JPS627433Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS627433Y2 JPS627433Y2 JP4013481U JP4013481U JPS627433Y2 JP S627433 Y2 JPS627433 Y2 JP S627433Y2 JP 4013481 U JP4013481 U JP 4013481U JP 4013481 U JP4013481 U JP 4013481U JP S627433 Y2 JPS627433 Y2 JP S627433Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- air
- tube
- pipe
- purge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はエア・パージ・ガンの構造の改良に関
する。
する。
フオト・マスク製造工程や半導体装置のウエー
ハ・プロセス工程に於ては、マスク基板や半導体
基板上に附着した塵埃等の固形異物を除去する手
段としてエア・パージ・ガンによる吹き払い処理
がなされる。
ハ・プロセス工程に於ては、マスク基板や半導体
基板上に附着した塵埃等の固形異物を除去する手
段としてエア・パージ・ガンによる吹き払い処理
がなされる。
そして従来上記吹き払い処理は第1図に示すよ
うに、一様な内径を有する送気管1の、閉じられ
た一端部に所望の直径を有する小孔からなる噴気
孔2が形成された構造を有してなるエア・パー
ジ・ガンを用い、該エア・パージ・ガンの噴気孔
2から所望の流速を有する窒素(N2)或るいは乾
燥空気等を噴出せしめ、これら噴出気体3によ
り、マスク基板或るいは半導体基板上を一縁部か
ら全面にわたつて順次吹き払う方法によつて行わ
れていた。
うに、一様な内径を有する送気管1の、閉じられ
た一端部に所望の直径を有する小孔からなる噴気
孔2が形成された構造を有してなるエア・パー
ジ・ガンを用い、該エア・パージ・ガンの噴気孔
2から所望の流速を有する窒素(N2)或るいは乾
燥空気等を噴出せしめ、これら噴出気体3によ
り、マスク基板或るいは半導体基板上を一縁部か
ら全面にわたつて順次吹き払う方法によつて行わ
れていた。
しかし上記従来構造のエア・パージ・ガンを使
用した際には、噴出気体3中に矢印4に示すよう
な外気の巻き込みが生じ、外気中に浮遊する塵埃
等が噴出気体3と共に被処理基板上に吹き付けら
れ、被処理基板面を汚染して、フオト・マスクや
半導体装置の品質や製造歩留まりを低下せしめる
という問題があつた。
用した際には、噴出気体3中に矢印4に示すよう
な外気の巻き込みが生じ、外気中に浮遊する塵埃
等が噴出気体3と共に被処理基板上に吹き付けら
れ、被処理基板面を汚染して、フオト・マスクや
半導体装置の品質や製造歩留まりを低下せしめる
という問題があつた。
本考案は上記問題点に鑑み、噴出気体中に外気
が巻き込まれることを防止したエア・パージ・ガ
ン構造を提供する。
が巻き込まれることを防止したエア・パージ・ガ
ン構造を提供する。
即ち本考案はエア・パージ・ガンに於て、細い
内径を有する第1の管と、該第1の管にテーパ部
を介して接続された、テーパ部の基部近傍に複数
個の噴気孔を有する第2の管と、前記噴気孔より
もテーパ部から離れた領域に於てその基部が第2
の管に固着された前記第1の管を含み、且つ前記
第1の管の開口面近傍に開口部を持つ傘状の反射
板とを有してなることを特徴とする。
内径を有する第1の管と、該第1の管にテーパ部
を介して接続された、テーパ部の基部近傍に複数
個の噴気孔を有する第2の管と、前記噴気孔より
もテーパ部から離れた領域に於てその基部が第2
の管に固着された前記第1の管を含み、且つ前記
第1の管の開口面近傍に開口部を持つ傘状の反射
板とを有してなることを特徴とする。
以下本考案を第2図a及びbに示す一実施例の
断面図及び正面図、第3図に示す該一実施例の動
作説明図を用いて詳細に説明する。
断面図及び正面図、第3図に示す該一実施例の動
作説明図を用いて詳細に説明する。
本考案のエア・パージ・ガンは第2図に示すよ
うに、例えば2〜3〔mmφ〕程度を有し長さ20
〔mm〕程度のステンレス等の、電導性を有し(静
電気が蓄積されないため)、且つ表面が清浄に保
てる材料からなる第1の管、即ち噴気ノズル11
が、テーパ部12を介して例えば5〜10〔mmφ〕
程度の前記噴気ノズル11より大きな内径を有
し、且つ前記噴気ノズルと同様の材質からなる第
2の管、即ち送気管13と接続されてなつてい
る。そして該送気管13に於ける前記テーパ部1
2の基部近傍には、該送気管13の管周に沿つ
て、例えば1列状に開口径が0.5〔mmφ〕程度の
大きさの、複数個の噴気孔14が形成されてい
る。又該送気管13の外側には、前記噴気孔14
よりも噴気ノズル11から遠い位置に基部15が
固着された、例えばステンレス等の導電性を有
し、表面が清浄に保ち得る材質からなり、前記噴
気孔14を焦点とするようなパラボラ形の傘状に
形成され、且つ前記噴気ノズル11を含み、その
開口面S近傍に開口部16を有する反射板17を
有してなつている。なお該反射板17の開口部1
6は、前記噴気ノズル11の開口面Sよりも図に
示すようにやや突出している方が好ましい。
うに、例えば2〜3〔mmφ〕程度を有し長さ20
〔mm〕程度のステンレス等の、電導性を有し(静
電気が蓄積されないため)、且つ表面が清浄に保
てる材料からなる第1の管、即ち噴気ノズル11
が、テーパ部12を介して例えば5〜10〔mmφ〕
程度の前記噴気ノズル11より大きな内径を有
し、且つ前記噴気ノズルと同様の材質からなる第
2の管、即ち送気管13と接続されてなつてい
る。そして該送気管13に於ける前記テーパ部1
2の基部近傍には、該送気管13の管周に沿つ
て、例えば1列状に開口径が0.5〔mmφ〕程度の
大きさの、複数個の噴気孔14が形成されてい
る。又該送気管13の外側には、前記噴気孔14
よりも噴気ノズル11から遠い位置に基部15が
固着された、例えばステンレス等の導電性を有
し、表面が清浄に保ち得る材質からなり、前記噴
気孔14を焦点とするようなパラボラ形の傘状に
形成され、且つ前記噴気ノズル11を含み、その
開口面S近傍に開口部16を有する反射板17を
有してなつている。なお該反射板17の開口部1
6は、前記噴気ノズル11の開口面Sよりも図に
示すようにやや突出している方が好ましい。
第3図は上記一実施例の構造を有するエア・パ
ージ・ガンの動作状態を示すものである。即該エ
ア・パージ・ガン18に圧力調整弁19フイルタ
20等を経て例えば0.3〜0.5〔Kg/cm2〕程度の圧
力を有するN2ガスを供給すると、内径の小さい
噴気ノズル11内は高圧になり、該噴気ノズル1
1の先端からは多量のN2パージガスN2′が高速で
噴出される。又送気管13の噴気孔14からは、
該送気管13内が前記噴気ノズル11内より内径
が大きく圧力が低いために、前記噴気ノズル11
から噴出されるパージ・ガスN2′より低速のN2ガ
スが噴出する。そして該N2ガスは反射板17の
内面で反射され、前述のように噴気孔14が反射
板17の焦点附近に設けられているために、該
N2ガスは噴気ノズル11から噴出されるパー
ジ・ガスN2′の噴射軸とほぼ平行に流れ、パー
ジ・ガスN2′流の周囲にN2ガスのカーテンを形成
し外気を遮断する。従つてパージガスN2′中に巻
き込まれるのはカーテンを形成している塵埃を含
まないN2ガスのみとなりパージ・ガスN2′の清浄
度が保たれる。
ージ・ガンの動作状態を示すものである。即該エ
ア・パージ・ガン18に圧力調整弁19フイルタ
20等を経て例えば0.3〜0.5〔Kg/cm2〕程度の圧
力を有するN2ガスを供給すると、内径の小さい
噴気ノズル11内は高圧になり、該噴気ノズル1
1の先端からは多量のN2パージガスN2′が高速で
噴出される。又送気管13の噴気孔14からは、
該送気管13内が前記噴気ノズル11内より内径
が大きく圧力が低いために、前記噴気ノズル11
から噴出されるパージ・ガスN2′より低速のN2ガ
スが噴出する。そして該N2ガスは反射板17の
内面で反射され、前述のように噴気孔14が反射
板17の焦点附近に設けられているために、該
N2ガスは噴気ノズル11から噴出されるパー
ジ・ガスN2′の噴射軸とほぼ平行に流れ、パー
ジ・ガスN2′流の周囲にN2ガスのカーテンを形成
し外気を遮断する。従つてパージガスN2′中に巻
き込まれるのはカーテンを形成している塵埃を含
まないN2ガスのみとなりパージ・ガスN2′の清浄
度が保たれる。
なお上記実施例に於ては噴気孔を1例状に設け
たが、該噴気孔は複数列設ければ更に効果は大き
くなる。
たが、該噴気孔は複数列設ければ更に効果は大き
くなる。
又反射板はパラボラ形に限らず、パージ・ガス
に平行にこれを包むガス・カーテンが形成できる
形状であれば良い。
に平行にこれを包むガス・カーテンが形成できる
形状であれば良い。
以上説明したように、本考案のエア・パージ・
ガンを用いることにより、吹き払い処理に際して
外気の巻き込みが防止され、塵埃等を含まない清
浄なパージ・ガス流が得られるので、被処理基板
の汚染が防止でき、フイト・マスク、半導体装置
等の製造歩留まりや品質を向上せしめることがで
きる。
ガンを用いることにより、吹き払い処理に際して
外気の巻き込みが防止され、塵埃等を含まない清
浄なパージ・ガス流が得られるので、被処理基板
の汚染が防止でき、フイト・マスク、半導体装置
等の製造歩留まりや品質を向上せしめることがで
きる。
第1図は従来のエア・パージ・ガンの断面図、
第2図a及びbは本考案のエア・パージ・ガンに
於ける一実施例の断面図及び正面図で、第3図は
該一実施例に於ける動作説明図である。 図に於て、11は噴気ノズル、12はテーパ
部、13は送気管、14は噴気孔、15は反射板
基部、16は反射板開口部、17は反射板、18
はエア・パージ・ガン、19は圧力調整弁、20
はフイルタ、Sは噴気ノズルの開口面、N2は窒
素ガス、N2′はパージ・ガスを示す。
第2図a及びbは本考案のエア・パージ・ガンに
於ける一実施例の断面図及び正面図で、第3図は
該一実施例に於ける動作説明図である。 図に於て、11は噴気ノズル、12はテーパ
部、13は送気管、14は噴気孔、15は反射板
基部、16は反射板開口部、17は反射板、18
はエア・パージ・ガン、19は圧力調整弁、20
はフイルタ、Sは噴気ノズルの開口面、N2は窒
素ガス、N2′はパージ・ガスを示す。
Claims (1)
- 細い内径を有する第1の管と、該第1の管にテ
ーパ部を介して接続された、テーパ部の基部近傍
に複数個の噴気孔を有する第2の管と、前記噴気
孔よりもテーパ部から離れた領域に於てその基部
が第2の管に固着された、前記第1の管を含み、
且つ前記第1の管の開口面近傍に開口部を持つ傘
状の反射板とを有してなることを特徴とするエ
ア・パージ・ガン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4013481U JPS627433Y2 (ja) | 1981-03-20 | 1981-03-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4013481U JPS627433Y2 (ja) | 1981-03-20 | 1981-03-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57154144U JPS57154144U (ja) | 1982-09-28 |
| JPS627433Y2 true JPS627433Y2 (ja) | 1987-02-20 |
Family
ID=29837244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4013481U Expired JPS627433Y2 (ja) | 1981-03-20 | 1981-03-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS627433Y2 (ja) |
-
1981
- 1981-03-20 JP JP4013481U patent/JPS627433Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57154144U (ja) | 1982-09-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002158202A (ja) | ウエハ洗浄装置 | |
| US5392989A (en) | Nozzle assembly for dispensing liquid | |
| JPWO2015022732A1 (ja) | ノズル、洗浄装置及び洗浄方法 | |
| TW201906671A (zh) | 基板處理裝置 | |
| TW202126396A (zh) | 半導體晶圓的洗淨裝置及半導體晶圓的洗淨方法 | |
| JPH0487335A (ja) | 半導体ウエハ洗浄装置 | |
| JPH1070100A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPS61206221A (ja) | スピン塗布装置 | |
| JP2000109329A (ja) | 多孔質母材の製造方法 | |
| JP2658653B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄装置における排気の制御方法 | |
| JP3338544B2 (ja) | 乾燥方法及び乾燥装置 | |
| JP2563497B2 (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
| JPH0676276B2 (ja) | 化学気相成長装置 | |
| JP2001226756A (ja) | 溶射ヘッドの待機支持装置 | |
| JPS60215594A (ja) | 気相成長装置 | |
| JPS5978526A (ja) | 半導体気相反応装置 | |
| CN119170519A (zh) | 衬底处理装置 | |
| JPS618828A (ja) | シヤドウマスクのつまり除去装置 | |
| JPH01106420A (ja) | 化学的気相析出装置 | |
| TWM667819U (zh) | 晶圓乾燥系統 | |
| JPH07335555A (ja) | 化学的気相成長装置および保持具 | |
| JPH0725631A (ja) | ガラス薄膜の製造装置 | |
| JPH0212943A (ja) | セラミックス基板のスクライブ方法 | |
| JP3209670B2 (ja) | 陰極線管の製造工程におけるガスの供給方法 | |
| JP2000093909A (ja) | ガラス基板の塵埃除去方法および装置 |