げられ、このものにアクリル系二重結合、マレイン酸系
二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性
を行う。 これらはカルボン酸を含有してもよい。 (2)飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1.2プロピレングリコール、
1,3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1゜
4ブタンジオール、1.6ヘキサンジオール。 ペンタエリスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオ
ペンチルグリコール、1.4シクロヘキサンジメタツー
ルのような多価アルコールとのエステル結合により得ら
れる飽和ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル
樹脂をSO3Na等で変性した樹脂(例えばバイロン5
3S)が例として挙げられ、これらも放射線感応変性を
行う。 (3)ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。 (4)エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート152゜154 、828 、1001.100
4.1007) 、ダウケミカル製(D E N431
、 D E R732、D E R511、DER3
31)、大日木インキ製(エピクロン400 、800
)、さらに上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社
製フェノキシ樹脂(PKHA、PKHC,PKHH)、
臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの共重
合体、大日本インキ化学工業製(エビクロン145.1
52 、153 、1120)等があり、またこれらに
カルボン酸基を含有するものも含まれる。 これら樹脂
中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行
う。 (5)繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射線感応性・性に用いることのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PV
Pオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基
を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステル
を組合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 (1)ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。 ウレタン化合物の例としては、インシアネート
として、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−
トルエンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシ
アネート、1.4−キシレンジイソシアネート、1.5
−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソ
シアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3.3
′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート
、3.3′−ジメチルビフェニレンジイソシアネー)、
4.4′−ビフ、エニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、インフォロンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモ
ジュールL、デスモジュールN等の各種多価インシアネ
ートと、線状飽和ポリエステル(エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、1.4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペン
チルグリコール、1.4−シクロヘキサンジメタツール
の様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、コハク族、アジピン酸、セバシン酸の様な
飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和ポリエ
ーテル(ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、ポリテトラメチレングリコール)やカプロラク
タム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒトミキ
シル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のインシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。
また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含有する
ものも含む。 さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。 (2)アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいはロ木ゼオ
ン社製ハイカー+432J 1のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
架橋および重合させるエラストマー成分として適する。 (3)ポリブタジェンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンR−15′:Jの低分子量末端水酸基を有するプレポ
リマーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である
。 R−15プレポリマーにおいては分子末端が水酸
基となっている為1分子末端にアクリル系不飽和二重結
合を付加することにより放射線感応性を高めることが可
能であり、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴ・ム製CBR
−M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性
質を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
へイロン#300)等のエラストマーも放射vj感応変
性処理を施すことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレ−)・。 エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6
−ヘキサングリコールジアクリレート、1.6−ヘキサ
ングリコールジアクリレート、N−ビニルピロリドン、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタクリレ
ート)、ペンタエリ−スリトールトリアクリレート (
メタクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
多官能オリゴエステルアクリレート(アロニックスM−
7100、M−5400、5500、5700等、東亜
合成)、ウレタンエラストマーにツインラン4040’
)のアクリル変性体、あるいはこれらのものにC0OH
等の官能基が導入されたもの、トリメチロールプロパン
ジアクリレート(メタクリレート)フェノールエチレノ
キシド付加物のアクリレート(メタクリレート)、下記
一般式で示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリ
ル基(メタクリル基)またはεカプロラクトン−アクリ
ル基のついた化合物。 ]8 式中、m=1.a=2、b=4の化合物(以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Aという)、 m−1,a=3.b=3の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、m−1,a=6、b=
oの化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物C
という)、m−2、a=6.b=oの化合物(以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、および下記
式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる
。 1) (CH2=CHCOOCH2)3 CCH2
0H(特殊アクリレートA) 2) (CH2=CHCOOCH2)3 CCH
2CH3(特殊アクリレートB) 3) (CH2=CHCO(OC2H5)n−OC
H2)3−CCH2CH3(特殊アクリレートC) (特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) CH2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレートF) (特殊アクリレートH) +2) A+M−N+nM−A A:アクリノLa M : 2(fアルコール(特殊
アクリレ−)−L) 次に,放射&a[応性バインダー合成例を説明する。 a)3i!化ビニ一ル酢酸ビニール共重合系樹脂のアク
リル変性体(放射線感応変性樹脂)の合成○H基を有す
る一部ケン化塩ビー酢ビ共重合体(平均重合度 n=5
00)750部とトルエン1250ffl!、シクロへ
キサノン500部を51の4つロフラスコに仕込み、加
熱溶解し、80℃昇温後トリレンジイソシアネートの2
−ヒドロキシエチルメタクリレートアダクト※を61、
4部加え,さらにオクチル酸スズ0。 012部、ハイドロキノン0.012部を加え、80°
CでN2気流中、NGO反応率が90%となるまで反応
せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250分を加
え希釈する。
【※トリレンジイソシアネート(TDI)の2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート(2 HEMA)アダクトの
製法 TDI348部をN2気流中11の4つロフラスコ内で
80℃に加熱後,2−エチレンメタクリレート260部
、オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05
部を反応缶内の温度が80〜85°Cとなるように冷却
コントロールしながら滴下終了後80℃で3時間撹拌し
、反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のTD
Iの2HEMAを得た.】 b)ブラチール樹脂アクリル変性体に合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−5100部をトルエン
191.2部、シクロヘキサノン71、/l)と共に5
1の4つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温
後TDIの2HEMAアダクト※を7.4部加え、さら
にオクチル酸スズO.OL51,ハイドロキノン0。 015ifを加え、80℃テN 2気流中NCo反応率
が90%以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて6釈する。 C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合1&(放
射線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−200)
、100部をトルエン11.6部、メチルエチルケトン
116部に加熱溶解し、806C昇温後、TDIの2H
EMAアダクト※を3655部加え、さらにオクチル酸
スズ0゜007部、ハイドロキノン0.007部を加え
、80°CでN2気流中NGO反応率が90部以りとな
るまで反応せしめる。 d)Oエポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) エポキシ樹脂(シェル化学製エピコート1007)40
0部をトルエン50部、メチルエチルケトン50部に加
熱溶解後、N、N−ジメチルベンジルアミン0.006
部、ハイドロキノン0.003部を添加し80’0とし
、アクリル酸69部を滴下し、80℃で酸価5以下とな
るまで反応せしめる。 ■フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) OH基を有するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC社製
分子量30000)600部、メチルエチルケトン1
8008tlを31の4つ目フラスコに仕込み、加熱溶
解し、80℃昇温後、トリレンジイソシアネートの2と
ドロキシエチルメタクリレートアダクトを6.0部加え
、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハイドロキノン
0.012部を加え、80℃でN2気流中、NGO反応
率が90%となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、35000.1分子
当りの二重結合は1個である。 e)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線硬化性エラストマー) 末端インシアネートのシフ、エニルメタンジイソシアネ
ートCMDI)系ウレタンプレポリマー(日本ポリウレ
タン製ニッポラン3119)250部、2HHMA32
.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0
.009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TD
143.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるよ
うに冷却しながら滴下し、滴下終了後、80℃で反応率
95%以上となるまで反応せしめる。 f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体(放射線硬化性エラストマー)の合成 1部本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500,
250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.
07部、オクチル酸スズ0゜009部を反応缶にいれ、
80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶内の温
度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴
下終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反応せ
しめる。 g)ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線硬化性エラストマー)シンクレアペトロケミカ
ル社製低分子量末端水酩基ポリブタジェンポリBDリク
ィフトレジンR〜15250部、2HEMA32.5部
、ハイドロキノン0,07部、オクチル酸スズ0.00
9部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43
.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷
却しながら滴下し1滴下終了後、80℃で反応率95%
以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーで
あれば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反
応が起こるので、前記変性体の他に、こ −れらの樹
脂はそのまま使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、に述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。 この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンツイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセトフェノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド等のスルフィト類、等を挙げることができる。
光重合#S感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量
%の範囲が望ましい。 紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。 一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜30
0KVの放射線加速器を用い、吸収線量を0.5〜20
メガラ7ドになるように照射するのが好都合である。 特にjgj射線源としては、吸収線量の制御、製造[程
ラインへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射
線加熱器により電子線を使用する方法および前述した紫
外線を使用する方法が右利である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても・短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。 またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。 磁性粉/バインダーは1重量比で1/1〜9/1.特に
2/1〜8/1であることが好ましい。 このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度
が低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。 この他、公知の各種熱可塑性樹脂をバインダーとして用
いることもできる。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。
溶剤としては特に制限はないが、)〜イングーの溶解性
および相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コールm、l−ルエン、キシレン、エチルベンゼン等の
芳香族)父化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。 これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000w
t%、特に100〜5000wt%の一11合で用いる
。 磁性層には無機顔料が含まれていても≧い。 無機顔料としては、1)導電性のあるカーポンプラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブランク、ま
た2)無機充填剤として5i02.TiO2,A120
3、Cr2O3、S iC,CaO1CaCO3B酸化
亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe203.タルク、カオリン
、CaSO4,窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデ
ン、ZnS等がある。 またこの他、次のような微粒子
顔料(エアロジルタイプ、コロイダルタイプ):5i0
2、A交203 、TiO2、ZrO2、 Cr203 、Y203 、CeO2、Fe304 、
Fe203 、ZrSiO4、Sb205.5n02等
も用いられる。 これら微粒子顔料は、例えば5i0
2の場合、■無水硅醜の超微粒子コロイド溶液(スノー
テックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産化学)
、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒
子状無水シリカ(標準品100人)(アエロジル、日本
アエロジル株式会社)などが挙げられる。 また、前記
■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製
造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チ
タンおよび前述の微粒子顔料が使用され得る。 この様
な無機顔料の使用量は1)に関してはバインダー100
重量部に対して1〜30重量部、また2)に関しては1
〜30重量部が適当であり、これらがあまり−多くなる
と、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。 また、無機顔料の径については1)に関しては0.1g
m以下、さらには0.057z−以下が好ましく、2)
に関しては0 、7 gts以下、さらには0.05g
、m以下が好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤:高
級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基。 燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;
アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの
硫醜または燐酸エステル等の両性活性剤などが使用され
る。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フン素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としては、カプリル醜、カプリン醜。 ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
醜、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、す、ノール
酩、リルン酩、ステアロール酸等の炭素数12以−ヒの
脂肪酸(RCOOHlRは炭素数11以上のアルキル基
)であり、脂肪酸エステルとしては、炭素数12〜16
個の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の一価のアルコ
ールからなる脂肪酸エステル類、炭素数17個以上の一
塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が2
1〜23個よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸
エステル等が使用され、また前記脂肪酸のアルカリ金属
またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、レシチン等
が使用される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。 アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等
によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。 これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径
の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が
可能である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、−メタクリル酸エステル、ビニル酢醜
エステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコー
ルエステル、メチルビニルアルコールエステル、アリル
アルコールエステル、グリセライド等があり、これらの
潤滑剤を構造式で表すと、 CH2=CH−CH2C00R1 CH2=CHC0NHCH2C0OR。 RCOOCH=CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等?、 コ、:’t’R
は直鎖または分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水Jr:
)、’;で、炭素数は7以上、好ましくは12以」、
23以下であり、これらはフン素置換体とすることもで
きる。 フッ素置換体としては、 CnF −1CnF (CH2)m−2n÷1
2n+1 (ただし、m=1〜5)、 CnF SO2NCH2CH2−12n+1 CnFnCH2CH2NHCH2CH2−10′2□−
1゜Xつ−02(ト)− 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート (アクリレート)、
グリセリンのメタクリレート(アクリレート)、クリコ
ールのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンの
メタクリレート(アクリレート)等が挙げられる。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20
重量部含ませるのがよい。 支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。 これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。 本発明のlia気記録媒体では支持体の両面に磁性層を
設けてもよい。 このような媒体としては、例えばフロ
ッピーディスク、ハードディスク等がある。 この場合、特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。 また必要に応じてアンダーコー1− 、/<ツクコート
およびトップコートを設けてもよい。 なお、パンクコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの’1人体1−. +こグラビアコート
、リバースロールコート、エアーナイフコート、エアー
ドクターコート、ブレードコート、キスコート、スプレ
ィコートなどの手法を用いて塗布し、必要に応じて水平
方向や垂直方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し
、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい、 そし
て必要に応じてバックコートおよびトップコートを設け
ればよい。 配向処理は、常法に従い、上述したような所定の垂直角
型比および保磁力を得るために種々の方υ、をとりうる
。 たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交am
場が代表的なものとして用いられ。 それらのものの各種組合せ、例えば垂直と水平のM1合
せ、水平配向、永久磁石または直流磁場と交流磁場の組
合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組合せ等、種々
のものが用いられる。 配向に用いる磁場強度としてはtooo〜6000Gが
好ましい。 未発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透(a率金属薄膜や各種塗膜のア
ンダーコート層を設けることもできる。 これらは併用
してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、前述したような8硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。 導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい、
カーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、
アセチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造
されたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネ
スブラック、チャンネルブラー2り、ローラーおよびデ
ィスクブラック及びドイツナフタリンブラックが好まし
い。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
N100N10O,特に好ましくはlO〜80mg+
sである。 更に粒子径について言えば、粒子径110
01pを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が悪く
なり、磁性層塗布後の1特低下の原因となる。 また1
0+*gi未満では分散がうまくいかず、やはりアンダ
ーコートの表面粗度が悪くなる。 カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。 このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗45工程等の製造工
程中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放
電ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さは10人〜5鉢曽程度とするこ
とが好ましい。 用いる磁気ヘッドとしては、通常、例えば、カード/ヘ
ノド形成用のみに消去ヘッドを持つようなリードライト
用のリング型ヘッドが用いられ、特に塗布型の磁気記録
媒体においては、従来までの安定性で実績のあるリング
型ヘッドが使用出来るため薄膜型の磁気記録媒体に比べ
有利である。 ■ 発明の具体的作用効果 本発明によれば、平均粒径(X)が0.15用量以下で
あり、かつ粒径分布の標準偏差(σ)が0.36x以下
である板状磁性粉を含有するため、オーバーライド特性
が良好となる。 従って、得られた媒体は線記録密度、分解能が大きくし
かも出力安定性が格段と高い。 このような磁気記録媒体は、各種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイル
、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カード等に用
いられる。 ■ 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 [実施例1] JFX サ75 g層のポリエステル(PET)フィル
ムの表面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコ
ート層を設層した。 アンダーニート4 gL量陥部カー
ボンブラック20mル履 50(A)アクリ
ル変性基ビー酢ビービニルアルコール共重合体 分子量
45.000 45(B)アクリル変性ポリウレタン
エラストマー分子量 5 、000
45(C)ペンタエリスリトールトリアクリレートス
テアリン酸 2ステア
リン酸ブチル 2混合溶剤(M
IBK/トルエン=1/1) 300上記混合物をボ
ールミル中5時間分散させ。 下記のポリエステル(PET)フィルム上に乾燥厚0.
7.厘になるように塗布し、表面平滑化処理を行い、エ
レクトロンカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速
電圧150KeV、TL極電流10mA、吸収線量5M
rad、N2ガス中で電子線をアンダーコート層に照射
した。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のす/プルを作製した。 すなわち、まず最初に、下記に示すような板状比、保磁
力をもち、下記表1に示すようなモ均粒径シおよびσを
もつ六方晶系バリウムフェライト(B a F e 1
2019のBa、Feを一部置換したものを水熱合成法
で合成)の磁性粉を用意した。 区 分 Co Ti Cu
Zr (Oe)2 7 2
− 2.3 7003 13
5 − 2.8 420582
− −.3 820−下記の磁性粉について表
1に示される平均粒径(マ)、粒径分布の標準偏差(σ
)を有する磁性粉lを用いて以下のようにして磁性塗料
を作成した。 バリウムフェライト 120重量部α−A文2
03 2重量部(0,5に厘粉状) カーボンブラック 10重量部(20m庚
1) 溶剤(MEK/)ルエン: 100重量部]二足組成
物をボールミル中にて3時間混合し、バリウムフェライ
トをよく湿潤させた。 次に、下記に示すバインダー1を磁性分混合物の入った
ボールミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。 バインダー1 塩化どニルー酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸含有率=1% MW40.000)8重量部(固型分換算)、アクリル
二重結合導入塩化ビニル−酢醜ビニル共重合体(マレイ
ン酸含有率=1% MW20,000)10重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40.000)9重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレ−63重積部、 溶剤(MEK/lルエン;50150)200屯量部 ステアリン酸を4重量部。 および ステアリン酸ブチル2重量部 を混合溶解させた。 このようにして得られた磁性塗料をアンターコートを設
けたポリエステルフィルム上にグラビアコートを行い、
配向方法は無配向処理とし、その後遠赤外線ランプまた
は熱風により溶 −剤を乾燥させ表面平滑化処理をし
た。 その後、ESI社製エレクトロンカーテンタイプ電子線
加速装置を使用して加速電圧150KeV、電極’it
t波20 m A、全照射縫5Mradの条件下でN2
雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。 硬
化後の塗膜(磁性層)の厚さは1.5.mであった。
なお、この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った
。 これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。 このようにして作製したものを試料1〜12(表1)と
する、 これらの試料について特性を調べた。 特性は以下のように評価した。 (1)十−パーライト特性 磁気記録媒体サンプル上10KFRPIの矩形波をリン
グ型ヘッドにて書き込み、その上に20KFRPrを重
ね書きし、出力差を測定した。 出力万人の方がオーバ
ーライド特性が良い。 [実施例2] 実施例1で用いた両面にアンダーコート層を1没けたポ
リエステル(PET)フィルムを用い、アンターコート
層の両面上に、さらに下記に示されるような磁性塗料か
らなる磁性層を形成し1種々のサンプルを作製した。 すなわち、表1に示される平均粒径(叉)、粒径分10
の標準偏差(σ)を有する磁性粉2を用い、バインダー
として下記に示されるバインダー2を用いて実施例1と
同様に磁性塗料を作成した。 バインダー2 塩化ビニル−酪酸ビニルービニルアルコール共重合体(
マレイン酸含有率:1% MW20.000)6重陽部(固型分換算)、アクリル
変性フェノキシ (MW35.000)6重量部(固型分換算)、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW
20.000)18重量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン; 70/30) 200重量部、高級脂
肪酸変性シリコーンオイル3重量部、および ミリスチン酸ブチル3重量部 を混合溶解させた。 このようにして得られた磁性塗料をポリエステルフィル
ム上にグラビアコートを行い永久磁石(2500G)の
Ia場内で乾燥させながら垂直配向させ、その後遠赤外
線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させ表面平滑化処
理をした。 その後バインダー2の硬化は実施例1と同様とした。
硬化後の塗V(磁性層)の厚さは1・51であった。 このようにして作製したものを試料13.14(表1)
とする、 これらの試料について実施例1と同様に特性
を調べた。 結果を表1に示す。 [実施例3] 実施例1で用いたポリエステル(P E T)フィルム
の表面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコー
ト層を設層した。 アンダーコート 重量部 CaCO350+spm 10カーボン
20111 (グラファイト化カーボン)30 711 化どニル−ビニルアルコール共m 合(4(ユ
ニオンカーバイド社製VAGH) 50ポリウレタン
エラストマー (BF、グツドリッチ ニステン5703)ステアリン
酸 2ステアリン酸ブチル
2混合溶剤(MIBK/ )ルエ
ン=1/1)300L記混合物をボールミル中5時間分
散させた後、さらにインシアネート化合物(日本ポリウ
レタン社製コロネートL)を20ffii部加え。 この混合物をL記のポリエステル(PET>フィルム上
に乾燥厚3pmになるように塗布し、表面モ滑化処理を
行い、その後、80℃で48時間熱硬化を行った。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 [実施例3] 磁性粉として、表1に示される平均粒径(i)、粒径分
布の標準偏差(σ)を有する磁性粉3を用い、バインダ
ーとして、下記のバインダー3を用いて、実施細工と同
様に磁性塗料を作成した。 バインダー3 塩化ビニル−酢酸ビニルービニルアルコール共重合体(
ユニオンカー八イド社製UCARMAG 528) 15重量部(固型分換算)、 ウレタン(日本ポリウレタン社製ニッポラン3022)
15重量部(固型分換算)、溶剤(MEK/シ
クロヘキサノンニ ア0/30) 200重量部。 1−11級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部。 および ミリスチン酎ブチル3重量部 を混合溶解させた。 ただし、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物(
[」本ポリウレタン社製コロネートL)を5rfCfA
部(固型分換算)を加えた。 このようにして得られた磁性塗料を75gmのポリエス
テルフィルムードにグラビアコートを行い、配向方法は
無配向とし、その後遠赤外線ランプまたは熱風により溶
剤を乾燥させ、表面モ滑化処理をした。 その後、80℃で48時間熱硬化を行った。 硬化後の塗膜(磁性層)の厚さは、2体1であった。 このようにして作製したも−のを試料15.16(表1
)とする、 これらの試料について実施例1と同様に特
性を調べた。 結果を表1に示す。 [実施例4] 磁性粉として1表1に示される平均粒径(叉)、粒径分
布の標準偏差(σ)を有する磁性粉4を用い、バインダ
ーとして、下記のバインダー4を用いて、実施例1と同
様に磁性塗料を作成した。 バインダー4 1iJ化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体(マレイン酸含有率=0.8%MW30.000)1
8重量部(固型分換算)アクリル二重結合導入ポリエー
テルウレタンエラストマー(MW50.000)12重
量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/)ルエン;50150)200重量部、 ステアリン醜を4玉量部、 および ステアリン酸ブチル2重埴部 を混合溶解させた。 このようにして得られた磁性塗料を、実施例1のアンダ
ーコート層を両面に有する7 5 JLmのポリエステ
ルフィルムの両面にグラビアコートを行い、永久磁石(
2500G)の磁場内で乾燥させながら昨直配向させ、
その後遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させ
5表面平滑化処理をした。 その後、ESI社製社製エレクトロンカーテンタイプ上
1ヒ子線加速装置用して加速電圧150KeV、電極型
R20m A、全照射量5M r a dの条件下でN
2雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。
硬化後の塗膜(磁性層)の厚さはIgmであった。 このようにして作製したものを試料17.18(表1)
とする、 これらの試料について実施例1と同様に特性
を調べた。 結果を表1に示す。 [実施例5] 磁性粉として、表1に示される平均粒径(k)、粒径分
布の標準偏差(σ)を有する磁性粉5を用いる他は、実
施例1と同様に1.て試料19.20を作成した。 な
お、塗膜(磁性層)厚は1.5島国であった。 測定結果を表1に示す。 現行のフロッピーのオーバーライド特性の規格は一26
dBであるが、上記のサンプルのオーバーライド特性を
測定してみたところオーバーライド−20dBのものま
でが、実用上使用に酎える事がわかり、実用可能なレベ
ルを一20dB以下とした。 表1の結果より、平均粒径(i)が0.15ル閣以下で
あり、かつ粒径分布の標準偏差(σ)が0.36x以下
である板状磁性粉を使用した場合(表1でσ/iが0.
36以下のもの)は、オーバーライド特性が良好であり
実用に酎えられる。 また、平均粒径(交)、粒径分布の標準偏差(σ)が、
本発明内にあっても媒体He土が900 0eとなると
オーバーライド特性が減少する。 これは、リング型ヘ
ッドのフェライトのBsが5000G程度なので、先の
記録を十分消去できないものと思われる。 なお、実施例1〜3の中で、バインダー組成を熱硬化性
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比べ熱硬化時の巻
きしまりによりカールが発生しやすいということが確認
された。 従 って、実用面ではへインダーMl成を放
射線硬化性樹脂とした方が好適である。
キシエチルメタクリレート(2 HEMA)アダクトの
製法 TDI348部をN2気流中11の4つロフラスコ内で
80℃に加熱後,2−エチレンメタクリレート260部
、オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05
部を反応缶内の温度が80〜85°Cとなるように冷却
コントロールしながら滴下終了後80℃で3時間撹拌し
、反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のTD
Iの2HEMAを得た.】 b)ブラチール樹脂アクリル変性体に合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−5100部をトルエン
191.2部、シクロヘキサノン71、/l)と共に5
1の4つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温
後TDIの2HEMAアダクト※を7.4部加え、さら
にオクチル酸スズO.OL51,ハイドロキノン0。 015ifを加え、80℃テN 2気流中NCo反応率
が90%以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて6釈する。 C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合1&(放
射線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−200)
、100部をトルエン11.6部、メチルエチルケトン
116部に加熱溶解し、806C昇温後、TDIの2H
EMAアダクト※を3655部加え、さらにオクチル酸
スズ0゜007部、ハイドロキノン0.007部を加え
、80°CでN2気流中NGO反応率が90部以りとな
るまで反応せしめる。 d)Oエポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) エポキシ樹脂(シェル化学製エピコート1007)40
0部をトルエン50部、メチルエチルケトン50部に加
熱溶解後、N、N−ジメチルベンジルアミン0.006
部、ハイドロキノン0.003部を添加し80’0とし
、アクリル酸69部を滴下し、80℃で酸価5以下とな
るまで反応せしめる。 ■フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) OH基を有するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC社製
分子量30000)600部、メチルエチルケトン1
8008tlを31の4つ目フラスコに仕込み、加熱溶
解し、80℃昇温後、トリレンジイソシアネートの2と
ドロキシエチルメタクリレートアダクトを6.0部加え
、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハイドロキノン
0.012部を加え、80℃でN2気流中、NGO反応
率が90%となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、35000.1分子
当りの二重結合は1個である。 e)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線硬化性エラストマー) 末端インシアネートのシフ、エニルメタンジイソシアネ
ートCMDI)系ウレタンプレポリマー(日本ポリウレ
タン製ニッポラン3119)250部、2HHMA32
.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0
.009部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TD
143.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるよ
うに冷却しながら滴下し、滴下終了後、80℃で反応率
95%以上となるまで反応せしめる。 f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体(放射線硬化性エラストマー)の合成 1部本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500,
250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.
07部、オクチル酸スズ0゜009部を反応缶にいれ、
80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶内の温
度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴
下終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反応せ
しめる。 g)ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線硬化性エラストマー)シンクレアペトロケミカ
ル社製低分子量末端水酩基ポリブタジェンポリBDリク
ィフトレジンR〜15250部、2HEMA32.5部
、ハイドロキノン0,07部、オクチル酸スズ0.00
9部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43
.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷
却しながら滴下し1滴下終了後、80℃で反応率95%
以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーで
あれば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反
応が起こるので、前記変性体の他に、こ −れらの樹
脂はそのまま使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、に述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。 この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンツイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセトフェノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド等のスルフィト類、等を挙げることができる。
光重合#S感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量
%の範囲が望ましい。 紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。 一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜30
0KVの放射線加速器を用い、吸収線量を0.5〜20
メガラ7ドになるように照射するのが好都合である。 特にjgj射線源としては、吸収線量の制御、製造[程
ラインへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射
線加熱器により電子線を使用する方法および前述した紫
外線を使用する方法が右利である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても・短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。 またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。 磁性粉/バインダーは1重量比で1/1〜9/1.特に
2/1〜8/1であることが好ましい。 このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度
が低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。 この他、公知の各種熱可塑性樹脂をバインダーとして用
いることもできる。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。
溶剤としては特に制限はないが、)〜イングーの溶解性
および相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コールm、l−ルエン、キシレン、エチルベンゼン等の
芳香族)父化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。 これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000w
t%、特に100〜5000wt%の一11合で用いる
。 磁性層には無機顔料が含まれていても≧い。 無機顔料としては、1)導電性のあるカーポンプラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブランク、ま
た2)無機充填剤として5i02.TiO2,A120
3、Cr2O3、S iC,CaO1CaCO3B酸化
亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe203.タルク、カオリン
、CaSO4,窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデ
ン、ZnS等がある。 またこの他、次のような微粒子
顔料(エアロジルタイプ、コロイダルタイプ):5i0
2、A交203 、TiO2、ZrO2、 Cr203 、Y203 、CeO2、Fe304 、
Fe203 、ZrSiO4、Sb205.5n02等
も用いられる。 これら微粒子顔料は、例えば5i0
2の場合、■無水硅醜の超微粒子コロイド溶液(スノー
テックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産化学)
、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒
子状無水シリカ(標準品100人)(アエロジル、日本
アエロジル株式会社)などが挙げられる。 また、前記
■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製
造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チ
タンおよび前述の微粒子顔料が使用され得る。 この様
な無機顔料の使用量は1)に関してはバインダー100
重量部に対して1〜30重量部、また2)に関しては1
〜30重量部が適当であり、これらがあまり−多くなる
と、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。 また、無機顔料の径については1)に関しては0.1g
m以下、さらには0.057z−以下が好ましく、2)
に関しては0 、7 gts以下、さらには0.05g
、m以下が好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤:高
級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基。 燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;
アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの
硫醜または燐酸エステル等の両性活性剤などが使用され
る。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フン素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としては、カプリル醜、カプリン醜。 ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
醜、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、す、ノール
酩、リルン酩、ステアロール酸等の炭素数12以−ヒの
脂肪酸(RCOOHlRは炭素数11以上のアルキル基
)であり、脂肪酸エステルとしては、炭素数12〜16
個の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の一価のアルコ
ールからなる脂肪酸エステル類、炭素数17個以上の一
塩基性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が2
1〜23個よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸
エステル等が使用され、また前記脂肪酸のアルカリ金属
またはアルカリ土類金属からなる金属石鹸、レシチン等
が使用される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。 アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等
によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。 これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径
の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が
可能である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、−メタクリル酸エステル、ビニル酢醜
エステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコー
ルエステル、メチルビニルアルコールエステル、アリル
アルコールエステル、グリセライド等があり、これらの
潤滑剤を構造式で表すと、 CH2=CH−CH2C00R1 CH2=CHC0NHCH2C0OR。 RCOOCH=CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等?、 コ、:’t’R
は直鎖または分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水Jr:
)、’;で、炭素数は7以上、好ましくは12以」、
23以下であり、これらはフン素置換体とすることもで
きる。 フッ素置換体としては、 CnF −1CnF (CH2)m−2n÷1
2n+1 (ただし、m=1〜5)、 CnF SO2NCH2CH2−12n+1 CnFnCH2CH2NHCH2CH2−10′2□−
1゜Xつ−02(ト)− 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート (アクリレート)、
グリセリンのメタクリレート(アクリレート)、クリコ
ールのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンの
メタクリレート(アクリレート)等が挙げられる。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20
重量部含ませるのがよい。 支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。 これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。 本発明のlia気記録媒体では支持体の両面に磁性層を
設けてもよい。 このような媒体としては、例えばフロ
ッピーディスク、ハードディスク等がある。 この場合、特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。 また必要に応じてアンダーコー1− 、/<ツクコート
およびトップコートを設けてもよい。 なお、パンクコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの’1人体1−. +こグラビアコート
、リバースロールコート、エアーナイフコート、エアー
ドクターコート、ブレードコート、キスコート、スプレ
ィコートなどの手法を用いて塗布し、必要に応じて水平
方向や垂直方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し
、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい、 そし
て必要に応じてバックコートおよびトップコートを設け
ればよい。 配向処理は、常法に従い、上述したような所定の垂直角
型比および保磁力を得るために種々の方υ、をとりうる
。 たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交am
場が代表的なものとして用いられ。 それらのものの各種組合せ、例えば垂直と水平のM1合
せ、水平配向、永久磁石または直流磁場と交流磁場の組
合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組合せ等、種々
のものが用いられる。 配向に用いる磁場強度としてはtooo〜6000Gが
好ましい。 未発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透(a率金属薄膜や各種塗膜のア
ンダーコート層を設けることもできる。 これらは併用
してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、前述したような8硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。 導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい、
カーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、
アセチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造
されたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネ
スブラック、チャンネルブラー2り、ローラーおよびデ
ィスクブラック及びドイツナフタリンブラックが好まし
い。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
N100N10O,特に好ましくはlO〜80mg+
sである。 更に粒子径について言えば、粒子径110
01pを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が悪く
なり、磁性層塗布後の1特低下の原因となる。 また1
0+*gi未満では分散がうまくいかず、やはりアンダ
ーコートの表面粗度が悪くなる。 カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。 このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗45工程等の製造工
程中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放
電ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さは10人〜5鉢曽程度とするこ
とが好ましい。 用いる磁気ヘッドとしては、通常、例えば、カード/ヘ
ノド形成用のみに消去ヘッドを持つようなリードライト
用のリング型ヘッドが用いられ、特に塗布型の磁気記録
媒体においては、従来までの安定性で実績のあるリング
型ヘッドが使用出来るため薄膜型の磁気記録媒体に比べ
有利である。 ■ 発明の具体的作用効果 本発明によれば、平均粒径(X)が0.15用量以下で
あり、かつ粒径分布の標準偏差(σ)が0.36x以下
である板状磁性粉を含有するため、オーバーライド特性
が良好となる。 従って、得られた媒体は線記録密度、分解能が大きくし
かも出力安定性が格段と高い。 このような磁気記録媒体は、各種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイル
、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カード等に用
いられる。 ■ 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 [実施例1] JFX サ75 g層のポリエステル(PET)フィル
ムの表面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコ
ート層を設層した。 アンダーニート4 gL量陥部カー
ボンブラック20mル履 50(A)アクリ
ル変性基ビー酢ビービニルアルコール共重合体 分子量
45.000 45(B)アクリル変性ポリウレタン
エラストマー分子量 5 、000
45(C)ペンタエリスリトールトリアクリレートス
テアリン酸 2ステア
リン酸ブチル 2混合溶剤(M
IBK/トルエン=1/1) 300上記混合物をボ
ールミル中5時間分散させ。 下記のポリエステル(PET)フィルム上に乾燥厚0.
7.厘になるように塗布し、表面平滑化処理を行い、エ
レクトロンカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速
電圧150KeV、TL極電流10mA、吸収線量5M
rad、N2ガス中で電子線をアンダーコート層に照射
した。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のす/プルを作製した。 すなわち、まず最初に、下記に示すような板状比、保磁
力をもち、下記表1に示すようなモ均粒径シおよびσを
もつ六方晶系バリウムフェライト(B a F e 1
2019のBa、Feを一部置換したものを水熱合成法
で合成)の磁性粉を用意した。 区 分 Co Ti Cu
Zr (Oe)2 7 2
− 2.3 7003 13
5 − 2.8 420582
− −.3 820−下記の磁性粉について表
1に示される平均粒径(マ)、粒径分布の標準偏差(σ
)を有する磁性粉lを用いて以下のようにして磁性塗料
を作成した。 バリウムフェライト 120重量部α−A文2
03 2重量部(0,5に厘粉状) カーボンブラック 10重量部(20m庚
1) 溶剤(MEK/)ルエン: 100重量部]二足組成
物をボールミル中にて3時間混合し、バリウムフェライ
トをよく湿潤させた。 次に、下記に示すバインダー1を磁性分混合物の入った
ボールミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。 バインダー1 塩化どニルー酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸含有率=1% MW40.000)8重量部(固型分換算)、アクリル
二重結合導入塩化ビニル−酢醜ビニル共重合体(マレイ
ン酸含有率=1% MW20,000)10重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40.000)9重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレ−63重積部、 溶剤(MEK/lルエン;50150)200屯量部 ステアリン酸を4重量部。 および ステアリン酸ブチル2重量部 を混合溶解させた。 このようにして得られた磁性塗料をアンターコートを設
けたポリエステルフィルム上にグラビアコートを行い、
配向方法は無配向処理とし、その後遠赤外線ランプまた
は熱風により溶 −剤を乾燥させ表面平滑化処理をし
た。 その後、ESI社製エレクトロンカーテンタイプ電子線
加速装置を使用して加速電圧150KeV、電極’it
t波20 m A、全照射縫5Mradの条件下でN2
雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。 硬
化後の塗膜(磁性層)の厚さは1.5.mであった。
なお、この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行った
。 これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。 このようにして作製したものを試料1〜12(表1)と
する、 これらの試料について特性を調べた。 特性は以下のように評価した。 (1)十−パーライト特性 磁気記録媒体サンプル上10KFRPIの矩形波をリン
グ型ヘッドにて書き込み、その上に20KFRPrを重
ね書きし、出力差を測定した。 出力万人の方がオーバ
ーライド特性が良い。 [実施例2] 実施例1で用いた両面にアンダーコート層を1没けたポ
リエステル(PET)フィルムを用い、アンターコート
層の両面上に、さらに下記に示されるような磁性塗料か
らなる磁性層を形成し1種々のサンプルを作製した。 すなわち、表1に示される平均粒径(叉)、粒径分10
の標準偏差(σ)を有する磁性粉2を用い、バインダー
として下記に示されるバインダー2を用いて実施例1と
同様に磁性塗料を作成した。 バインダー2 塩化ビニル−酪酸ビニルービニルアルコール共重合体(
マレイン酸含有率:1% MW20.000)6重陽部(固型分換算)、アクリル
変性フェノキシ (MW35.000)6重量部(固型分換算)、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW
20.000)18重量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン; 70/30) 200重量部、高級脂
肪酸変性シリコーンオイル3重量部、および ミリスチン酸ブチル3重量部 を混合溶解させた。 このようにして得られた磁性塗料をポリエステルフィル
ム上にグラビアコートを行い永久磁石(2500G)の
Ia場内で乾燥させながら垂直配向させ、その後遠赤外
線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させ表面平滑化処
理をした。 その後バインダー2の硬化は実施例1と同様とした。
硬化後の塗V(磁性層)の厚さは1・51であった。 このようにして作製したものを試料13.14(表1)
とする、 これらの試料について実施例1と同様に特性
を調べた。 結果を表1に示す。 [実施例3] 実施例1で用いたポリエステル(P E T)フィルム
の表面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコー
ト層を設層した。 アンダーコート 重量部 CaCO350+spm 10カーボン
20111 (グラファイト化カーボン)30 711 化どニル−ビニルアルコール共m 合(4(ユ
ニオンカーバイド社製VAGH) 50ポリウレタン
エラストマー (BF、グツドリッチ ニステン5703)ステアリン
酸 2ステアリン酸ブチル
2混合溶剤(MIBK/ )ルエ
ン=1/1)300L記混合物をボールミル中5時間分
散させた後、さらにインシアネート化合物(日本ポリウ
レタン社製コロネートL)を20ffii部加え。 この混合物をL記のポリエステル(PET>フィルム上
に乾燥厚3pmになるように塗布し、表面モ滑化処理を
行い、その後、80℃で48時間熱硬化を行った。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 [実施例3] 磁性粉として、表1に示される平均粒径(i)、粒径分
布の標準偏差(σ)を有する磁性粉3を用い、バインダ
ーとして、下記のバインダー3を用いて、実施細工と同
様に磁性塗料を作成した。 バインダー3 塩化ビニル−酢酸ビニルービニルアルコール共重合体(
ユニオンカー八イド社製UCARMAG 528) 15重量部(固型分換算)、 ウレタン(日本ポリウレタン社製ニッポラン3022)
15重量部(固型分換算)、溶剤(MEK/シ
クロヘキサノンニ ア0/30) 200重量部。 1−11級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部。 および ミリスチン酎ブチル3重量部 を混合溶解させた。 ただし、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物(
[」本ポリウレタン社製コロネートL)を5rfCfA
部(固型分換算)を加えた。 このようにして得られた磁性塗料を75gmのポリエス
テルフィルムードにグラビアコートを行い、配向方法は
無配向とし、その後遠赤外線ランプまたは熱風により溶
剤を乾燥させ、表面モ滑化処理をした。 その後、80℃で48時間熱硬化を行った。 硬化後の塗膜(磁性層)の厚さは、2体1であった。 このようにして作製したも−のを試料15.16(表1
)とする、 これらの試料について実施例1と同様に特
性を調べた。 結果を表1に示す。 [実施例4] 磁性粉として1表1に示される平均粒径(叉)、粒径分
布の標準偏差(σ)を有する磁性粉4を用い、バインダ
ーとして、下記のバインダー4を用いて、実施例1と同
様に磁性塗料を作成した。 バインダー4 1iJ化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体(マレイン酸含有率=0.8%MW30.000)1
8重量部(固型分換算)アクリル二重結合導入ポリエー
テルウレタンエラストマー(MW50.000)12重
量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/)ルエン;50150)200重量部、 ステアリン醜を4玉量部、 および ステアリン酸ブチル2重埴部 を混合溶解させた。 このようにして得られた磁性塗料を、実施例1のアンダ
ーコート層を両面に有する7 5 JLmのポリエステ
ルフィルムの両面にグラビアコートを行い、永久磁石(
2500G)の磁場内で乾燥させながら昨直配向させ、
その後遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させ
5表面平滑化処理をした。 その後、ESI社製社製エレクトロンカーテンタイプ上
1ヒ子線加速装置用して加速電圧150KeV、電極型
R20m A、全照射量5M r a dの条件下でN
2雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。
硬化後の塗膜(磁性層)の厚さはIgmであった。 このようにして作製したものを試料17.18(表1)
とする、 これらの試料について実施例1と同様に特性
を調べた。 結果を表1に示す。 [実施例5] 磁性粉として、表1に示される平均粒径(k)、粒径分
布の標準偏差(σ)を有する磁性粉5を用いる他は、実
施例1と同様に1.て試料19.20を作成した。 な
お、塗膜(磁性層)厚は1.5島国であった。 測定結果を表1に示す。 現行のフロッピーのオーバーライド特性の規格は一26
dBであるが、上記のサンプルのオーバーライド特性を
測定してみたところオーバーライド−20dBのものま
でが、実用上使用に酎える事がわかり、実用可能なレベ
ルを一20dB以下とした。 表1の結果より、平均粒径(i)が0.15ル閣以下で
あり、かつ粒径分布の標準偏差(σ)が0.36x以下
である板状磁性粉を使用した場合(表1でσ/iが0.
36以下のもの)は、オーバーライド特性が良好であり
実用に酎えられる。 また、平均粒径(交)、粒径分布の標準偏差(σ)が、
本発明内にあっても媒体He土が900 0eとなると
オーバーライド特性が減少する。 これは、リング型ヘ
ッドのフェライトのBsが5000G程度なので、先の
記録を十分消去できないものと思われる。 なお、実施例1〜3の中で、バインダー組成を熱硬化性
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比べ熱硬化時の巻
きしまりによりカールが発生しやすいということが確認
された。 従 って、実用面ではへインダーMl成を放
射線硬化性樹脂とした方が好適である。
Claims (3)
- (1)支持体上に板状磁性粉とバインダーとを含有する
磁性層を有する磁気記録媒体において、 板状磁性粉が平均粒径(@x@)0.15μm以下であ
り、かつ粒径分布の標準偏差(σ)0.36@x@以下
であることを特徴とする磁気記録媒体。 - (2)板状磁性粉が六方晶系板状磁性粉である特許請求
の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。 - (3)媒体がディスク媒体である特許請求の範囲第1項
または第2項に記載の磁気記録媒 体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200827A JPS6260123A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200827A JPS6260123A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6260123A true JPS6260123A (ja) | 1987-03-16 |
Family
ID=16430862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60200827A Pending JPS6260123A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6260123A (ja) |
-
1985
- 1985-09-11 JP JP60200827A patent/JPS6260123A/ja active Pending
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