JPS6270565A - 真空蒸着用蒸発源装置 - Google Patents
真空蒸着用蒸発源装置Info
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- JPS6270565A JPS6270565A JP20983685A JP20983685A JPS6270565A JP S6270565 A JPS6270565 A JP S6270565A JP 20983685 A JP20983685 A JP 20983685A JP 20983685 A JP20983685 A JP 20983685A JP S6270565 A JPS6270565 A JP S6270565A
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- Japan
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- evaporation
- substance
- vaporizing
- film
- vacuum
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- Pending
Links
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- 238000009834 vaporization Methods 0.000 title abstract 3
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、真空蒸着装置の蒸発源装置に関するもので、
特に長尺の被処理物に連続的に蒸着を施す際、能率良く
品質の良い製品を得るための装置に関わる。ここで、真
空蒸着は広義に真空蒸着はもちろん、イオンブレーティ
ング、スパッタリング等のドライブレーティングを意味
する。
特に長尺の被処理物に連続的に蒸着を施す際、能率良く
品質の良い製品を得るための装置に関わる。ここで、真
空蒸着は広義に真空蒸着はもちろん、イオンブレーティ
ング、スパッタリング等のドライブレーティングを意味
する。
〈従来技術とその問題点〉
真空蒸着を施した製品の品質は、製品の表面に蒸発した
物質が均一に蒸着されているかどうかが問題となる。つ
まり、製品表面に異物の付着がなく、蒸着膜厚みが一定
となることが必要である。
物質が均一に蒸着されているかどうかが問題となる。つ
まり、製品表面に異物の付着がなく、蒸着膜厚みが一定
となることが必要である。
一般に、蒸発源容器内の蒸発用物質の表面、特に容器の
壁周辺には、蒸発用物質の酸化物等の皮膜が生成しやす
く、この酸化物等の異物が製品に付着し品質を劣化させ
てしまう。
壁周辺には、蒸発用物質の酸化物等の皮膜が生成しやす
く、この酸化物等の異物が製品に付着し品質を劣化させ
てしまう。
また、蒸発用物質表面にこの酸化物等の皮膜があると真
空蒸着時一定の蒸発面積を保つことができないため、製
品の蒸発膜厚みも不均一になり、さらにはこの酸化物等
の皮膜のために異常沸騰が生じて製品に付着し、製品の
品質が劣化することがある。
空蒸着時一定の蒸発面積を保つことができないため、製
品の蒸発膜厚みも不均一になり、さらにはこの酸化物等
の皮膜のために異常沸騰が生じて製品に付着し、製品の
品質が劣化することがある。
これを避けるために、特開昭５８−２２４１６６号公報
によれば、蒸発源容器内に移動可能に掻取棒を設けて、
掻取棒によって蒸発物表面の異物を除去することにより
前記欠点を解決することが知られている。
によれば、蒸発源容器内に移動可能に掻取棒を設けて、
掻取棒によって蒸発物表面の異物を除去することにより
前記欠点を解決することが知られている。
また、特開昭５９−１１３１７８号公報によれば、蒸発
源容器に邪魔板を特性の位置に設けることにより解決し
ている。
源容器に邪魔板を特性の位置に設けることにより解決し
ている。
しかしながら、これら掻取棒および邪魔板を使用する方
法は、異物を除去するという作業が真空蒸着開始の前に
組み込まれることになり１．蒸着作業全体の能率を悪く
するという欠点が残されている。
法は、異物を除去するという作業が真空蒸着開始の前に
組み込まれることになり１．蒸着作業全体の能率を悪く
するという欠点が残されている。
〈発明の目的〉
本発明は、品質の良い製品を得るために能率良く真空蒸
着を行うための真空蒸着用蒸発源装置の提供を目的とす
るものである。
着を行うための真空蒸着用蒸発源装置の提供を目的とす
るものである。
〈発明の構成〉
容器周辺の蒸発用物質表面にできる酸化物皮膜は、蒸発
用物質が酸化して浮遊し生成するものである。
用物質が酸化して浮遊し生成するものである。
したがって蒸発用物質を常時供給すると同時に蒸発物質
表面の酸化物等の皮膜を破壊することができれば、一定
の蒸発面積を確保しながら異物を付着させることなく真
空蒸着することができることを知見し本発明に至った。
表面の酸化物等の皮膜を破壊することができれば、一定
の蒸発面積を確保しながら異物を付着させることなく真
空蒸着することができることを知見し本発明に至った。
すなわち、本発明は、真空蒸着用蒸発源装置において垂
直軸まわりに回転可能な蒸発源容器と、蒸発用物質を前
記蒸発源容器へ容器の壁周辺の蒸発面上方から供給する
ための供給ホッパーと、その供給ホッパーの周囲に回転
可能なように設置した蒸発用物質溶融表面攪拌装置とを
備えることを特徴とする真空蒸着用蒸発源装置を提供す
るものである。
直軸まわりに回転可能な蒸発源容器と、蒸発用物質を前
記蒸発源容器へ容器の壁周辺の蒸発面上方から供給する
ための供給ホッパーと、その供給ホッパーの周囲に回転
可能なように設置した蒸発用物質溶融表面攪拌装置とを
備えることを特徴とする真空蒸着用蒸発源装置を提供す
るものである。
次に本発明の□真空蒸着用蒸発源装置を図面を参照しつ
つ詳細に説明する。
つ詳細に説明する。
第１図に本発明の真空蒸着装置の概要図を示す。
真空Ｍ１１の内部に蒸発源容器２が電動機４に連結され
た容器の支柱３で支えられ、回転可能となっている。容
器２の外側には容器２を加熱するヒーター６が設けられ
である。容器２の中には溶融した蒸発用物質７か収容さ
れ、その上方に真空シールロール１０を通過して真空！
ｆＪｌ内に導入された被蒸着物（ここではストリップ）
５が移動する。真空槽１内には蒸発用物質ホッパー９が
設置され、その供給口８が容器２の壁付近に設けられて
いる。
た容器の支柱３で支えられ、回転可能となっている。容
器２の外側には容器２を加熱するヒーター６が設けられ
である。容器２の中には溶融した蒸発用物質７か収容さ
れ、その上方に真空シールロール１０を通過して真空！
ｆＪｌ内に導入された被蒸着物（ここではストリップ）
５が移動する。真空槽１内には蒸発用物質ホッパー９が
設置され、その供給口８が容器２の壁付近に設けられて
いる。
第２図および第３図にはそれぞれ第１図に○印で示す供
給口８を拡大した側面図および底面図を示す。
給口８を拡大した側面図および底面図を示す。
供給口先端１０が蒸発源容器２に向って配置され、その
周囲に内側が歯車になっている円盤１１がその内側の歯
車にかみあった別の歯車１３により回転可能になってい
る。また、円盤１１は車輪１５により支持されている。
周囲に内側が歯車になっている円盤１１がその内側の歯
車にかみあった別の歯車１３により回転可能になってい
る。また、円盤１１は車輪１５により支持されている。
歯車１３と車輪１５は供給口先端１０に連結された支柱
１４で支えられている。歯車１３のうち１つは減速歯車
列１６により電動機１７につながり、電動機１７の回転
が円盤１１の回転に変化する。円盤には撹拌棒１２を複
数本設けである。
１４で支えられている。歯車１３のうち１つは減速歯車
列１６により電動機１７につながり、電動機１７の回転
が円盤１１の回転に変化する。円盤には撹拌棒１２を複
数本設けである。
以上のような機構で、蒸発用物質溶融表面の皮膜が破壊
され、蒸発用物質７は攪拌されると同時にヒーター６に
より溶融状態となり真空蒸着時、蒸発用物質７の表面に
は酸化物等の皮膜がなく蒸発面積は常に一定に保たれる
。
され、蒸発用物質７は攪拌されると同時にヒーター６に
より溶融状態となり真空蒸着時、蒸発用物質７の表面に
は酸化物等の皮膜がなく蒸発面積は常に一定に保たれる
。
容器２から蒸発した物質は、被蒸着物５に達し蒸着され
る。これにより得られた製品は酸化物等の異物の付着も
なく、蒸着膜も一定であり、品質が良好である。また、
作業能率も向上する。
る。これにより得られた製品は酸化物等の異物の付着も
なく、蒸着膜も一定であり、品質が良好である。また、
作業能率も向上する。
なお、ここでは長尺物の連続ドライブレーティング（真
空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリグ等）の例
を示したが、バッチ方式の場合においても適用可能であ
る。また、蒸発物ホッパー９は真空度に影響がなけわば
真空槽１外に設けることが可能である。蒸発用物質７は
小さな塊状またはワイヤ状などで供給することが可能で
ある。
空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリグ等）の例
を示したが、バッチ方式の場合においても適用可能であ
る。また、蒸発物ホッパー９は真空度に影響がなけわば
真空槽１外に設けることが可能である。蒸発用物質７は
小さな塊状またはワイヤ状などで供給することが可能で
ある。
〈発明の効果〉
本発明によれば、蒸発源容器内の蒸発用物質に新たな材
料を供給しつつ、蒸発用物質を攪拌するよう構成してい
るため、蒸発用物質の表面に酸化物等の皮膜ができるこ
とがなく、能率よく品質の良い真空蒸着製品を得ること
ができる。
料を供給しつつ、蒸発用物質を攪拌するよう構成してい
るため、蒸発用物質の表面に酸化物等の皮膜ができるこ
とがなく、能率よく品質の良い真空蒸着製品を得ること
ができる。
第１図は本発明の真空蒸着用蒸発源装置の概要図である
。 第２図および第３図はそれぞれ本発明の真空７着用蒸発
源装置の側面図および底面図である。 符号の説明
。 第２図および第３図はそれぞれ本発明の真空７着用蒸発
源装置の側面図および底面図である。 符号の説明
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空蒸着用蒸発源装置において、 垂直軸まわりに回転可能な蒸発源容器と、 蒸発用物質を前記蒸発源容器へ容器の壁周辺の蒸発面上
方から供給するための供給ホッパーと、その供給ホッパ
ーの周囲に回転可能なように設置した蒸発用物質溶融表
面攪拌装置とを備えることを特徴とする真空蒸着用蒸発
源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20983685A JPS6270565A (ja) | 1985-09-21 | 1985-09-21 | 真空蒸着用蒸発源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20983685A JPS6270565A (ja) | 1985-09-21 | 1985-09-21 | 真空蒸着用蒸発源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6270565A true JPS6270565A (ja) | 1987-04-01 |
Family
ID=16579421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20983685A Pending JPS6270565A (ja) | 1985-09-21 | 1985-09-21 | 真空蒸着用蒸発源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6270565A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190098948A (ko) * | 2016-08-03 | 2019-08-23 | 시그마 리튬 리미티드 | 금속 리튬 코팅을 형성하는 방법 |
-
1985
- 1985-09-21 JP JP20983685A patent/JPS6270565A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190098948A (ko) * | 2016-08-03 | 2019-08-23 | 시그마 리튬 리미티드 | 금속 리튬 코팅을 형성하는 방법 |
| US11296310B2 (en) * | 2016-08-03 | 2022-04-05 | Sigma Lithium Limited | Method of forming a metallic lithium coating |
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