JPH03153A

JPH03153A - 塗布装置

Info

Publication number: JPH03153A
Application number: JP13218089A
Authority: JP
Inventors: Shigehisa Kawabe; 茂寿川邉; Jo Nakajima; 丈中嶋; Yasushi Nakano; 寧中野; Seiichi Tobisawa; 誠一飛沢; Takemasa Namiki; 双木　武政
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1989-05-25
Filing date: 1989-05-25
Publication date: 1991-01-07
Anticipated expiration: 2013-05-20
Also published as: JP2754038B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、ウェブに先に塗布した塗布層上に押出し型塗
布ヘッドから塗布液を押出し塗布して複数層の塗布層を
得る場合における塗布装置に関する。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体を製造する際の磁性塗料の塗布、写真感光
材料の塗布、感熱記録材料の塗布などに際して、塗布ヘ
ッドの狭いスロットから塗布液を押出しながらウェブに
対して塗布する押出し塗布方法（エクストルージョンコ
ート法）を用いることが知られている。

この押出し塗布方法は、ロールコート法、グラビアコー
ト法、スライドコート法、あるいはドクターコート法を
付加した方法などに対して膜厚制御性に優れるなどの利
点がある。

近年、たとえば、磁気記録媒体においては、下塗層、中
間層を形成することや、これらの上に磁性層を形成する
こと、また磁性層を複数化することが行われている。

このような、複数の塗布層を積み重ねる場合、従来の一
般的方法は、−層目塗布を行いその塗料を乾燥させたの
ち、二層目を塗布しこれを乾燥させる、いわゆるウェッ
ト・オン・ドライ方式である。

しかし、このウェット・オン・ドライ方式では、ライン
長が長くなる、上層用の塗布液中の溶媒が下層を溶解さ
せることがある、良好な塗布性が得られないなどの理由
によって、近時は、−層目の塗布液が乾燥していない状
態で二層目の塗布液を塗布する、いわゆるウェット・オ
ン・ウェット方式がよいとされつつある。

また、重層塗布方法に関しては、いくつかの提案がある
が、特に上層を押出し塗布装置によって塗布するものに
ついては、たとえば特開昭６２−１２４８３１号、同８
３−１６４．０２３号公報記載の技術を挙げることがで
きる。

さらに、単層塗布において種々の提案があり、特開昭６
２−１１７６６６号、５７−８４７７１号、５８−１０
４６６６号、５８−１８９０７０号、５９−９４６５７
号および５８−２０２０７５号などがある。前記特開昭
６２−１１７６６６号では、フロントエツジ面の終端と
ウェブとの間に塗布液の液溜まりを保持することが好ま
しいことを開示している。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、これらの各提案においては、先に塗布し
た塗布層上に押出し塗布ヘッドから塗布する際に、その
塗布ヘッドの形状をを如何にすべきかについて、なんら
の開示がない。

たとえば、特開昭６２−１１７６６６号は、単層塗布に
おける条件とともにその塗布ヘッド形状を示しているが
、そのバックェツジ面は面一であるとともに、バックェ
ツジ面の終端における接線上にフロントエツジ面のエツ
ジが一致している。

一方、二層目を押出し塗布する場合における塗布ヘッド
は、−層目の塗布ヘッドと同一のものを用いるのが通常
である。また、−層目の塗布ヘッドとしては、支持体に
同伴するエアが塗布液に混入して泡故障を防止し、塗布
液が上流側に流出することを防止するために、塗布ヘッ
ドをウェブに対して強く押し込み、塗布ヘッドのフロン
トエツジ面にウェブが接触するようにしているが、この
態様を、そして公知形状の塗布ヘッドを二層目の塗布に
適用すると、−層目の塗膜を掻き落すことに伴うスジ故
障や、膜厚ムラなどの塗布性の悪化を招くとともに、こ
れを防止しようとすれば、塗布可能領域が狭く、条件設
定範囲の自由度が小さい。

さらに、前記特開昭６２−１１７６６６号公報では、ス
ロット近くにおいてウェブとの間で液溜まりを形成する
が好ましいとしているが、実際にその形状の塗布ヘッド
にて塗布することを試みても、ウェブの搬送に伴う張力
の微妙な変動や、速度変化、搬送ロールのブレなどによ
るウェブの振動、塗布液の供給量の僅かな変動により、
液溜まりを保持することは困難であり、ウェブとフロン
トエツジ面とが接触してしまう。

そこで、本発明の主たる目的は、ウェット・オン・ウェ
ット塗布方式において、スジ故障などの塗布故障がなく
、良好な塗布性を得ることができるとともに、塗布可能
領域の広く、塗布条件の設定の自由度が大きい塗布装置
を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題は、連続的に走行している可撓性ウェブに、先
に塗布した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール間
に配された押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗布
液が未乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しない
状態で、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する方法
において；前記当該塗布ヘッドのバックェツジ面のウェ
ブが離れる離間終端における接線よりフロントエツジ面
が後退していることで解決できる。

また、特にフロントエツジ面が先に塗布した塗布層に非
接触となる位置関係に配置されていることが好ましい。

〔作用〕

本発明によると、第２図のように、上層塗布用の塗布ヘ
ッド５Ｂのバックェツジ面５１ａのウェブ１が離れる離
間終端Ｙにおける接線！よりフロントエツジ面５０ａが
後退、つまりウェブ１からより離れる方向に位置してい
るので、第３図のように、塗布ヘッド５Ｂをそのフロン
トエツジ面５０ａが下層用塗布液１０に接触する寸前ま
でウェブに対して押し込むことができ、しかもその押し
込み範囲内においてフロントエツジ面５０ａが下層用塗
布液１０に接触させないで、塗布を行うことができるか
ら、下層塗布液を掻き落とすことがない。

さらに、下層用塗布液ｌＯは未乾燥であるため、上層用
塗布液２０の下層用塗布液１０に対する濡れ性が良好で
あるから、フロントエツジ面５０ａが下層用塗布液ｌＯ
に接触しなくとも、エアの巻き込みがなくなる。

このように、塗布性を悪化させる要因が殆どないため、
塗布可能領域が広く、塗布設定条件の自由度が大きい。

〔発明の具体的構成〕

以下本発明をさらに詳説する。

第１図は磁気記録媒体の製造設備の全体図で、下層およ
び上層とも押出し型塗布ヘッドにより塗布する例である
。

可撓性支持体（ウェブ）°１は、巻き出しロールＩＡか
ら巻き出され、第１サポートロール２、第２サポートロ
ール３および第３サポートロール４に案内され、磁気配
向手段５を通って、乾燥機７により乾燥されたのち、カ
レンダー８によりカレンダー処理され、巻取りロールＩ
Ｂに巻き取られる。

第１サポートロール２と第２サポートロール３との間に
おいて、上流側塗布ヘッド５Ａがウェブ１を押し込むよ
うに配設され、また第２サポートロール３と第３サポー
トロール４との間には下流側塗布ヘッド５Ｂが下層塗布
流のウェブに対して押し込むように配設されている。

各塗布ヘッド５Ａまたは５Ｂは、フロントエツジ部材５
０とバックェツジ部材５１とを備え、それらの間に液溜
め部５２に連通ずるスロット５３を有する。塗布液は、
ポンプにより液溜め部５２に圧送され、スロット５３か
ら背面が支持されていない状態のウェブ１に対して塗布
がなされる。

本発明においては、連続的に走行している背面非支持の
可撓性ウェブ１に、まず第１サポートロール２と第２サ
ポートロール３との間に配された上流側第１塗布ヘツド
５Ａから下層用塗布液ｌＯを塗布して下層の塗布を行い
、次いでその塗布液ＩＯが未乾燥状態において、第２サ
ポートロール３と第３サポートロール４との間に配され
た下流側第２塗布ヘツド５Ｂから上層用塗布液２０を塗
布して積層塗布する、いわゆるウェット・オン・ウェッ
ト塗布がなされる。

第２塗布ヘツド５Ｂの形状は、第２図のように、そのバ
ックェツジ面５１ａのウェブ１が離れる離間終端Ｙにお
ける接線ｌよりフロントエツジ面５０ａが後退している
。

また、このことは第２図のように、接線ｌと、離間終端
Ｙからフロントエツジ面５０ａに引いた接線りとのなす
角度θが、θ〉０度であることを意味する。角度θはよ
り好ましくは５度以上である。角度θの上限としては、
フロントエツジ面５０ａが塗布時において下層用塗布液
１０から離れ過ぎると、上層用塗布液２０を押出したと
き上流側に溜まったり、流れ出したりしてしまい、所望
の塗布膜厚で塗布ができにくくなるため、はぼ３０度で
ある。

さらに、第３図のように、フロントエツジ面５０ａは、
塗布状態において、下層用塗布液１０と非接触であるの
が好ましい。この条件であると、塗布液１０が掻き落と
されることがない。

第４図のような塗布ヘッド形状とする場合、本発明にい
う離間終端Ｙは図示の位置である。

上記例においては、下層塗布に当たり、塗布ヘッド５Ａ
による押出し塗布を行っているが、グラビアコート法な
どの他の塗布方法でもよい。下層および上層をともに押
出し塗布方法を採用するとき、上流側塗布ヘッド、５Ａ
と下流側塗布ヘッド５Ｂとは、その少な（ともエツジ面
が同一形状であってもよいが、前述のように、上流側塗
布ヘッド５Ａでは、エアの巻き込み防止の点でそのフロ
ントエツジ面がウェブに当接するようにすることが望ま
れる。

下層用塗布液と上層用塗布液とは同じのほか、異なって
いてもよい。たとえば、磁気記録媒体を得るにあたり、
下層が下引き層、上層が磁性層、あるいは下層が磁性層
、上層が保護層の場合である。両層が磁性層であるとき
、各磁性塗料の性状が異なっていてもよい。

〔実施例〕

次に本発明の実施例を示し、本発明の効果を明かにする
。

１４μｍ厚のポリエチレンテレフタレートからなる支持
体に、次記の各磁性塗料を、塗布速度２００ｍ／分で、
乾燥膜厚として、下層を３．５μｍ、上層を１．０μｍ
に塗布したときにおける、第２塗布ヘッド部における下
層液の掻き落とし状況、塗布後のスジ故障や塗布ムラを
調べたところ、第１表の結果が得られた。組成中、部と
は全て重量部である。

〈上層〉 ★Ｃｏ含有磁性酸化鉄（Ｈｃ＝９０００　ｅ　。

ＢＥＴ値４５イ／ｇ＞　　　　　　１５０部★ポリウレ
タン樹脂　　　　　　　　ｌＯ部★塩化ビニル−酢酸ビ
ニル樹脂　　　２０部★アルミナ粉末 ★ミリスチン酸 ★ステアリン酸ブチル ★ポリイソシアネート ★トルエン ★メチルエチルケトン ★カーボンブラックく下層〉７−Ｆｅ、Ｏ，粉末（Ｈｃ＝７０００　ｅ　。

ＢＥＴ値２５ｒｄ／ｇ） ★α−Ａ　ｌ　、＝　Ｏｓ ★カーボンブラック ★塩化ビニル共重合体 ★ポリウレタン樹脂 ★ブチルステアレート ★ミルスチン酸 ★ステアリン酸 ★メチルエチルケトン ★トルエン ★オレイン酸１０部２部１部１０部２００部２００部１０部１００部８部５部２０部７部１部０．６５部０．３５部１５０部１５０部０．６５部 ★ポリイソシアネートｌＯ部〔発明の効果〕以上のとおり、本発明によれば、ウェット・オン・ウェ
ット塗布方式において、スジ故障などの塗布故障がなく
、良好な塗布性を得ることができるとともに、塗布可能
領域の広く、塗布条件の設定の自由度が大きい塗布装置
を提供される。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気記録媒体の製造装置の全体図、第２図は下
流側塗布ヘッドの形状図、第３図は下流側塗布ヘッドに
よる塗布状況断面図、第４図は他の塗布ヘッド形状図で
ある。１・・・ウェブ　　２・・−第１サポートロール３・・
・第２サポートロール４・・・第３サポートロール５Ａ、５Ｂ・・・塗布ヘッド１０・・・下層用塗布液２０・・・上層用塗布液　ｌ・・・接線第図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）連続的に走行している可撓性ウェブに、先に塗布
した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール間に配さ
れた押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗布液が未
乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しない状態で
、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する方法におい
て；前記当該塗布ヘッドのバックエッジ面のウェブが離れる
離間終端における接線よりフロントエッジ面が後退して
いることを特徴とする塗布装置。
（２）フロントエッジ面が先に塗布した塗布層に非接触
となる位置関係にある請求項１記載の塗布装置。